【課題】ＴＭ４ＳＦ５による腫瘍の形成と発生及び転移を阻害する抗がん物質のスクリーニング方法の提供。および、前記方法によりスクリーニングされた抗がん物質、特に、スルホンアミド及びスルホネートカルコン系の化合物及びこれを有効成分として含有する抗がん用組成物の提供。
【解決手段】特定の配列のポリペプチドを発現する腫瘍タンパク質であるＴＭ４ＳＦ５（transmembrane 4 L6 family member 5）を発現するがん細胞を培養して抗がん候補物質にて処理した後、前記ＴＭ４ＳＦ５の発現と関連する種々の分子的な機序による諸現象に基づいて腫瘍生成及び転移に対する拮抗作用を示す物質を抗がん物質としてスクリーニングする方法、前記方法によりスクリーニングされたカルコン系の化合物及びこれを有効成分とする抗がん組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が良好なレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物及び酸発生剤の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）として、一般式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有するレジスト組成物。
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フッ素化ビス（アシル）含有化合物及びフッ素化（Ｉ）（式中、Ｒ^１、Ａｒ、Ｌ、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒｆ、ｎ、ｐ、及びｑは、特許請求の範囲に定義された通りである）、及びフッ素化ビス（アシル）含有化合物から形成されるフッ素化ポリエステルについて記載する。より具体的には、フッ素化ビス（アシル）は、２個のアシル基に結合している芳香環に加えて、ペルフルオロアルキルスルホンアミド基を含む少なくとも１個の第３の基を有する。前記フッ素化ビス（アシル）含有化合物から形成されるフッ素化ポリエステルを用いて、多くの他のポリエステルに比べて比較的屈折率の低い低エネルギー表面を提供することができる。式Ｒｆ^１−Ｌ^２−Ｈの化合物と式Ｗ−ＣＨ_２−Ａｒ^２−ＣＨ_２−Ｗの化合物とを反応させることによって、式Ｒｆ^１−Ｌ^２−ＣＨ_２−Ａｒ^２−ＣＨ_２−Ｗ（式中、Ａｒ^２、Ｒｆ^１、Ｌ^２、Ｒ^６及びＷは、特許請求の範囲に定義された通りである）の一置換アリーレン化合物を調製する方法。
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パラジウム触媒反応で、アリールのＣ−Ｈ結合がアリールのＣ−Ｆ結合で直接置換される、オルトフッ素化の新規な方法が提供される。前記方法は、トリフルアミド保護ベンジルアミンのオルトフッ素化と、Ｐｄ（ＯＴｆ）_２などのパラジウム触媒と、Ｎ−フルオロ−２，４，６−トリメチルピリジニウムトリフラートなどのフッ素化試薬と、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）などの反応を促進するための配位子とを含む。 （もっと読む）

【課題】環状化合物の生成を抑制でき、収率を上げることができ、併せて、低コストでスルホンアミド化合物を得ることができるスルホンアミド化合物の製造方法の提供。
【解決手段】スルホニルハライド基を有する有機化合物にアルカリ金属ヘキサメチルジシラザンを反応させる工程を備えるスルホンアミド化合物の製造方法。この場合、スルホニルハライド基を有する有機化合物の炭素数は１以上３以下が好ましく、反応温度は−１００℃以上０℃以下が好ましい。これにより、高収率でスルホンアミド化合物が得られる。 （もっと読む）

【課題】リチウムイオン２次電池等の蓄電素子用の電解質として有用な物質であるスルホンイミド塩の新規精製方法の提供。
【解決手段】本発明に係る精製方法は、式（１）:Ｒｆ^１ＳＯ_３Ｍ｛式中、Ｒｆ^１は炭素数１〜１２のフッ素化炭化水素基であり、そしてＭはアルカリ金属である。｝で表されるスルホン酸塩と式（２）：Ｒｆ^１ＳＯ_２Ｎ（Ｍ）ＳＯ_２Ｒｆ^２｛式中、Ｒｆ^２は式（２）中のＲｆ^１と同じである。｝で表されるスルホンイミド塩との混合物からスルホンイミド塩を精製する方法であって、（Ａ）少なくとも１種の疎水性有機溶媒とアルカリ金属又はアルカリ土類金属の炭酸塩とを添加剤として含む水溶液の二相溶媒中に該混合物を投入・攪拌して、該疎水性有機溶媒相中に該スルホンイミド塩を抽出するステップ、及び（Ｂ）該二相溶媒から該疎水性有機溶媒相のみを分取するステップ、を含む。 （もっと読む）

式１
（Ｒ_f−Ａ）_a−Ｑ−（［Ｂ］_k−Ｒ）_b 式１
［式中、
ａおよびｂは、それぞれ独立して１又は２であり；
Ｒ_fは、任意に少なくとも１個の酸素で中断されている、２〜約２０個の炭素原子を有する直鎖又は分岐鎖パーフルオロアルキル基であり；
Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₂₀直鎖、分岐鎖若しくは環式のアルキル、又はＣ₆〜Ｃ₁₀アリールであり；
Ｂは−（ＣＨ₂ＣＨＲ¹Ｏ）_x−であり、
ｋは０又は１であり、ｘは１〜約２０であり、
Ａは、−（ＣＨ₂）_m［（ＣＨＲ¹ＣＨ₂Ｏ）］_s−［（ＣＨ₂）_m（ＣＨ）_tＣＨＯＨ（ＣＨ₂）_m］_e−であり、
（式中、
各ｍは、独立して０〜３であり、ｓは０〜約３０であり、ｔは０又は１であり、ｅは０又は１であり、
Ｒ¹はＨ又はＣＨ₃である）
Ｑは、−ＯＰ（Ｏ）（Ｏ^-Ｍ⁺）（Ｏ）−、
−Ｏ−、
−Ｓ−（ＣＨ₂）_m−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−、
−ＳＯ₂−Ｏ−、
−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−Ｃ（Ｏ）ＣＨ₂Ｃ（ＯＨ）（Ｖ）ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_xＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_x−（ＣＨ₂）_m−Ｓｉ［ＯＳｉ（Ｒ²）₃］₂−、
−ＳＯ₂ＮＲ²−、
−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_zＣ（Ｏ）ＣＨ（ＳＯ₃^-Ｍ⁺）ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_z−（式中、ｚは１〜約１５である）、又は
ｓが正の整数であるとき、結合であり、
Ｖは−Ｃ（Ｏ）ＯＲ³であり、Ｒ³は、Ｈ、ＣＨ₃またはＲ_fであり；
Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₄アルキルであり、
Ｍ⁺は、１族金属であるか又はアンモニウム（ＮＨ_xＲ²_y）⁺カチオンであり（式中、ｘ＋ｙ＝４であり、Ｒ²はＣ₁〜Ｃ₄アルキルである）、
但し、Ｑが−ＯＰ（Ｏ）（Ｏ^-Ｍ⁺）（Ｏ）−であるとき又はＱが−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_z−Ｃ（Ｏ）ＣＨ（ＳＯ₃^-Ｍ⁺）ＣＨ₂Ｃ（Ｏ）（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）_z−であるとき、ｓ又はｅの少なくとも１つは正の整数である］
の界面活性剤。 （もっと読む）

【課題】酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、光酸発生剤としての機能を有するスルホニウム塩を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるスルホニウム塩とする。
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【課題】 酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好なパターンを得ることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】重合体ではない多価フェノールに下記式（１）で表される有機基が導入された感光性多価フェノール誘導体を有機溶媒に溶解させた溶液とする。
【化１】


（式（１）において、Ｒ¹は直鎖もしくは分岐の炭素数２〜９の２価の有機基であり、Ｒ²〜Ｒ⁵はそれぞれ独立に水素原子又は直鎖もしくは分岐の炭素数１〜３の有機基であり、Ｒ⁶及びＲ⁷はそれぞれ独立に有機基であり、Ｒ⁶とＲ⁷とは一緒になって２価の有機基を形成していてもよい。Ｘ^-は陰イオンを表す。） （もっと読む）

【課題】安価な触媒により比較的温和な条件下で反応が進行し、目的化合物を簡易な手段で大量に製造できる炭素−窒素結合形成方法を提供する。
【解決手段】プロトン型モンモリロナイト触媒の存在下、有機化合物を反応させて炭素−窒素結合を形成する。例えば、スルホンアミド類、酸アミド類、アミン類等の窒素原子含有化合物と、不飽和化合物又はアルコールとを反応させて炭素−窒素結合を形成させる。 （もっと読む）