国際特許分類[H01L21/304]の内容
電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (183,847) | 半導体装置またはその部品の製造または処理 (125,986) | 少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置 (97,574) | 不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置 (83,040) | 21/20〜21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理 (43,387) | 表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断 (21,268) | 機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断 (11,020)
国際特許分類[H01L21/304]に分類される特許
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ウェハ洗浄装置およびその方法
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基板処理装置及び方法
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洗浄装置
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両面研磨装置用キャリア及びこれを用いた両面研磨装置並びに両面研磨方法
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保持リング、保持リングに負荷をかけるフレキシブル膜及び保持リングアセンブリ
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キャリアヘッド用フレキシブル膜
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研磨材
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基板処理装置
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基板洗浄装置
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異物除去装置
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