光透過性導電材料
【課題】静電容量方式を用いたタッチパネルの透明電極として好適な視認性の低い光透過性導電材料を提供する。
【解決手段】基材２上に導電部１１と非導電部１２を隣接して有する光透過性導電材料１であって、該導電部１１と非導電部１２が網目状金属パターンからなり、該非導電部１２の網目状金属パターンは、該パターンの一部が断線した網目状金属パターンであって、かつ導電部１１と非導電部１２の開口率の差が１％以内であることを特徴とする光透過性導電材料１。
【解決手段】基材２上に導電部１１と非導電部１２を隣接して有する光透過性導電材料１であって、該導電部１１と非導電部１２が網目状金属パターンからなり、該非導電部１２の網目状金属パターンは、該パターンの一部が断線した網目状金属パターンであって、かつ導電部１１と非導電部１２の開口率の差が１％以内であることを特徴とする光透過性導電材料１。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル、有機ＥＬ材料、太陽電池などに用いられる光透過性導電材料に関し、特に投影型静電容量方式タッチパネルに好適に用いられる光透過性導電材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。
【０００３】
タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは、光透過性導電材料と透明導電体層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、光透過性導電材料に電流を流し光透過性導電層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、基材上に透明導電体層を有するものを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、例えば車載用途等において適用されている。
【０００４】
タッチパネル用途の透明電極（光透過性導電材料）としては、一般にＩＴＯからなる光透過性導電膜が基材上に形成されたものが使用されてきた。しかしながらＩＴＯ導電膜は屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、全光線透過率が低下する問題や、可撓性が低いため屈曲した際にＩＴＯ導電膜に亀裂が生じて電気抵抗値が高くなる問題があった。
【０００５】
ＩＴＯに代わる透明導電材料として、基板上に薄い触媒層を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層およびレジスト層で保護された下地金属を除去することにより、導電性パターンを形成するセミアディティブ方法が、例えば特開２００７−２８７９９４号公報、特開２００７−２８７９５３号公報などに開示されている。
【０００６】
また近年、銀塩拡散転写法を用いた銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法も提案されている。例えば特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報や特開２００７−１８８６５５号公報等では、基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する導電性材料前駆体に、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させて、金属銀パターンを形成させる技術が開示されている。この方式によるパターニングは均一な線幅を再現することができることに加え、銀は金属の中で最も導電性が高いため、他方式に比べ、より細い線幅で高い導電性を得ることができる。さらにこの方法で得られた銀パターン膜はＩＴＯ導電膜よりも可撓性が高く折り曲げに強いという利点がある。
【０００７】
投影型静電容量方式を用いたタッチパネルは、複数の電極が同一平面上にパターニングされた光透過性導電材料を２枚貼り合わせることでタッチセンサーを製造している。タッチパネルは通常作業者が画面を凝視し操作するため、導電部と非導電部との差が目に映ってしまう（視認性が高い）という問題があった。特に、光透過性導電材料として網目状金属パターンを用いる場合、金属パターン自体が目に映るという問題もあり、さらに網目状金属パターンからなる光透過性導電材料を用いて上記投影型静電容量方式のタッチパネルを作製した場合、導電部と非導電部が目に映ってしまう（視認性が高い）という問題がとりわけ顕著に現れる。
【０００８】
この問題に対し、特開２００６−３４４１６３号公報（特許文献１）ではスリットにより網目状金属細線パターンを区切ることで導電部を設けるが、その際にスリット幅を２０μｍ以上かつ網目の最大寸法以下にし、なおかつスリットが網目の交点を通らないようすることで、視認性を下げようとしている。しかしながら、スリット幅が２０μｍであっても輪郭は視認され、またスリットが交点を通らないようにしても、視認性を十分に下げることはできなかった。また特開２０１１−５９７７１号公報（特許文献２）では直線的な輪郭（スリット）の視認性を下げるため、輪郭を直線的に作らないよう工夫することが提案されているが、視認性についてはやはり不十分であった。さらに特開２０１１−５９７７２号公報（特許文献３）では同じ網目状金属パターンを２つ準備し、一方の網目状パターンから所望の形状を切り取り、同じ形状を他方の網目状パターンから切り取り、ただし、２つの切り取った網目状パターンは、両者をちょうど重ねた時に、パターン模様が重ならないようするなどの手順によって確定される網目状パターンが提案されている。しかしながら、この方法は非常に複雑な手順をとるために、パターンの設計に手間がかかる上に、輪郭部分で網目状構造が変わる点で違和感が残ることもあり、視認性の問題の解決とはならなかった。
【０００９】
一方、特開２０１０−１９８７９９号公報（特許文献４）においては、網目状金属メッシュの一部を断線し、抵抗膜式タッチパネルに好適な光透過性導電材料に用いる方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−３４４１６３号公報
【特許文献２】特開２０１１−５９７７１号公報
【特許文献３】特開２０１１−５９７７２号公報
【特許文献４】特開２０１０−１９８７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、静電容量方式を用いたタッチパネルの透明電極として好適な、視認性の低い光透過性導電材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
（１）基材上に導電部と非導電部を隣接して有する光透過性導電材料であって、該導電部と非導電部が網目状金属パターンからなり、該非導電部の網目状金属パターンは、該パターンの一部が断線した網目状金属パターンであって、かつ導電部と非導電部の開口率の差が１％以内であることを特徴とする光透過性導電材料。
（２）上記導電部の網目状金属パターンの線間隔が非導電部の網目状金属パターンの線間隔の８０〜１２０％であることを特徴とする（１）記載の光透過性導電材料。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、静電容量方式を用いたタッチパネルの透明電極として好適な、視認性の低い光透過性導電材料を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の光透過性導電材料の一例
【図２】単位図形が正方形である網目状パターンの一例
【図３】単位図形が正方形である網目状パターンの一例
【図４】単位図形が六角形でかつ単位図形が１０×１０並んだ網目状パターンの一例
【図５】実施例で使用した透過原稿
【図６】実施例で使用した透過原稿
【図７】実施例１１で使用した導電部の断線網目パターン
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の光透過性導電材料は基材上に網目状金属パターンを有している。網目状金属パターンとしては公知の形状を用いることができ、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などを組み合わせた模様でありこれらの単位の単独の繰り返しあるいは２種類以上の組み合わせパターンなどを用いることができる。また、辺が直線でなくとも例えばジグザグ線、波線などで構成されていても良い。さらに特開２００２−２２３０９５号公報で開示されているような、ストライプ状、煉瓦積み模様状のパターンも用いることができる。本発明ではこれらいずれの形状も用いることができるが、好ましくは正方形、正三角形、正六角形である。
【００１６】
本発明の光透過性導電材料の説明をするにあたり、図を用いて説明する。図１は本発明の光透過性導電材料の一例である。本発明の光透過性導電材料１は基材２の上に少なくとも前述の網目状金属パターンからなる導電部１１と、同じく網目状金属パターンからなる非導電部１２を隣接して有する。さらに導電部以外にもパターンのない非画像部１３やベタ部からなる配線部１４、１５なども有することもできる。非導電部１２は該網目状パターンに断線部が入ることで静電容量タッチパネルの電極全体として電気が流れなくなる。該網目状パターンは前述の通り、幾何模様の繰り返しから構成され（以下この幾何模様を単位図形と称す）、断線部は単位図形の角部（交点部）および、辺部いずれに入れても良いが、導電性材料を製造する際の開口率に対する影響が少ない角部（交点部）に断線部を設けることが好ましい。また断線部の長さはパターンの線幅の半分〜１０倍の長さであることが好ましい。
【００１７】
本発明の光透過性導電材料の導電部１１と非導電部１２の開口率の差は１％以内、好ましくは０．７８％以内である。より好ましくは０．５％以内である。本発明において開口率とは一つの連続した導電部、もしくは非導電部の面積に対する金属パターンのない部分の面積の割合をいう。例えば図１においては、７つの導電部１１と一つの非導電部１２から形成されており、開口率はそれぞれについて求めることとなる。このように導電部と非導電部が複数ある場合、導電部間の開口率の差が１％以内である導電部の面積の和が、全ての導電部の面積の和の８０％以上を占め、また非導電部間の開口率の差が１％以内である非導電部の面積の和が、全ての非導電部の面積の和の８０％以上を占めることが好ましく、全ての導電部の開口率が等しく、かつ全ての非導電部の開口率が等しいことがより好ましい。また、このように複数の導電部と非導電部がある場合であっても、本発明における導電部と非導電部の開口率は、隣接する導電部と非導電部どうしで比較するものとする。また、開口率の算出においては、網目状金属パターン中に恣意的に設けたロゴ部分などは除くものとする。
【００１８】
本発明においては非導電部１２を電極全体として電気の流れない非導電部分とするため、網目状金属パターンには断線部を設ける。導電部１１と非導電部１２で同じ形状単位図形を用い、非導電部１２の網目状金属パターンに断線部を設けると、開口率は非導電部１２の方が高くなる。導電部１１と非導電部１２との開口率の差を１％以内にするには、非導電部１２の断線部分の割合を減らして、断線部による開口部の面積率の上昇を抑える方法や、あるいは導電部１１と非導電部１２の単位図形を変え、導電部１１の方が開口率の高い単位図形を持つ網目状金属パターンを用い、非導電部の断線による開口率の上昇を補償する方法などを用いることで達成される。
【００１９】
本発明の光透過性導電材料には断線部の入った非導電部１２を有する。本発明では断線部の作製方法にも好ましい態様があり、このための単位図形に入れる断線部の程度の計算方法を説明する。図２は単位図形が正方形の網目状パターンの一例である。断線部の程度は単位図形１ヶあたり、断線部の長さに関係なく、断線部が入る個数を割合として出し、これを断線部の程度とする。第二に断線部が複数の単位図形にわたって入る場合、断線部の個数はその断線部を共有する単位図形の個数で割って計算する。図２ａは断線部のない、網目状パターンである。図２ｂの場合、断線部２２は単位図形（正方形）に２ヶ存在するが、この断線部はどちらも二つの単位図形に共有されているので１つあたり１／２個となり、断線部の程度としては（１／２）×２＝１００％となる。図２ｃの場合、断線部２２は四つの単位図形に共有されているので１つあたり１／４個となり、単位図形の角４カ所に存在するので（１／４）×４＝１００％となる。第三に断線部が全ての単位図形に均等に入らない場合、断線部を含めた単位図形が繰り返される最小単位での平均した断線の程度をその非導電部の断線の程度とする。例えば図２ｄのように５×５の単位図形となる正方形から網目状パターンは形成されてはいるが、断線部２２は単位図形全て同じではなく、図２ｄの太線で囲った正方形部分２３の繰り返しとなっている。この場合は単位図形４個あたり１／４個の断線部が４ヶと１個の断線部が１ヶあるので、（１／４×４＋１×１）÷４＝５０％となる。図３は同じく単位図形が正方形の網目状パターンの一例であり、断線パターンも含めると８×８の繰り返し構造３１を取っている（図に太線で示した部分３１）。この場合の断線の程度は（１／４×４＋１／２×１２＋１×１５）÷６４＝３４．３７５％となる。
【００２０】
本発明において非導電部とは隣接する単位図形１０×１０からなる網目状パターンにおいて、外縁部の任意の一点とその一点に相対する外縁部に位置するもう一点とを選んだ時、その点間に導通が取れない状態の網目状パターンのことをいう。例えば前述した図３においては二重線で囲った１０×１０の繰り返し構造３２において、例えば任意の点Ａを選び、それに相対する任意の点Ｂを選ぶと、Ａ−Ｂ間には必ず断線部があるので、この図形は非導電部となる。図４は単位図形が六角形でかつ単位図形が１０×１０並んだ網目状パターンの一例である。図４においては外縁部の任意の点としてＣと相対するＤを選ぶとここでは導通は取れないが、ＥとＦを選ぶと導通が取れるので、これは非導電部にはならない。
【００２１】
本発明において非導電部の断線の程度は２０％以上であることが好ましく、さらに好ましくは５０〜２００％、より好ましくは８０〜１２０％である。また、非導電部のシート抵抗はＪＩＳ Ｋ７１３４の四端子法（端子間隔５ｍｍ）で測定した際の値で１０ＫΩ／□以上であり、より好ましくは１ＭΩ／□以上であり、さらに好ましくは１ＧΩ／□以上であって、所謂絶縁体といわれる領域にあるものが好ましい。
【００２２】
本発明において線間隔は単位図形が正方形の場合、その正方形の１辺の長さとする。また単位図形が正方形でない場合は、その単位図形と同じ面積になる正方形を算出し、その１辺の長さをその単位図形での線間隔とする。本発明において非導電部の網目状パターンの線間隔は３００μｍ以下が好ましい。また非導電部の網目状パターンの線幅は２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。また開口率は８０％以上が好ましく、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上である。
【００２３】
本発明において導電部は前述の通り、網目状金属パターンからなる。導電部においても断線部は入っていても良いが、断線部は少なくとも１０％以下とするのが好ましく、全くないのがさらに好ましい。
【００２４】
本発明において導電部１１の網目状パターンの線間隔は３００μｍ以下が好ましい。また導電部１１の網目状パターンの線幅は２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。また、本発明において導電部と非導電部は同じ形状の単位図形から構成されていることが好ましい。また導電部の線間隔は非導電部の線間隔の８０〜１２０％であることが好ましく、さらに好ましくは９０〜１１０％である。導電部のシート抵抗はＪＩＳ Ｋ７１３４の四端子法（端子間隔５ｍｍ）で測定した際の値で５００Ω／□以下であり、より好ましくは２００Ω／□以下であり、さらに１００Ω／□以下が好ましい。
【００２５】
本発明において網目状パターンは金属、特に金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、およびこれらの複合材からなることが好ましい。これら網目状金属パターンを形成する方法としては、銀塩感光材料を用いる方法、同方法を用いさらに得られた銀画像に無電解めっきや電解めっきを施す方法、スクリーン印刷法を用いて銀ペーストなどの導電性インキを印刷する方法、銀インクなどの導電性インクをインクジェット法で印刷する方法、無電解めっき等で銅などの金属からなる導電性層を形成する方法、あるいは蒸着やスパッタなどで導電性層を形成し、その上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法、銅箔などの金属箔を貼り、さらにその上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法など、公知の方法を用いることができる。中でも製造される金属パターンの厚みが薄くでき、さらに極微細な金属パターンも容易に形成できる銀塩拡散転写法を用いることが好ましい。これらの手法で作製した網目状金属パターンの厚みは厚すぎると後工程が困難になる場合があり、また薄すぎるとタッチパネルとして必要な導電性を確保し難くなる。よって、その厚みは０．０５〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００２６】
投影型静電容量タッチパネルのように複数枚の光透過性導電材料を用いる場合、１枚の光透過性導電材料の中で、導電部と非導電部の開口率の差が１％以内であれば本発明の目的は達成できる。複数の光透過性導電材料の全ての導電部と非導電部の開口率の差が１％以内に収まっていることが好ましいが、別の光透過性導電材料に設けられた導電部と非導電部の開口率の差が１％以上あっても良い。
【００２７】
本発明の光透過性導電材料に用いる基材としては、プラスチック、ガラス、ゴム、セラミックス等が好ましく用いられる。これら基材は全光線透過率が６０％以上であるものが好ましい。プラスチックの中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で好適に用いられる。基材として使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ５０〜３００μｍの樹脂フィルムが挙げられる。基材には易接着層など公知の層が設けられていても良い。
【００２８】
本発明の光透過性導電材料は基材とその上に位置する網目状パターン以外にも、ハードコート層、反射防止層、粘着層、防眩層など公知の層を網目状パターンの上（基材から遠い側）、あるいは基材の網目状パターンとは反対の側に設けることができる。また、基材と網目状パターンとの間に、物理現像核層、易接着層、接着剤層など公知の層を設けることができる。
【実施例】
【００２９】
以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００３０】
＜実施例１＞
基材として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なおこの基材の全光線透過率は９１％であった。
【００３１】
次に下記処方に従い、物理現像核層塗液を作製し、基材上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。
【００３２】
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液 塩化パラジウム ５ｇ
塩酸 ４０ｍｌ
蒸留水 １０００ｍｌ
Ｂ液 硫化ソーダ ８．６ｇ
蒸留水 １０００ｍｌ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
【００３３】
＜物理現像核層塗液の調製＞各１ｍ２あたり
前記硫化パラジウムゾル ０．４ｍｇ
２質量％グリオキザール水溶液 ０．２ｍｌ
界面活性剤（Ｓ−１） ４ｍｇ
デナコールＥＸ−８３０ ５０ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％ＳＰ−２００水溶液 ０．５ｍｇ
（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン；平均分子量１０，０００）
【００３４】
続いて、基材に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核液層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料１を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。
【００３５】
＜中間層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ５ｍｇ
染料１
【００３６】
【化１】
【００３７】
【化２】
【００３８】
＜ハロゲン化銀乳剤層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤 ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ２０ｍｇ
【００３９】
＜保護層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ） １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） １０ｍｇ
【００４０】
このようにして得た銀塩感光材料１と、図５と図６のパターンを同一平面上に有する透過原稿を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、図５、図６のパターンは導電部１１、非導電部１２ともに線幅７μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部１１の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは１０μｍとした（交点部から全ての辺に対し５μｍの長さの断線部を有する）。
【００４１】
その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。こうして図５と図６の形状を持つ銀パターンを有する光透過性導電材料１を得た。なお、得られた光透過性導電材料の線幅、線間隔は透過原稿と全く同じ形状、線幅の画像になっていた。金属パターンの膜厚は共焦点顕微鏡で調べ、０．１μｍであった。
【００４２】
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム ２５ｇ
ハイドロキノン １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ２ｇ
亜硫酸カリウム ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン １５ｇ
臭化カリウム １．２ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する。
【００４３】
＜実施例２＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは１４μｍ（交点部から全ての辺に対し７μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料２を得た。
【００４４】
＜実施例３＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２０μｍ（交点部から全ての辺に対し１０μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料３を得た。
【００４５】
＜実施例４＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２７．５μｍ（交点部から全ての辺に対し１３．７５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料４を得た。
【００４６】
＜実施例５＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは４０μｍ（交点部から全ての辺に対し２０μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料５を得た。
【００４７】
＜実施例６＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは５０μｍ（交点部から全ての辺に対し２５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料６を得た。
【００４８】
＜比較例１＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは６０μｍ（交点部から全ての辺に対し３０μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして比較光透過性導電材料１を得た。
【００４９】
＜実施例７＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔２３０μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅１４μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２３μｍ（交点部から全ての辺に対し１１．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料７を得た。
【００５０】
＜実施例８＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔２４０μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部は線幅１３μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部１２は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２１μｍ（交点部から全ての辺に対し１０．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料８を得た。
【００５１】
＜実施例９＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔２７０μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅１２μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２４μｍ（交点部から全ての辺に対し１２μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料９を得た。
【００５２】
＜実施例１０＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部は線幅１０μｍ、線間隔２７３μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部１２は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２５μｍ（交点部から全ての辺に対し１２．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１０を得た。
【００５３】
＜実施例１１＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅９μｍ、線間隔２５０μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは１９μｍ（交点部から全ての辺に対し９．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１１を得た。
【００５４】
＜実施例１２＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅９μｍ、線間隔２４０μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは３３μｍ（交点部から全ての辺に対し１６．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１２を得た。
【００５５】
＜比較例２＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２に相当する部分ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部ならびに非導電部に相当する部分、共に断線の程度は０％とし、導電部の輪郭部分に幅３０μｍのスリット（スリット部分にはメッシュは存在しない）を入れた透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして比較光透過性導電材料２を得た。
【００５６】
＜比較例３＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２に相当する部分ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２０μｍ（交点部から全ての辺に対し１０μｍの長さの断線部を有する）とし、さらに導電部の輪郭部分に幅３０μｍのスリット（スリット部分にはメッシュは存在しない）を入れた透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして比較光透過性導電材料３を得た。
【００５７】
＜実施例１３＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形であり、かつ図７のように５×５の正方形が並んで、その中で２カ所１４μｍの断線の入った断線の程度は９２％の格子メッシュからなり、一方非導電部１２は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｄで示すような断線部とした断線の程度５０％とし、断線長さは１４μｍ（交点部から全ての辺に対し７μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１３を得た。
【００５８】
実施例１〜１３、比較例１、２で作製した光透過性導電材料の導電部のシート抵抗を測定した。結果を表１に記載する。また、導電部と非導電部の開口率の計算は、例えば実施例１で作製した光透過性導電材料においては、導電部は線間隔３００μｍ、面積９００００μｍ２の単位図形中に４１５１μｍ２の網目状パターンが存在するので、（９００００−４１５１）÷９００００＝９５．３９％となる。これらの計算結果も表１に記載する。また非導電部は断線部があるので、網目状パターン面積は４０６０μｍ２となり、開口率は同様の計算をして９５．４９％となる。次に、実施例１〜１３、比較例１、２で作製した光透過性導電材料の図５と図６のパターンを切り出し、それぞれを重ね、視認性を確認した。導電部と非導電部の差がはっきり判るものを１、少し見れば判るものを２、良く見れば判るものを３、注視しないと判らないものを４、全く判らないものを５とした。結果を表１に示す。
【００５９】
【表１】
【００６０】
表１の結果から、静電容量方式を用いたタッチパネルの透明電極として好適な、視認性の低い光透過性導電材料が得られることが判る。
【００６１】
＜実施例１４＞
実施例１で作製した図５のパターンと実施例２で使用した図６のパターンを重ね、その視認性を評価したところ、５の評価であった。
【符号の説明】
【００６２】
１ 光透過性導電材料
２ 基材
１１ 導電部
１２ 非導電部
１３ 非画像部
１４、１５ 配線部
２１ 金属パターン
２２ 断線部
２３ 正方形部
３１ ８×８の繰り返し構造
３２ １０×１０の繰り返し構造
Ａ〜Ｆ 任意の点
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル、有機ＥＬ材料、太陽電池などに用いられる光透過性導電材料に関し、特に投影型静電容量方式タッチパネルに好適に用いられる光透過性導電材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。
【０００３】
タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは、光透過性導電材料と透明導電体層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、光透過性導電材料に電流を流し光透過性導電層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、基材上に透明導電体層を有するものを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、例えば車載用途等において適用されている。
【０００４】
タッチパネル用途の透明電極（光透過性導電材料）としては、一般にＩＴＯからなる光透過性導電膜が基材上に形成されたものが使用されてきた。しかしながらＩＴＯ導電膜は屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、全光線透過率が低下する問題や、可撓性が低いため屈曲した際にＩＴＯ導電膜に亀裂が生じて電気抵抗値が高くなる問題があった。
【０００５】
ＩＴＯに代わる透明導電材料として、基板上に薄い触媒層を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層およびレジスト層で保護された下地金属を除去することにより、導電性パターンを形成するセミアディティブ方法が、例えば特開２００７−２８７９９４号公報、特開２００７−２８７９５３号公報などに開示されている。
【０００６】
また近年、銀塩拡散転写法を用いた銀塩写真感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法も提案されている。例えば特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報や特開２００７−１８８６５５号公報等では、基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する導電性材料前駆体に、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させて、金属銀パターンを形成させる技術が開示されている。この方式によるパターニングは均一な線幅を再現することができることに加え、銀は金属の中で最も導電性が高いため、他方式に比べ、より細い線幅で高い導電性を得ることができる。さらにこの方法で得られた銀パターン膜はＩＴＯ導電膜よりも可撓性が高く折り曲げに強いという利点がある。
【０００７】
投影型静電容量方式を用いたタッチパネルは、複数の電極が同一平面上にパターニングされた光透過性導電材料を２枚貼り合わせることでタッチセンサーを製造している。タッチパネルは通常作業者が画面を凝視し操作するため、導電部と非導電部との差が目に映ってしまう（視認性が高い）という問題があった。特に、光透過性導電材料として網目状金属パターンを用いる場合、金属パターン自体が目に映るという問題もあり、さらに網目状金属パターンからなる光透過性導電材料を用いて上記投影型静電容量方式のタッチパネルを作製した場合、導電部と非導電部が目に映ってしまう（視認性が高い）という問題がとりわけ顕著に現れる。
【０００８】
この問題に対し、特開２００６−３４４１６３号公報（特許文献１）ではスリットにより網目状金属細線パターンを区切ることで導電部を設けるが、その際にスリット幅を２０μｍ以上かつ網目の最大寸法以下にし、なおかつスリットが網目の交点を通らないようすることで、視認性を下げようとしている。しかしながら、スリット幅が２０μｍであっても輪郭は視認され、またスリットが交点を通らないようにしても、視認性を十分に下げることはできなかった。また特開２０１１−５９７７１号公報（特許文献２）では直線的な輪郭（スリット）の視認性を下げるため、輪郭を直線的に作らないよう工夫することが提案されているが、視認性についてはやはり不十分であった。さらに特開２０１１−５９７７２号公報（特許文献３）では同じ網目状金属パターンを２つ準備し、一方の網目状パターンから所望の形状を切り取り、同じ形状を他方の網目状パターンから切り取り、ただし、２つの切り取った網目状パターンは、両者をちょうど重ねた時に、パターン模様が重ならないようするなどの手順によって確定される網目状パターンが提案されている。しかしながら、この方法は非常に複雑な手順をとるために、パターンの設計に手間がかかる上に、輪郭部分で網目状構造が変わる点で違和感が残ることもあり、視認性の問題の解決とはならなかった。
【０００９】
一方、特開２０１０−１９８７９９号公報（特許文献４）においては、網目状金属メッシュの一部を断線し、抵抗膜式タッチパネルに好適な光透過性導電材料に用いる方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−３４４１６３号公報
【特許文献２】特開２０１１−５９７７１号公報
【特許文献３】特開２０１１−５９７７２号公報
【特許文献４】特開２０１０−１９８７９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、静電容量方式を用いたタッチパネルの透明電極として好適な、視認性の低い光透過性導電材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
（１）基材上に導電部と非導電部を隣接して有する光透過性導電材料であって、該導電部と非導電部が網目状金属パターンからなり、該非導電部の網目状金属パターンは、該パターンの一部が断線した網目状金属パターンであって、かつ導電部と非導電部の開口率の差が１％以内であることを特徴とする光透過性導電材料。
（２）上記導電部の網目状金属パターンの線間隔が非導電部の網目状金属パターンの線間隔の８０〜１２０％であることを特徴とする（１）記載の光透過性導電材料。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、静電容量方式を用いたタッチパネルの透明電極として好適な、視認性の低い光透過性導電材料を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の光透過性導電材料の一例
【図２】単位図形が正方形である網目状パターンの一例
【図３】単位図形が正方形である網目状パターンの一例
【図４】単位図形が六角形でかつ単位図形が１０×１０並んだ網目状パターンの一例
【図５】実施例で使用した透過原稿
【図６】実施例で使用した透過原稿
【図７】実施例１１で使用した導電部の断線網目パターン
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の光透過性導電材料は基材上に網目状金属パターンを有している。網目状金属パターンとしては公知の形状を用いることができ、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形、円、楕円、星形などを組み合わせた模様でありこれらの単位の単独の繰り返しあるいは２種類以上の組み合わせパターンなどを用いることができる。また、辺が直線でなくとも例えばジグザグ線、波線などで構成されていても良い。さらに特開２００２−２２３０９５号公報で開示されているような、ストライプ状、煉瓦積み模様状のパターンも用いることができる。本発明ではこれらいずれの形状も用いることができるが、好ましくは正方形、正三角形、正六角形である。
【００１６】
本発明の光透過性導電材料の説明をするにあたり、図を用いて説明する。図１は本発明の光透過性導電材料の一例である。本発明の光透過性導電材料１は基材２の上に少なくとも前述の網目状金属パターンからなる導電部１１と、同じく網目状金属パターンからなる非導電部１２を隣接して有する。さらに導電部以外にもパターンのない非画像部１３やベタ部からなる配線部１４、１５なども有することもできる。非導電部１２は該網目状パターンに断線部が入ることで静電容量タッチパネルの電極全体として電気が流れなくなる。該網目状パターンは前述の通り、幾何模様の繰り返しから構成され（以下この幾何模様を単位図形と称す）、断線部は単位図形の角部（交点部）および、辺部いずれに入れても良いが、導電性材料を製造する際の開口率に対する影響が少ない角部（交点部）に断線部を設けることが好ましい。また断線部の長さはパターンの線幅の半分〜１０倍の長さであることが好ましい。
【００１７】
本発明の光透過性導電材料の導電部１１と非導電部１２の開口率の差は１％以内、好ましくは０．７８％以内である。より好ましくは０．５％以内である。本発明において開口率とは一つの連続した導電部、もしくは非導電部の面積に対する金属パターンのない部分の面積の割合をいう。例えば図１においては、７つの導電部１１と一つの非導電部１２から形成されており、開口率はそれぞれについて求めることとなる。このように導電部と非導電部が複数ある場合、導電部間の開口率の差が１％以内である導電部の面積の和が、全ての導電部の面積の和の８０％以上を占め、また非導電部間の開口率の差が１％以内である非導電部の面積の和が、全ての非導電部の面積の和の８０％以上を占めることが好ましく、全ての導電部の開口率が等しく、かつ全ての非導電部の開口率が等しいことがより好ましい。また、このように複数の導電部と非導電部がある場合であっても、本発明における導電部と非導電部の開口率は、隣接する導電部と非導電部どうしで比較するものとする。また、開口率の算出においては、網目状金属パターン中に恣意的に設けたロゴ部分などは除くものとする。
【００１８】
本発明においては非導電部１２を電極全体として電気の流れない非導電部分とするため、網目状金属パターンには断線部を設ける。導電部１１と非導電部１２で同じ形状単位図形を用い、非導電部１２の網目状金属パターンに断線部を設けると、開口率は非導電部１２の方が高くなる。導電部１１と非導電部１２との開口率の差を１％以内にするには、非導電部１２の断線部分の割合を減らして、断線部による開口部の面積率の上昇を抑える方法や、あるいは導電部１１と非導電部１２の単位図形を変え、導電部１１の方が開口率の高い単位図形を持つ網目状金属パターンを用い、非導電部の断線による開口率の上昇を補償する方法などを用いることで達成される。
【００１９】
本発明の光透過性導電材料には断線部の入った非導電部１２を有する。本発明では断線部の作製方法にも好ましい態様があり、このための単位図形に入れる断線部の程度の計算方法を説明する。図２は単位図形が正方形の網目状パターンの一例である。断線部の程度は単位図形１ヶあたり、断線部の長さに関係なく、断線部が入る個数を割合として出し、これを断線部の程度とする。第二に断線部が複数の単位図形にわたって入る場合、断線部の個数はその断線部を共有する単位図形の個数で割って計算する。図２ａは断線部のない、網目状パターンである。図２ｂの場合、断線部２２は単位図形（正方形）に２ヶ存在するが、この断線部はどちらも二つの単位図形に共有されているので１つあたり１／２個となり、断線部の程度としては（１／２）×２＝１００％となる。図２ｃの場合、断線部２２は四つの単位図形に共有されているので１つあたり１／４個となり、単位図形の角４カ所に存在するので（１／４）×４＝１００％となる。第三に断線部が全ての単位図形に均等に入らない場合、断線部を含めた単位図形が繰り返される最小単位での平均した断線の程度をその非導電部の断線の程度とする。例えば図２ｄのように５×５の単位図形となる正方形から網目状パターンは形成されてはいるが、断線部２２は単位図形全て同じではなく、図２ｄの太線で囲った正方形部分２３の繰り返しとなっている。この場合は単位図形４個あたり１／４個の断線部が４ヶと１個の断線部が１ヶあるので、（１／４×４＋１×１）÷４＝５０％となる。図３は同じく単位図形が正方形の網目状パターンの一例であり、断線パターンも含めると８×８の繰り返し構造３１を取っている（図に太線で示した部分３１）。この場合の断線の程度は（１／４×４＋１／２×１２＋１×１５）÷６４＝３４．３７５％となる。
【００２０】
本発明において非導電部とは隣接する単位図形１０×１０からなる網目状パターンにおいて、外縁部の任意の一点とその一点に相対する外縁部に位置するもう一点とを選んだ時、その点間に導通が取れない状態の網目状パターンのことをいう。例えば前述した図３においては二重線で囲った１０×１０の繰り返し構造３２において、例えば任意の点Ａを選び、それに相対する任意の点Ｂを選ぶと、Ａ−Ｂ間には必ず断線部があるので、この図形は非導電部となる。図４は単位図形が六角形でかつ単位図形が１０×１０並んだ網目状パターンの一例である。図４においては外縁部の任意の点としてＣと相対するＤを選ぶとここでは導通は取れないが、ＥとＦを選ぶと導通が取れるので、これは非導電部にはならない。
【００２１】
本発明において非導電部の断線の程度は２０％以上であることが好ましく、さらに好ましくは５０〜２００％、より好ましくは８０〜１２０％である。また、非導電部のシート抵抗はＪＩＳ Ｋ７１３４の四端子法（端子間隔５ｍｍ）で測定した際の値で１０ＫΩ／□以上であり、より好ましくは１ＭΩ／□以上であり、さらに好ましくは１ＧΩ／□以上であって、所謂絶縁体といわれる領域にあるものが好ましい。
【００２２】
本発明において線間隔は単位図形が正方形の場合、その正方形の１辺の長さとする。また単位図形が正方形でない場合は、その単位図形と同じ面積になる正方形を算出し、その１辺の長さをその単位図形での線間隔とする。本発明において非導電部の網目状パターンの線間隔は３００μｍ以下が好ましい。また非導電部の網目状パターンの線幅は２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。また開口率は８０％以上が好ましく、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上である。
【００２３】
本発明において導電部は前述の通り、網目状金属パターンからなる。導電部においても断線部は入っていても良いが、断線部は少なくとも１０％以下とするのが好ましく、全くないのがさらに好ましい。
【００２４】
本発明において導電部１１の網目状パターンの線間隔は３００μｍ以下が好ましい。また導電部１１の網目状パターンの線幅は２０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１〜１５μｍ、さらに好ましくは１〜１０μｍである。また、本発明において導電部と非導電部は同じ形状の単位図形から構成されていることが好ましい。また導電部の線間隔は非導電部の線間隔の８０〜１２０％であることが好ましく、さらに好ましくは９０〜１１０％である。導電部のシート抵抗はＪＩＳ Ｋ７１３４の四端子法（端子間隔５ｍｍ）で測定した際の値で５００Ω／□以下であり、より好ましくは２００Ω／□以下であり、さらに１００Ω／□以下が好ましい。
【００２５】
本発明において網目状パターンは金属、特に金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、およびこれらの複合材からなることが好ましい。これら網目状金属パターンを形成する方法としては、銀塩感光材料を用いる方法、同方法を用いさらに得られた銀画像に無電解めっきや電解めっきを施す方法、スクリーン印刷法を用いて銀ペーストなどの導電性インキを印刷する方法、銀インクなどの導電性インクをインクジェット法で印刷する方法、無電解めっき等で銅などの金属からなる導電性層を形成する方法、あるいは蒸着やスパッタなどで導電性層を形成し、その上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法、銅箔などの金属箔を貼り、さらにその上にレジスト膜を形成し、露光、現像、エッチング、レジスト層除去することで得る方法など、公知の方法を用いることができる。中でも製造される金属パターンの厚みが薄くでき、さらに極微細な金属パターンも容易に形成できる銀塩拡散転写法を用いることが好ましい。これらの手法で作製した網目状金属パターンの厚みは厚すぎると後工程が困難になる場合があり、また薄すぎるとタッチパネルとして必要な導電性を確保し難くなる。よって、その厚みは０．０５〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００２６】
投影型静電容量タッチパネルのように複数枚の光透過性導電材料を用いる場合、１枚の光透過性導電材料の中で、導電部と非導電部の開口率の差が１％以内であれば本発明の目的は達成できる。複数の光透過性導電材料の全ての導電部と非導電部の開口率の差が１％以内に収まっていることが好ましいが、別の光透過性導電材料に設けられた導電部と非導電部の開口率の差が１％以上あっても良い。
【００２７】
本発明の光透過性導電材料に用いる基材としては、プラスチック、ガラス、ゴム、セラミックス等が好ましく用いられる。これら基材は全光線透過率が６０％以上であるものが好ましい。プラスチックの中でも、フレキシブル性を有する樹脂フィルムは、取扱い性が優れている点で好適に用いられる。基材として使用される樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等からなる厚さ５０〜３００μｍの樹脂フィルムが挙げられる。基材には易接着層など公知の層が設けられていても良い。
【００２８】
本発明の光透過性導電材料は基材とその上に位置する網目状パターン以外にも、ハードコート層、反射防止層、粘着層、防眩層など公知の層を網目状パターンの上（基材から遠い側）、あるいは基材の網目状パターンとは反対の側に設けることができる。また、基材と網目状パターンとの間に、物理現像核層、易接着層、接着剤層など公知の層を設けることができる。
【実施例】
【００２９】
以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００３０】
＜実施例１＞
基材として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なおこの基材の全光線透過率は９１％であった。
【００３１】
次に下記処方に従い、物理現像核層塗液を作製し、基材上に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。
【００３２】
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液 塩化パラジウム ５ｇ
塩酸 ４０ｍｌ
蒸留水 １０００ｍｌ
Ｂ液 硫化ソーダ ８．６ｇ
蒸留水 １０００ｍｌ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
【００３３】
＜物理現像核層塗液の調製＞各１ｍ２あたり
前記硫化パラジウムゾル ０．４ｍｇ
２質量％グリオキザール水溶液 ０．２ｍｌ
界面活性剤（Ｓ−１） ４ｍｇ
デナコールＥＸ−８３０ ５０ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％ＳＰ−２００水溶液 ０．５ｍｇ
（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン；平均分子量１０，０００）
【００３４】
続いて、基材に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、および保護層を上記物理現像核液層の上に塗布、乾燥して、銀塩感光材料１を得た。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。
【００３５】
＜中間層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ５ｍｇ
染料１
【００３６】
【化１】
【００３７】
【化２】
【００３８】
＜ハロゲン化銀乳剤層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン ０．５ｇ
ハロゲン化銀乳剤 ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） ２０ｍｇ
【００３９】
＜保護層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ） １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１） １０ｍｇ
【００４０】
このようにして得た銀塩感光材料１と、図５と図６のパターンを同一平面上に有する透過原稿を密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。なお、図５、図６のパターンは導電部１１、非導電部１２ともに線幅７μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部１１の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは１０μｍとした（交点部から全ての辺に対し５μｍの長さの断線部を有する）。
【００４１】
その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。こうして図５と図６の形状を持つ銀パターンを有する光透過性導電材料１を得た。なお、得られた光透過性導電材料の線幅、線間隔は透過原稿と全く同じ形状、線幅の画像になっていた。金属パターンの膜厚は共焦点顕微鏡で調べ、０．１μｍであった。
【００４２】
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム ２５ｇ
ハイドロキノン １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン ２ｇ
亜硫酸カリウム ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン １５ｇ
臭化カリウム １．２ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する。
【００４３】
＜実施例２＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは１４μｍ（交点部から全ての辺に対し７μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料２を得た。
【００４４】
＜実施例３＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２０μｍ（交点部から全ての辺に対し１０μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料３を得た。
【００４５】
＜実施例４＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２７．５μｍ（交点部から全ての辺に対し１３．７５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料４を得た。
【００４６】
＜実施例５＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは４０μｍ（交点部から全ての辺に対し２０μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料５を得た。
【００４７】
＜実施例６＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは５０μｍ（交点部から全ての辺に対し２５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料６を得た。
【００４８】
＜比較例１＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは６０μｍ（交点部から全ての辺に対し３０μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして比較光透過性導電材料１を得た。
【００４９】
＜実施例７＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔２３０μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅１４μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２３μｍ（交点部から全ての辺に対し１１．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料７を得た。
【００５０】
＜実施例８＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔２４０μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部は線幅１３μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部１２は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２１μｍ（交点部から全ての辺に対し１０．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料８を得た。
【００５１】
＜実施例９＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔２７０μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅１２μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２４μｍ（交点部から全ての辺に対し１２μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料９を得た。
【００５２】
＜実施例１０＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部は線幅１０μｍ、線間隔２７３μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部１２は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２５μｍ（交点部から全ての辺に対し１２．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１０を得た。
【００５３】
＜実施例１１＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅９μｍ、線間隔２５０μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは１９μｍ（交点部から全ての辺に対し９．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１１を得た。
【００５４】
＜実施例１２＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形、断線の程度は０％の格子メッシュからなり、非導電部１２は線幅９μｍ、線間隔２４０μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは３３μｍ（交点部から全ての辺に対し１６．５μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１２を得た。
【００５５】
＜比較例２＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２に相当する部分ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部ならびに非導電部に相当する部分、共に断線の程度は０％とし、導電部の輪郭部分に幅３０μｍのスリット（スリット部分にはメッシュは存在しない）を入れた透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして比較光透過性導電材料２を得た。
【００５６】
＜比較例３＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１、非導電部１２に相当する部分ともに線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、導電部の断線の程度は０％、非導電部は図２ｃで示すような正方形の４つ角全てを断線部とした断線の程度１００％とし、断線長さは２０μｍ（交点部から全ての辺に対し１０μｍの長さの断線部を有する）とし、さらに導電部の輪郭部分に幅３０μｍのスリット（スリット部分にはメッシュは存在しない）を入れた透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして比較光透過性導電材料３を得た。
【００５７】
＜実施例１３＞
図５と図６のパターンを有する透過原稿であるが、導電部１１は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形であり、かつ図７のように５×５の正方形が並んで、その中で２カ所１４μｍの断線の入った断線の程度は９２％の格子メッシュからなり、一方非導電部１２は線幅１０μｍ、線間隔３００μｍの単位図形が正方形の格子メッシュからなり、かつ非導電部は図２ｄで示すような断線部とした断線の程度５０％とし、断線長さは１４μｍ（交点部から全ての辺に対し７μｍの長さの断線部を有する）とした透過原稿を用いる以外は実施例１と同様にして光透過性導電材料１３を得た。
【００５８】
実施例１〜１３、比較例１、２で作製した光透過性導電材料の導電部のシート抵抗を測定した。結果を表１に記載する。また、導電部と非導電部の開口率の計算は、例えば実施例１で作製した光透過性導電材料においては、導電部は線間隔３００μｍ、面積９００００μｍ２の単位図形中に４１５１μｍ２の網目状パターンが存在するので、（９００００−４１５１）÷９００００＝９５．３９％となる。これらの計算結果も表１に記載する。また非導電部は断線部があるので、網目状パターン面積は４０６０μｍ２となり、開口率は同様の計算をして９５．４９％となる。次に、実施例１〜１３、比較例１、２で作製した光透過性導電材料の図５と図６のパターンを切り出し、それぞれを重ね、視認性を確認した。導電部と非導電部の差がはっきり判るものを１、少し見れば判るものを２、良く見れば判るものを３、注視しないと判らないものを４、全く判らないものを５とした。結果を表１に示す。
【００５９】
【表１】
【００６０】
表１の結果から、静電容量方式を用いたタッチパネルの透明電極として好適な、視認性の低い光透過性導電材料が得られることが判る。
【００６１】
＜実施例１４＞
実施例１で作製した図５のパターンと実施例２で使用した図６のパターンを重ね、その視認性を評価したところ、５の評価であった。
【符号の説明】
【００６２】
１ 光透過性導電材料
２ 基材
１１ 導電部
１２ 非導電部
１３ 非画像部
１４、１５ 配線部
２１ 金属パターン
２２ 断線部
２３ 正方形部
３１ ８×８の繰り返し構造
３２ １０×１０の繰り返し構造
Ａ〜Ｆ 任意の点
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に導電部と非導電部を隣接して有する光透過性導電材料であって、該導電部と非導電部が網目状金属パターンからなり、該非導電部の網目状金属パターンは、該パターンの一部が断線した網目状金属パターンであって、かつ導電部と非導電部の開口率の差が１％以内であることを特徴とする光透過性導電材料。
【請求項２】
導電部の網目状金属パターンの線間隔が非導電部の網目状金属パターンの線間隔の８０〜１２０％であることを特徴とする請求項１記載の光透過性導電材料。
【請求項１】
基材上に導電部と非導電部を隣接して有する光透過性導電材料であって、該導電部と非導電部が網目状金属パターンからなり、該非導電部の網目状金属パターンは、該パターンの一部が断線した網目状金属パターンであって、かつ導電部と非導電部の開口率の差が１％以内であることを特徴とする光透過性導電材料。
【請求項２】
導電部の網目状金属パターンの線間隔が非導電部の網目状金属パターンの線間隔の８０〜１２０％であることを特徴とする請求項１記載の光透過性導電材料。
【図２】
【図３】
【図４】
【図７】
【図１】
【図５】
【図６】
【図３】
【図４】
【図７】
【図１】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１３−３０３７８（Ｐ２０１３−３０３７８Ａ）
【公開日】平成２５年２月７日（２０１３．２．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１６６２４０（Ｐ２０１１−１６６２４０）
【出願日】平成２３年７月２９日（２０１１．７．２９）
【出願人】（０００００５９８０）三菱製紙株式会社 (1,550)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年２月７日（２０１３．２．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年７月２９日（２０１１．７．２９）
【出願人】（０００００５９８０）三菱製紙株式会社 (1,550)
【Ｆターム（参考）】
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