Fターム[5F056CC00]の内容
電子ビーム露光 (6,230) | 描画方法−描画精度の向上目的 (552)
Fターム[5F056CC00]の下位に属するFターム
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位置合せ精度 (48)
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Fターム[5F056CC00]に分類される特許
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荷電ビーム描画装置およびアパーチャ調整方法
【課題】 アパーチャの回転角度の調整を簡便に行える荷電ビーム描画装置を実現すること。
【解決手段】 荷電ビーム露光装置は、荷電ビーム2を放射する荷電ビーム源1と、第1の回転調整用の開口部を含む第1成形アパーチャマスク5と、第2の回転調整用の開口部を含む第2成形アパーチャマスク10と、荷電ビーム源1から放射して、第1および第2の回転調整用の開口部を通過し、第2成型アパーチャ10と略平行な面内における荷電ビームの強度分布を検出する検出器14と、第1成形アパーチャマスク5を回転させ、第1・第2成形アパーチャマスク5,10間の相対的な回転角度を制御する制御回路31と、制御回路31により上記相対的な回転角度を複数回変え、各回転角度毎に検出器14により荷電ビーム1を検出することで得られた複数の検出結果に基づいて、上記相対的な回転角度のずれが所定の範囲内に収まる相対的な回転角度を取得し、かつ、上記相対的な回転角度が取得した回転角度となるように制御回路31に指示を与える回転角度取得・指示回路23を備えている。
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