説明

ジアリールジスルフィド化合物の製造方法

【課題】煩雑な操作を必要とすることなく、また、入手が容易な反応試剤を用いて高収率でジアリールジスルフィド化合物が製造できる方法を提供する。
【解決手段】有機酸の存在下、一般式Ar−SO2−L(式中、Arは置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基を示し、Lは脱離基を示す。)で示されるアリールスルホニル化合物、一般式M−Br(式中、Mは金属イオン、四級アンモニウムイオン、又はホスホニウムイオンを示す。)で示される臭素塩、ブロモニウムイオンの還元剤、及び硫酸を反応させることを特徴とする、一般式Ar−S−S−Ar(式中、Arは前記と同義である。)で示されるジアリールジスルフィド化合物の製造方法。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、アリールスルホニル化合物を出発原料として、臭素塩、ブロモニウムイオンの還元剤、及び硫酸を添加することによって、ジアリールジスルフィド化合物を合成する方法に関する。
【0002】
ジアリールジスルフィド化合物は、例えば、医薬、農薬、及び機能性材料の合成中間体、また、フッ素化剤の合成原料として有用である。
【背景技術】
【0003】
アリールスルホニル化合物からジアリールジスルフィド化合物を合成する方法としては、例えば、ヨウ化水素酸(HI水溶液)と酢酸との反応(非特許文献1、2)、亜硫酸ナトリウムと臭化水素(HBr)の酢酸溶液との反応(非特許文献3)、六塩化タングステンとヨウ化ナトリウム又は亜鉛との反応(非特許文献4)、ヨードトリメチルシランとの反応(非特許文献5)、あるいは臭化水素(HBr)の酢酸溶液とフェノールとの反応(非特許文献6)による方法が知られていた。しかしながら、何れの製法も、取り扱いが煩雑なこと、反応試剤の入手が難しいことなどの欠点を有するため、工業的製法としては課題があった。
【0004】
また、特許文献1では触媒量のヨウ素又はヨウ素塩と飽和亜硫酸水素ナトリウム水及び酢酸との反応による方法が知られていた。しかし、この特許文献1では、臭素塩についての記載は無く、ヨウ化カリウムでは反応は良好に進行したことが報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
【特許文献1】US2571740(1951)
【非特許文献】
【0006】
【非特許文献1】J.Chem.Soc.,1949,3434
【非特許文献2】J.Chem.Soc.,1956,3668
【非特許文献3】J.Chem.Soc.,1948,769
【非特許文献4】Synthesis,1999,500
【非特許文献5】J.Org.Chem.,47,4806(1982)
【非特許文献6】Journal of Fluorine Chemistry,112,287(2001)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明の課題は、即ち、上記問題点を解決し、煩雑な操作を必要とすることなく、また、入手が容易な反応試剤を用いて高収率でジアリールジスルフィド化合物を製造することができる方法を提供することにある。
【0008】
本発明者らは鋭意検討した結果、アリールスルホニル化合物を出発原料として、臭素塩、ブロモニウムイオンの還元剤、及び硫酸を添加することによって、ジアリールジスルフィド化合物が高収率で生成することを見出し、本発明を完成するに至った。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の課題は、有機酸の存在下、一般式(1)
【化1】


(式中、Arは置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基を示し、Lは脱離基を示す。)
で示されるアリールスルホニル化合物、一般式(2)
【化2】


(式中、Mは金属イオン、四級アンモニウムイオン、又はホスホニウムイオンを示す。)で示される臭素塩、ブロモニウムイオンの還元剤、及び硫酸を添加することを特徴とする、一般式(3)
【化3】


(式中、Arは前記と同義である。)
で示されるジアリールジスルフィド化合物の製造方法によって解決される。
【発明の効果】
【0010】
本発明によって、煩雑な操作を必要とすることなく、また、入手が容易な反応試剤を用いて高収率でジアリールジスルフィド化合物を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
本発明の反応において使用するアリールスルホニル化合物は、前記の一般式(1)で示される。一般式(1)において、Arは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基を示し、各種異性体を含む。アリール基又はヘテロアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などのアリール基、及びピリジニル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、フラニル基、ベンゾフラニル基、ピロリル基、インドリル基などのヘテロアリール基があげられる。好ましいArは、アリール基であり、例えばフェニル又はナフチル基、好ましくはフェニル基である。
【0012】
アリール基又はヘテロアリール基の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基;メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基等のアルコキシアルキル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基;シアノ基;ニトロ基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
好ましい置換基は、アルキル基又はハロゲン原子である。
【0013】
一般式(1)において、Lは脱離基を示す。脱離基としては、ハロゲン原子、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。好ましい脱離基は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であり、更に好ましくは塩素原子である。
【0014】
本発明において使用する臭素塩は、前記の一般式(2)で示される。その一般式(2)において、Mは、金属イオン、四級アンモニウムイオン、又はホスホニウムイオンを示す。
【0015】
金属イオンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム等のアルカリ金属イオン;マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属イオンが挙げられる。好ましい金属イオンは、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウムであり、更に好ましくは、カリウムイオンである。
【0016】
前記四級アンモニウムイオンを構成する置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;ピロリル基、フリル基、チエニル基等のヘテロアリール基;フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。四級アンモニウムイオンを構成する置換基は、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ベンジル基であり、更に好ましくは、エチル基、プロピル基、ブチル基、ベンジル基である。
【0017】
四級アンモニウムイオンとして具体的には、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、テトラアミルアンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、テトラヘプチルアンモニウム、テトラオクチルアンモニウム、テトラデシルアンモニウム、デシルトリメチルアンモニウム、ジデシルジメチルアンモニウム、トリメチルステアリルアンモニウム、ジメチルジオクタデシルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、ベンジルトリエチルアンモニウム、好ましくは、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウムを挙げることができる。
【0018】
前記ホスホニウムイオンを構成する置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基;シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;ピロリル基、フリル基、チエニル基等の複素環基;フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。ホスホニウムイオンを構成する置換基は、好ましくは、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基であり、更に好ましくは、フェニル基である。
【0019】
ホスホニウムイオンとして具体的には、テトラエチルホスホニウム、テトラプロピルホスホニウム、テトラブチルホスホニウム、テトラ−n−オクチルホスホニウム、トリブチル−n−オクチルホスホニウム、トリブチルドデシルホスホニウム、トリブチルヘキサデシルホスホニウム、メチルトリフェニルホスホニウム、エチルトリフェニルホスホニウム、プロピルトリフェニルホスホニウム、ブチルトリフェニルホスホニウム、アミルトリフェニルホスホニウム、ヘキシルトリフェニルホスホニウム、ヘプチルトリフェニルホスホニウム、ベンジルトリフェニルホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、好ましくは、テトラフェニルホスホニウムを挙げることができる。
【0020】
臭素塩として具体的には、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化セシウム、臭化マグネシウム、臭化カルシウム、好ましくは臭化カリウムを挙げることができる。
【0021】
前記臭素塩の使用量は、アリールスルホニル化合物1モルに対して、0.05〜15.0モル、好ましくは0.1〜10.0モルである。
【0022】
本発明の反応において使用するブロモニウムイオンの還元剤としては、例えばフェノール、クレゾール、グアイアコール、オイゲノール、チモール等のオルト位又はパラ位に少なくとも1つの水素原子を有するフェノール化合物、好ましくはフェノール;亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸水素カルシウム等の亜硫酸塩が挙げられる。ブロモニウムイオンの還元剤は、好ましくはフェノール又は亜硫酸ナトリウムである。
【0023】
前記ブロモニウムイオンの還元剤の使用量は、アリールスルホニル化合物1モルに対して、0.5〜10.0モル、好ましくは1.0〜5.0モルである。
【0024】
本発明の反応において使用する有機酸としては、任意の有機酸を用いることができるが、例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、シュウ酸、コハク酸、安息香酸等のカルボン酸類が挙げられるが、好ましくは酢酸、プロピオン酸、更に好ましくは酢酸が用いられる。これらの有機酸は、単独又は混合して使用しても良く、反応試剤の溶解性や撹拌性などにより、反応を阻害しない第二の溶媒を添加しても良い。
【0025】
前記有機酸の使用量は、アリールスルホニル化合物1gに対して、1.0〜100g、好ましくは2.0〜50gである。
【0026】
本発明の反応において使用する硫酸としては、濃硫酸、クロロ硫酸、発煙硫酸などを使用することが出来るが、好ましくは濃硫酸が用いられる。メタンスルホン酸、エタンスルホン酸のような有機スルホン酸も使用することも出来る。尚これらの酸は、単独又は混合して使用しても良い。
【0027】
前記硫酸の使用量は、アリールスルホニル化合物1モルに対して、0.5〜15.0モル、好ましくは1.0〜10.0モルである。
【0028】
本発明の反応は、例えば、有機酸、臭素塩、ブロモニウムイオンの還元剤、アリールスルホニル化合物及び硫酸を混合して、攪拌し、反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、例えば20〜200℃、好ましくは50〜150℃であり、反応時間は、例えば0.5−100時間、好ましくは1−30時間である。反応圧力は特に制限されず、好ましくは大気圧下で行うことができる。
【0029】
本発明の反応において得られるジアリールジスルフィド化合物は、前記の一般式(3)において示される。その一般式(3)において、Arはアリールスルホニル化合物のArと同義である。得られるジアリールジスルフィド化合物は、反応終了後、例えば、中和、抽出、濾過、濃縮、晶析、カラムクロマトグラフィ等の一般的な製法によって単離・精製される。
【0030】
以下に、本発明を実施例等により詳細に述べる。しかし、本実施例は本発明を限定するものではない。
【0031】
実施例等において使用する試薬は、市販されているか、又は技術常識に基づき当業者が調製できるものである。
【0032】
[参考例1]ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器、温度計を備えた4つ口フラスコに、2,6−ジフルオロベンゼンスルホニルクロリド100g(0.47mol)、フェノール45g(0.48mol)、30%HBr−酢酸200mL(1.04mol)を加え、60〜70℃で13時間加熱した。途中、反応の進行を確認しながら更に、30%HBr−酢酸135mL(0.70mol)を追加した。反応液にn−ヘプタン300mL、塩化メチレン100mL、水300mLを加え、分液した。水層をn−ヘプタン50mL、塩化メチレン50mLで抽出し、合わせた有機層を水、1N−NaOH水、水で洗浄した。この有機層を減圧濃縮し、濃縮物にヘプタン60mL、イソプロパノール10mLを加え、80℃に加熱して均一溶液とした後、室温まで冷却し、晶析した。析出した結晶をろ取し、50℃で減圧乾燥して、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドを微黄色結晶として36.7g(54%)得た。
取得したビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドの物性値は以下のとおりであり、この取得物を実施例1、実施例5、実施例8、及び実施例9の定量における標準品として用いた。
1H-NMR(CDCl3,500MHz)δ(ppm) 6.88-6.98(4H、m)、7.30-7.40(2H、m)。
19F-NMR(CDCl3,500MHz)δ(ppm) -102.7(4F、s)。
EI-MS;290(M+)
【0033】
[比較例1]ビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、フェノール0.54g(5.8mmol)、臭化カリウム2.8g(23mmol)、2,6−ジメチル−4−t−ブチルベンゼンスルホニルクロリド1.0g(3.8mmol)、酢酸8.0gを加えた。80℃で1時間加熱した後、105〜110℃で15時間加熱し反応した。反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別し、ろ液80.6gを得た。このろ液約3gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドが0.20g(収率27%)生成していた。
なお、標準品として用いたビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドは、US2008/0039660A1に記載の方法に準じて合成した。
標準品として用いたビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドの物性値は以下のとおりである。
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ(ppm) 1.28(18H、s)、2.21(12H、s)、7.02(4H、s)。
EI-MS;386(M+)
【0034】
[比較例2]p−トリルジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸10.5g、p−トシルクロリド2.0g(10.5mmol)、亜硫酸ナトリウム4.00g(31.7mmol)、臭化カリウム0.12g(1.05mmol)を加えた。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液に塩化メチレン及び水を加えて、分液した。水層は塩化メチレンで抽出した。合わせた有機層として123.7gを得た。この有機層約5gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、市販のジトリルジスルフィド(東京化成工業株式会社製)を標準品として用い、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ジトリルジスルフィドは0.001g(収率0.1%)しか生成しなかった。
【0035】
[比較例3]p−トリルジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸10.5g、p−トシルクロリド2.0g(10.5mmol)、亜硫酸ナトリウム4.00g(31.7mmol)、臭化カリウム3.12g(26.2mmol)を加えた。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液に塩化メチレン及び水を加えて、分液した。水層は塩化メチレンで抽出した。合わせた有機層として87.2gを得た。この有機層約4gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、市販のジトリルジスルフィド(東京化成工業株式会社製)を標準品として用い、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ジトリルジスルフィドは0.001g(収率0.1%)しか生成しなかった。
【0036】
[実施例1]ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、フェノール1.1g(12mmol)、臭化カリウム5.7g(48mmol)、2,6−ジフルオロベンゼンスルホニルクロリド1.7g(8.0mmol)、酢酸15gを加えた。室温で攪拌しながら濃硫酸1.28mL(24mmol)を滴下した。50℃で1時間加熱した後、70〜73℃で10時間加熱し反応させた。反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別し、ろ液87.1gを得た。このろ液約3gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドが0.83g(収率72%)生成していた。
【0037】
[実施例2]ビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、フェノール0.54g(5.8mmol)、臭化カリウム2.8g(23mmol)、2,6−ジメチル−4−t−ブチルベンゼンスルホニルクロリド1.0g(3.8mmol)、酢酸8.0gを加えた。室温で攪拌しながら濃硫酸0.61mL(12mmol)を滴下した。50℃で1時間加熱した後、70〜73℃で10時間加熱し反応させた。反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別し、ろ液72.9gを得た。このろ液約3gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドが0.47g(収率63%)生成していた。
【0038】
[実施例3]p−トリルジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、フェノール1.1g(12mmol)、臭化カリウム5.6g(47mmol)、p−トルエンスルホニルクロリド1.5g(7.9mmol)、酢酸15gを加えた。室温で攪拌しながら濃硫酸1.26mL(24mmol)を滴下した。50℃で2時間加熱した後、70℃で10時間加熱し反応させた。反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別し、ろ液114gを得た。このろ液約2gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、市販のp−トリルジスルフィド(東京化成工業株式会社製)を標準品として用い、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、p−トリルジスルフィドが0.78g(収率80%)生成していた。
残りのろ液を水、炭酸水素ナトリウム水、水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層をろ過した後、濃縮し、濃縮物をカラムクロマトグラフィ(溶媒:n−ヘキサン、シリカゲル:ダイソーゲル1002W)で精製し、p−トリルジスルフィドを白色の固体として0.69g(収率71%)取得した。
取得したp−トリルジスルフィドの物性値は以下のとおりであった。
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ(ppm) 2.32(6H、s)、7.06-7.16(4H、m)、7.34-7.44(4H、m)。
EI-MS;246(M+)
【0039】
[実施例4]p−トリルジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸5.2g、p−トルエンスルホニルクロリド1.0g(5.25mmol)、亜硫酸ナトリウム1.99g(15.8mmol)、臭化カリウム1.56g(13.1mmol)を加え、氷水浴中撹拌しながら濃硫酸1.46ml(26.3mmol)をゆっくり滴下した。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別してろ液73.1gを得た。このろ液約2gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、市販のジトリルジスルフィド(東京化成工業株式会社製)を標準品として用い、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ジトリルジスルフィドが0.57g(収率88%)生成していた。
【0040】
[実施例5]ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸5.2g、2,6−ジフルオロベンゼンスルホニルクロリド1.0g(4.70mmol)、亜硫酸ナトリウム1.78g(14.1mmol)、臭化カリウム1.12g(9.4mmol)を加え、氷水浴中撹拌しながら濃硫酸1.31ml(23.5mmol)をゆっくり滴下した。この反応液を50℃で30分間、更に、70℃で7時間加熱撹拌した。得られた反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別してろ液79.3gを得た。このろ液を濃縮し、濃縮物をカラムクロマトグラフィ(溶媒:n−ヘキサン、シリカゲル:ダイソーゲル1002W)で精製し、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドを白色の固体として0.66g(収率97%)取得した。
取得したビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドの物性値は以下のとおりであった。
1H-NMR(CDCl3,300MHz)δ(ppm) 6.88-6.98(4H、m)、7.30-7.42(2H、m)。
EI-MS;290(M+)
【0041】
[実施例6]p−トリルジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸10.5g、p−トルエンスルホニルクロリド2.0g(10.5mmol)、亜硫酸ナトリウム4.00g(31.7mmol)、臭化カリウム0.62g(5.25mmol)を加え、氷水浴中撹拌しながら濃硫酸2.95ml(52.5mmol)をゆっくり滴下した。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別してろ液91.2gを得た。このろ液約1gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、市販のジトリルジスルフィド(東京化成工業株式会社製)を標準品として用い、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ジトリルジスルフィドが1.06g(収率82%)生成していた。
【0042】
[実施例7]p−トリルジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸12.6g、p−トルエンスルホニルクロリド2.0g(10.5mmol)、亜硫酸ナトリウム4.00g(31.7mmol)、臭化カリウム0.31g(2.62mmol)を加え、氷水浴中撹拌しながら濃硫酸2.94ml(52.5mmol)をゆっくり滴下した。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別してろ液99.5gを得た。このろ液約2gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、市販のジトリルジスルフィド(東京化成工業株式会社製)を標準品として用い、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ジトリルジスルフィドが0.87g(収率67%)生成していた。
【0043】
[実施例8]ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸12.6g、2,6−ジフルオロベンゼンスルホニルクロリド2.0g(9.41mmol)、亜硫酸ナトリウム3.56g(28.2mmol)、臭化カリウム0.56g(4.7mmol)を加え、氷水浴中撹拌しながら濃硫酸2.64ml(47.0mmol)をゆっくり滴下した。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別してろ液109.4gを得た。このろ液約1.5gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドが1.17g(収率86%)生成していた。
【0044】
[実施例9]ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸12.6g、2,6−ジフルオロベンゼンスルホニルクロリド2.0g(9.41mmol)、亜硫酸ナトリウム3.56g(28.2mmol)、臭化カリウム0.28g(2.35mmol)を加え、氷水浴中撹拌しながら濃硫酸2.64ml(47.0mmol)をゆっくり滴下した。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別してろ液97.2gを得た。このろ液約2gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ビス(2,6−ジフルオロフェニル)ジスルフィドが1.00g(収率73%)生成していた。
【0045】
[実施例10]ビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドの合成
攪拌装置、還流冷却器を備えたガラス製容器に、酢酸6.3g、2,6−ジメチル−4−t−ブチルベンゼンスルホニルクロリド1.0g(3.83mmol)、亜硫酸ナトリウム1.45g(11.5mmol)、臭化カリウム0.23g(1.92mmol)を加え、氷水浴中撹拌しながら濃硫酸1.08ml(19.2mmol)をゆっくり滴下した。この反応液を70℃で3時間、更に、80℃で4時間加熱撹拌した。得られた反応液を塩化メチレンで希釈し、不溶物をろ別してろ液78.5gを得た。このろ液約2gを精秤し、アセトニトリルで希釈し、液体クロマトグラフィで絶対定量したところ、ビス(2,6−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)ジスルフィドが0.69g(収率93%)生成していた。
【産業上の利用可能性】
【0046】
本発明により、入手が容易であり、また、簡単に製造することができるアリールスルホニル化合物からジアリールジスルフィド化合物を煩雑な操作を必要とすることなく、高収率で製造することができる。ジアリールジスルフィド化合物は、例えば、医薬、農薬、及び機能性材料の合成中間体、また、フッ素化剤の合成原料として有用である。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
有機酸の存在下、一般式(1)
【化4】


(式中、Arは置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基を示し、Lは脱離基を示す。)
で示されるアリールスルホニル化合物、一般式(2)
【化5】


(式中、Mは金属イオン、四級アンモニウムイオン、又はホスホニウムイオンを示す。)
で示される臭素塩、ブロモニウムイオンの還元剤、及び硫酸を添加することを特徴とする、一般式(3)
【化6】


(式中、Arは前記と同義である。)
で示されるジアリールジスルフィド化合物の製造方法。
【請求項2】
一般式(1)において、Arが、置換基を有していても良いアリール基である、請求項1記載の製造方法。
【請求項3】
一般式(1)において、Arが、置換基を有していても良いフェニル基である、請求項1記載の製造方法。
【請求項4】
一般式(1)において、Lがハロゲン原子である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項5】
一般式(1)において、Lが塩素原子である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項6】
ブロモニウムイオンの還元剤が、フェノール化合物及び亜硫酸塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項7】
ブロモニウムイオンの還元剤が、フェノールまたは亜硫酸ナトリウムである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項8】
臭素塩が、臭化カリウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム及び臭化セシウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項9】
臭素塩が、臭化カリウムである、請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項10】
有機酸が、酢酸、プロピオン酸、酪酸、及び吉草酸、からなる群より選ばれる少なくとも1種の有機酸である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項11】
有機酸が、酢酸である、請求項1〜9のいずれか1項に記載の製造方法。
【請求項12】
硫酸を、アリールスルホニル化合物1モルに対して、0.5〜15.0モル添加する、請求項1〜11のいずれか1項に記載の製造方法。

【公開番号】特開2011−153094(P2011−153094A)
【公開日】平成23年8月11日(2011.8.11)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−15155(P2010−15155)
【出願日】平成22年1月27日(2010.1.27)
【出願人】(000000206)宇部興産株式会社 (2,022)
【Fターム(参考)】