外段取り装置
【課題】スペースを有効利用し、品質低下を防止し、生産効率を向上させることのできる外段取り装置を提供する。
【解決手段】被成膜対象の基材５が装着されるとともに、成膜装置内に配置される基材ホルダ４を保持する保持部材２０と、この保持部材２０が取り付けられる移動可能フレーム１０と、この移動可能フレーム１０に取り付けられるとともに、基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段３０とを備えたことを特徴とする外段取り装置１。
【解決手段】被成膜対象の基材５が装着されるとともに、成膜装置内に配置される基材ホルダ４を保持する保持部材２０と、この保持部材２０が取り付けられる移動可能フレーム１０と、この移動可能フレーム１０に取り付けられるとともに、基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段３０とを備えたことを特徴とする外段取り装置１。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜対象物である基材が装着される基材ホルダを保持する外段取り装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、真空槽内で基材に蒸着等の成膜処理を行う成膜装置として、真空槽に対し真空ゲート弁を介してロードロック室を接続し、真空槽内を大気に開放することなく、真空槽の真空状態の質を良好に維持して再現性のよい状態で真空成膜を行うようにしたロードロック式（連続式）の成膜装置が使用されている（例えば特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２２２８４６号公報
【特許文献２】特開２００４−９９９４６号公報
【特許文献３】特開２００４−９９９４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１〜３に記載されたようなロードロック式の成膜装置は、装置サイズが大きく、装置を設置するための広いスペースを必要とするため、工場等のスペースの有効利用を図ることができなかった。
一方で、ロードロック式の成膜装置ではなく、真空槽のみで構成される成膜装置から成膜後の基材や基材ホルダを単に取り出して、搬送台車に積載したのでは、基材表面に異物等が付着してしまい、品質が低下してしまう。また、成膜後の基材や基材ホルダ等は高温になっていることがあるので、基材や基材ホルダなどを取り出し可能になるまで冷却しなければならず、その間は成膜装置を使用することができず、生産効率が低下してしまう。
このような品質や生産効率の低下を防ぐために、クリーンルーム内に真空槽を設置し、成膜後の基材や基材ホルダ等を高温状態のまま移動させて搬送装置に載せ、同じクリーンルーム内で放置冷却する手段も考えられる。しかしながら、真空槽と冷却中の搬送装置とを設置するためのエリアをカバーする広いスペースのクリーンルームが必要となるので、工場等のスペースの有効利用を図ることができない。
【０００５】
本発明の目的は、工場等のスペースを有効利用し、品質低下を防止し、生産効率を向上させることのできる外段取り装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［適用例１］
本適用例に係る発明は、成膜装置内に配置されるとともに被成膜対象の基材が装着される基材ホルダを保持する保持部材と、この保持部材が取り付けられた移動可能フレームと、この移動可能フレームに取り付けられるとともに、前記基材ホルダの表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段とを備えたことを特徴とする外段取り装置である。
本適用例によれば、ロードロック式の成膜装置を用いないため、工場等のスペースを有効利用することができる。
また、成膜処理後であって基材ホルダが冷却される前に、成膜装置から搬出される基材ホルダを保持部材にて保持することができる。さらに、保持部材に保持されている基材ホルダの表面に清浄空気を供給することができる。そのため、冷却を待つ時間を要することなく、成膜装置は次の成膜加工に移ることができ、生産効率を向上させることができる。そして、基材が冷却されるまでの時間は、成膜装置内で基材ホルダを放置して冷却する場合に比べて、大幅に短縮されるため、生産効率を向上させることが出来る。
【０００７】
また、基材ホルダは、保持部材に保持され、清浄空気の供給を受けたまま搬送可能である。そのため、例えば、成膜装置が設置されたクリーンルームから、別のクリーンルームへと移動する場合であっても、クリーンルーム間を移動している間に、基材表面への異物付着等が防止され、品質の低下を防止することが出来る。
そして、広いエリアのクリーンルームを設けなくても、局所的にクリーンルームを設け、適宜クリーンルーム間を移動すればよいため、工場等のスペースを有効活用することができる。
【０００８】
［適用例２］
適用例１に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、冷風を供給することが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダ表面に清浄な室温以下の冷風を供給することができる。そのため、基材および基材ホルダをより短時間で冷却して、生産効率を向上させることができる。
【０００９】
［適用例３］
適用例１または適用例２に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、温度調節機能および除湿機能を備えていることが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダに装着された基材表面に乾燥温風を供給することができる。したがって、成膜前の基材を加熱するとともに、基材中の水分を減少させることができる。そのため、成膜処理を開始するのに必要な基材温度や真空度に到達するまでの時間を短縮し、生産効率を向上させることができる。
【００１０】
［適用例４］
適用例１から適用例３までのいずれかに係る本適用例では、前記基材ホルダはドーム状に形成されるとともに頂部には開口部が設けられ、前記保持部材には、前記基材ホルダを保持した際に前記基材ホルダの内表面側との間に隙間が形成されるように整流板が配置され、前記清浄空気供給手段には、清浄空気を吐出するとともに、前記基材ホルダを保持した際に前記開口部に面して配置される吐出部が設けられていることが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダの頂部に形成された開口部を通過して、基材ホルダの内表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダの内表面側と前記整流板との間に形成された隙間を清浄空気の流通路として通過し、基材ホルダの底面側から放出される。そのため、基材ホルダの内表面側へ露出する基材表面に対して、より多くの清浄空気を効率的に供給することができる。そして、基材ホルダの内表面側を通過する清浄空気が開口部から基材ホルダの底面側へと流れるため、基材ホルダの低面側からの異物侵入などを防ぐことができる。
したがって、品質低下を防止する効果をさらに高めることができる。さらに、基材および基材ホルダをより短時間で冷却することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００１１】
［適用例５］
適用例４に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、前記基材ホルダから離隔移動可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることが好ましい。
本適用例によれば、清浄空気供給手段を基材ホルダから離れた位置に移動させることが可能なので、成膜装置に対する基材ホルダの搬入および搬出を行う際に清浄空気供給手段が邪魔にならない。そのため、搬入および搬出作業を円滑に行うことができ、生産効率を向上させることができる。
また、清浄空気供給手段の吐出部を、基材ホルダの開口部から離れた位置に移動させることができるので、基材ホルダの外周面側および内周面側に供給される清浄空気量を適宜調節することができる。
例えば、当該吐出部を開口部に近接させると、より多くの清浄空気を基材ホルダの表面に対して供給することができる。一方で、当該吐出部を開口部から離隔させれば、基材ホルダ表面に供給される清浄空気が減少するものの、基材の装着および取り外し作業時において、清浄空気の風圧による作業性の低下を防止することが出来る。
【００１２】
［適用例６］
適用例５に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、互いに直交する３軸方向に移動可能に取り付けられていることが好ましい。
本適用例によれば、適用例５と同様の効果を奏するとともに、適用例５よりも基材ホルダに対する清浄空気供給手段の位置調整を行い易くすることができる。
【００１３】
［適用例７］
適用例１から適用例６までのいずれかに係る本適用例では、前記保持部材は、昇降可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダに対する基材の装着および取り外し作業を行う際の作業性を考慮して保持部材の高さ位置を変化させることができるので、作業性を向上させることができる。
【００１４】
［適用例８］
適用例４から適用例７までのいずれかに係る本適用例では、前記基材ホルダにおける前記基材の未装着部位に遮蔽板が装着されていることが好ましい。
基材ホルダの基材装着部位すべてに基材が装着されておらず、基材未装着部位がある場合に、そのままで清浄空気供給手段から清浄空気を供給したとしても、清浄空気の流れは基材未装着部位で乱れてしまい、全ての基材表面に対して清浄空気が安定して供給されない。その結果、清浄空気の供給が不十分な部位に装着されている一部の基材の品質低下を招いてしまう。
しかし、本適用例によれば、基材未装着部位には遮蔽板が装着されているため、清浄空気の流れが乱れることが無く、基材に対して清浄空気を安定して供給することができる。したがって、品質の低下を防止することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態にかかる外段取り装置および成膜装置の概略図。
【図２】前記実施形態に係る外段取り装置の保持部の拡大図。
【図３】前記実施形態に係る基材ホルダの斜視図。
【図４】前記実施形態に係る基材ホルダの断面拡大図。
【図５】前記実施形態に係る基材ホルダを保持した状態を示す図。
【図６】前記実施形態に係る基材ホルダを保持した状態の拡大図。
【図７】前記実施形態に係る外段取り装置の移動後を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
〔外段取り装置〕
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１には、本実施形態にかかる外段取り装置１、成膜装置２および成膜装置２に収容された基材ホルダ４が示されている。外段取り装置１および成膜装置２はクリーンルーム６内に配置されている。
外段取り装置１は、移動可能フレーム１０と、この移動可能フレーム１０に取り付けられた保持部材２０と、同じく移動可能フレーム１０に取り付けられた清浄空気供給手段３０とを備えて構成される。
【００１７】
移動可能フレーム１０は、上下方向に延びるメインフレーム１１を備えており、このメインフレーム１１の下端部には、メインフレーム１１から連続して形成された水平方向に延びる下フレーム１２を備えている。
この下フレーム１２には、外段取り装置１が移動可能なように車輪１３が取り付けられている。
【００１８】
保持部材２０は、基材５が装着された基材ホルダ４を保持する。
保持部材２０は、メインフレーム１１に対して水平方向に延びる保持フレーム２１と、この保持フレーム２１上に設けられるとともに基材ホルダ４を保持するための保持部２２と、保持部２２の内側に設けられる整流板２３とで構成されている。なお、詳細は後述するが、基材ホルダ４は円錐型ドーム状に形成されている（図３参照）。
保持フレーム２１は、昇降機構２４を介してメインフレーム１１に取り付けられているため、保持部材２０は昇降移動が可能になっている。
【００１９】
図２には、保持部材２０の拡大図が示されている。
保持部２２は、基材ホルダ４を載せるための平面部２２Ａと、基材ホルダ４の保持位置を保持部２２に合わせるための位置合わせ部２２Ｂとで構成されている。位置合わせ部２２Ｂは、平面部２２Ａに対して所定の傾斜角度で起立して形成されている。図２中では、二点差線で示される基材ホルダ４の底面が平面部２２Ａ上に載せられて保持されている。
整流板２３は円錐状に形成されている。整流板２３は保持フレーム２１上に設けられた整流板保持部２５に着脱可能に取り付けられている。この整流板２３は、基材ホルダ４を保持部２２で保持する際に、基材ホルダ４のドーム状内部に収容可能なサイズに形成されている。さらに整流板２３は、基材ホルダ４のドーム状内部に収容された際に、基材ホルダ４の内表面と整流板２３の外表面との間に所定間隔の隙間Ｄが生ずるサイズに形成されている。この隙間Ｄが清浄空気の流通路として利用される。この隙間Ｄに清浄空気が流れることにより一層効率の高い冷却効果が発生する。清浄空気供給手段３０からの送風量に対して、基材と清浄空気の接触面積が大きくなる為である。
【００２０】
清浄空気供給手段３０は、基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給するためのものである。清浄空気供給手段３０としては、代表的なものとしてＦＦＵ（ファンフィルターユニット）等が挙げられる。
本実施形態で用いる清浄空気供給手段３０は、その上面側に設けられた吸気部３１から、シロッコファンなどの図示しないファンによって空気を取り込む（図１参照）。そして、清浄空気供給手段３０の内部には図示しないフィルタが取り付けられ、取り込んだ空気はそのフィルタを通過して、除塵される。その後、除塵された清浄空気は、清浄空気供給手段３０の下面側に設けられた吐出部３２から吐出される。フィルタとしては、エアフィルタとして、ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタ等を、それぞれ１枚もしくは複数枚を組み合わせて用いることができる。高い清浄度が要求される場合には、ＵＬＰＡフィルタが使用される。
また、清浄空気供給手段３０には、図示しない温度調節機能および除湿機能が設けられている。そのため、清浄空気供給手段３０からは、冷風や乾燥温風等も供給される。
【００２１】
清浄空気供給手段３０は、第１移動機構３３を介して水平方向に延びる上フレーム３４に設けられている。そして上フレーム３４は、第２移動機構３５を介してメインフレーム１１に取り付けられている。
清浄空気供給手段３０は、第１移動機構３３によって、紙面に対して垂直方向（Ｙ方向）に移動することができる。また、第２移動機構３５によって、上フレーム３４は、紙面平面内で上下方向（Ｚ方向）および左右方向（Ｘ方向）に移動することができる。すなわち、清浄空気供給手段３０は、互いに直交する３軸方向に移動可能にメインフレーム１１に対して取り付けられている。
【００２２】
〔基材ホルダ〕
図３には、円錐型ドーム状に形成されている基材ホルダ４が示されている。
また、図４には基材ホルダ４の断面拡大図が示されている。
基材ホルダ４には、その頂部から放射状に、窓部４１が設けられている。この窓部４１の枠には基材５を装着させるための治具４２が予め取り付けられている。基材５が装着されると、基材ホルダ４の内表面側に基材５の表面（成膜面）が露出した状態になるので、この内表面側に露出した基材５の表面上に膜が形成されることになる。
また、基材ホルダ４の頂部には、清浄空気供給手段３０から供給される清浄空気を基材ホルダ４のドーム内部へと導入するための開口部４３が設けられている。
なお、基材ホルダ４のすべての窓部４１に対して基材５を装着させない場合には、当該未装着部には、基材ホルダ４の内表面側と外表面側とが窓部４１を介して連通しないように、窓部４１を覆うための遮蔽板５’が取り付けられる。窓部４１を覆うことができればよいので、例えば、遮蔽板５’としては図４に示すような基材５と同じサイズの板状体などが用いられる。
【００２３】
〔成膜装置〕
成膜装置２は、被成膜対象の基材５を保持する基材ホルダ４を収容し、真空状態下で基材５の成膜面に膜を形成させるためのものである。成膜装置２はクリーンルーム６内に設置されているため、成膜装置２の扉が開放されても、基材ホルダ４や基材５の表面は清浄に保たれる。
成膜装置２の内部には、基材ホルダ４を回転させるための回転機構が設けられている。図１に示されるように、レール２２に備え付けられた回転歯車２１が、基材ホルダ４の底面部を支持して回転させる。また、成膜装置２の上方にも図示しない回転機構が設けられ、基材ホルダ４を支持し回転させる。これらの回転機構は、基材ホルダ４が装置外へ搬出される際には、待避可能に設けられている。
また、成膜装置２内の底部には成膜原材料が配置されている。例えば、成膜装置２が真空蒸着装置であれば、この成膜原材料を加熱蒸発させることで、基材ホルダ４に保持された基材５の成膜面に成膜原材料が付着して析出し、膜が形成される。
その他、成膜装置２は、従来の成膜装置が備える構成も備えている。
【００２４】
〔外段取り装置の動作１〕
次に、本実施形態に係る外段取り装置１の動作について説明する。
なお、説明上、基材５の表面には、すでに膜が形成された状態であるとする。また、成膜処理は成膜装置２が設置されているクリーンルーム６で行われ、その後、別のクリーンルーム７（図７参照）で、基材ホルダ４および基材５を冷却し、基材５を取り外すための作業が行われるものとする。
【００２５】
図１には、クリーンルーム６内の、基材ホルダ４を保持していない状態の外段取り装置１と基材ホルダ４が収容された成膜装置２とが示されている。
まず、成膜装置２の扉を開け、外段取り装置１を保持部２２が基材ホルダ４の下方に位置するまで移動させる。なお、予め、清浄空気供給手段３０や上フレーム３４は、成膜装置２や基材ホルダ４に接触しないように適宜移動させておく。
そして、保持部材２０を上方に移動させ、基材ホルダ４を保持部２２で保持させる。このとき、整流板２３は、基材ホルダ４の内部に収容され、基材ホルダ４の内表面と整流板２３の外表面との間に、隙間Ｄ（図２参照）が形成される。
基材ホルダ４を保持した後、外段取り装置１を後退させて、基材ホルダ４を成膜装置２の外へと搬出する。なお、この搬出の際には、成膜装置２内の基材ホルダ４を回転させるための回転機構も適宜待避させる。
【００２６】
次に、図５に示すように、清浄空気供給手段３０の吐出部３２が基材ホルダ４の開口部４３に面するように、清浄空気供給手段３０と保持部材２０を移動させる。そして、清浄空気供給手段３０から基材ホルダ４に対して清浄空気を供給させ、いわゆるダウンフローＦを形成させる。このとき、室温以下の冷風を供給させれば、冷却効果が高まる。
【００２７】
図６にダウンフローＦの様子を拡大して示す。開口部４３から基材ホルダ４の内表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダ４の内表面と整流板２３の外表面との間に形成された隙間Ｄを通過して、基材ホルダ４の下方から放出される。一方、基材ホルダ４の外表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダ４の外表面に沿って基材ホルダ４の下方へと流れる。
【００２８】
清浄空気の供給を開始した後、供給したままの状態で、成膜装置２が設置されたクリーンルーム６を出て、基材５の取り出し作業を行うために別のクリーンルーム７へと外段取り装置１を移動させる。
図７に示すように、クリーンルーム７へと移動した後、基材５の取り出し作業を行い易い高さ位置に調節するために、保持部材２０を昇降させる。また、清浄空気供給手段３０からの清浄空気の供給量が多すぎて取り出し作業を行い難いときは、基材ホルダ４の表面へ供給される供給量を抑えるために、基材ホルダ４の開口部４３から離れた位置に清浄空気供給手段３０を移動させる。
基材５を全て取り出し終わった基材ホルダ４は、そのまま外段取り装置１の保持部材２０で保持させたままにする。
【００２９】
〔外段取り装置の動作２〕
次に、成膜処理が行われる前の外段取り装置１の動作について説明する。
前述したように、成膜後の基材５を全て取り出し終わった基材ホルダ４は、そのまま外段取り装置１の保持部材２０で保持させたままになっている。そして、外段取り装置１は、クリーンルーム７内で待機させたままになっている。
そこで、この基材ホルダ４を用いて次の成膜処理へと移行すべく、まず基材ホルダ４に基材５を装着させる。
【００３０】
装着後は、前述と同様に、清浄空気供給手段３０の吐出部３２が基材ホルダ４の開口部４３に面するように、清浄空気供給手段３０と保持部材２０を移動させ、清浄空気供給手段３０から基材ホルダ４に対して清浄空気を供給させる。
このとき、乾燥空気を供給すれば基材５が水分を吸収することを防ぐことも出来る。さらに、乾燥温風を供給すれば基材５の加熱や、基材５に含まれていた水分を除去することもできる。
清浄空気の供給を開始した後、供給したままの状態で、成膜装置２が設置されたクリーンルーム６へと外段取り装置１を移動させる。
【００３１】
移動後は、清浄空気供給手段３０からの清浄空気の供給を停止させる。そして、清浄空気供給手段３０や上フレーム３４は、成膜装置２や基材ホルダ４に接触しないように適宜移動させる。
成膜装置２において別途進行していた成膜処理が終了し、基材ホルダが搬出された後であれば、クリーンルーム７から移動してきた外段取り装置１に保持されていた基材ホルダ４を成膜装置２へ搬入し、収容させる。
一方、成膜装置２において成膜処理が進行中であれば、成膜処理が終了するまで待機し、成膜処理が終了した後に基材ホルダ４を成膜装置２へ搬入し、収容させる。
【００３２】
〔実施形態の効果〕
以上のような本実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。
（１）ロードロック式の成膜装置を用いないため、工場等のスペースを有効利用することができる。
【００３３】
（２）成膜処理後であって基材ホルダ４が冷却される前に、成膜装置２から搬出される基材ホルダ４を保持部材２０にて保持することができる。さらに、保持部材２０に保持されている基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給することができる。そのため、冷却を待つ時間を要することなく、成膜装置２は次の成膜加工に移ることができ、生産効率を向上させることができる。そして、基材５が冷却されるまでの時間は、成膜装置２内で基材ホルダ４を放置したまま冷却する場合に比べて、大幅に短縮されるため、生産効率を向上させることが出来る。
【００３４】
（３）基材ホルダ４は、保持部材２０に保持され、清浄空気の供給を受けたまま搬送可能である。そのため、例えば、成膜装置２が設置されたクリーンルーム６から、別のクリーンルーム７へと移動する場合であっても、クリーンルーム６，７間を移動している間に、基材の表面への異物付着等が防止され、品質の低下を防止することが出来る。
そして、広いエリアのクリーンルームを設けなくても、局所的にクリーンルームを設け、適宜クリーンルーム６，７間を移動すればよいため、工場等のスペースを有効活用することができる。
【００３５】
（４）基材ホルダ４の表面に清浄な冷風を供給することができる。そのため、基材および基材ホルダをより短時間で冷却して、生産効率を向上させることができる。
【００３６】
（５）基材ホルダ４に装着された基材５の表面に乾燥温風を供給することができる。したがって、成膜前の基材５を加熱するとともに、基材５に含まれる水分を減少させることができる。そのため、成膜処理を開始するのに必要な基材温度や真空度に到達するまでの時間を短縮し、生産効率を向上させることができる。
【００３７】
（６）基材ホルダ４の頂部に形成された開口部４３を通過して、基材ホルダ４の内表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダ４の内表面側と整流板２３との間に形成された隙間Ｄを清浄空気の流通路として通過し、基材ホルダ４の底面側から放出される。そのため、基材ホルダ４の内表面側へ露出する成膜面に対して、より多くの清浄空気を効率的に供給することができる。そして、基材ホルダの内表面側を通過する清浄空気が開口部４３から基材ホルダ４の底面側へと流れるため、基材ホルダ４の低面側からの異物侵入などを防ぐことができる。
したがって、品質低下を防止する効果をさらに高めることができる。さらに、基材５および基材ホルダ４をより短時間で冷却することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００３８】
（７）清浄空気供給手段３０は互いに直交する３軸方向に移動可能であるために、基材ホルダ４の開口部４３に対する清浄空気供給手段３０の吐出部３２の相対位置を適宜変化させることができる。そのため、基材ホルダ４の外周面側および内周面側に供給される清浄空気量を適宜調節することができる。
例えば、吐出部３２を開口部４３に近接させると、より多くの清浄空気を基材ホルダ４の表面に対して供給することができる。一方で、吐出部３２を開口部４３から離隔させれば、基材ホルダ４表面に供給される清浄空気が減少するものの、基材５の装着および取り外し作業時における風圧による作業性の低下を防止することが出来る。
【００３９】
（８）基材ホルダ４に対する基材５の装着および取り外し作業を行う際の作業性を考慮して保持部材２０の高さ位置を変化させることができるので、作業性を向上させることができる。
【００４０】
（９）基材５を装着させていない部位がある場合には遮蔽板５’を装着させるため、清浄空気の流れが乱れることが無く、基材５に対して清浄空気を安定して供給することができる。したがって、品質の低下を防止することが出来る。
【００４１】
〔変形例〕
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、保持部２２を、保持フレーム２１上でその位置を変更可能に取り付けても良い。そうすれば、基材ホルダ４のサイズに応じて、保持部２２の位置を変更することができることになり、様々なサイズの基材ホルダ４を保持可能な外段取り装置とすることができる。
なお、整流板２３も整流板保持部２５に対して着脱可能に取り付けられているので、基材ホルダ４のサイズに応じた整流板２３を取り付けることができる。そのため、基材ホルダ４と整流板２３との隙間Ｄを適切に調整することができる。
【００４２】
また、前記実施形態においては、清浄空気供給手段３０の移動可能な方向は、互いに直交する３軸方向として説明したが、これに限られない。例えば、メインフレーム１１を軸とした回転方向への移動機構を設けることで、首振り動作が可能になり、清浄空気供給手段３０の位置をよりフレキシブルに移動させることができる。
【００４３】
また、前記実施形態においては、基材ホルダ４を保持部２２に載置して保持する態様で説明したが、例えば、保持部２２に基材ホルダ４を回転させるための機構を設けても良い。そうすれば、基材ホルダ４を回転させながら、基材５の装着および取り外しが可能になり、作業性を向上させることができる。
【００４４】
また、前記実施形態においては、外段取り装置１が移動可能なように下フレーム１２に車輪１３が取り付けられているが、これに限られない。例えば、クローラー等、その他の移動機構によって、外段取り装置１を移動させても良い。
【００４５】
また、前記実施形態においては、基材ホルダ４の内表面側と整流板２３との間に形成される隙間Ｄに清浄空気を供給させているが、これに限られない。例えば、基材ホルダ４の頂部に形成された開口部４３から基材ホルダ４の内表面側に清浄な空気をより多く供給し、成膜面を清浄に保つことができれば、整流板２３を保持部材２０上に設置しない形態も採り得る。
【符号の説明】
【００４６】
１…外段取り装置、２…成膜装置、４…基材ホルダ、５…基材、５’…遮蔽板、１０…移動可能フレーム、２３…整流板、３０…清浄空気供給手段、３２…吐出部、４３…開口部、Ｄ…隙間
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜対象物である基材が装着される基材ホルダを保持する外段取り装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、真空槽内で基材に蒸着等の成膜処理を行う成膜装置として、真空槽に対し真空ゲート弁を介してロードロック室を接続し、真空槽内を大気に開放することなく、真空槽の真空状態の質を良好に維持して再現性のよい状態で真空成膜を行うようにしたロードロック式（連続式）の成膜装置が使用されている（例えば特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２２２８４６号公報
【特許文献２】特開２００４−９９９４６号公報
【特許文献３】特開２００４−９９９４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１〜３に記載されたようなロードロック式の成膜装置は、装置サイズが大きく、装置を設置するための広いスペースを必要とするため、工場等のスペースの有効利用を図ることができなかった。
一方で、ロードロック式の成膜装置ではなく、真空槽のみで構成される成膜装置から成膜後の基材や基材ホルダを単に取り出して、搬送台車に積載したのでは、基材表面に異物等が付着してしまい、品質が低下してしまう。また、成膜後の基材や基材ホルダ等は高温になっていることがあるので、基材や基材ホルダなどを取り出し可能になるまで冷却しなければならず、その間は成膜装置を使用することができず、生産効率が低下してしまう。
このような品質や生産効率の低下を防ぐために、クリーンルーム内に真空槽を設置し、成膜後の基材や基材ホルダ等を高温状態のまま移動させて搬送装置に載せ、同じクリーンルーム内で放置冷却する手段も考えられる。しかしながら、真空槽と冷却中の搬送装置とを設置するためのエリアをカバーする広いスペースのクリーンルームが必要となるので、工場等のスペースの有効利用を図ることができない。
【０００５】
本発明の目的は、工場等のスペースを有効利用し、品質低下を防止し、生産効率を向上させることのできる外段取り装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［適用例１］
本適用例に係る発明は、成膜装置内に配置されるとともに被成膜対象の基材が装着される基材ホルダを保持する保持部材と、この保持部材が取り付けられた移動可能フレームと、この移動可能フレームに取り付けられるとともに、前記基材ホルダの表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段とを備えたことを特徴とする外段取り装置である。
本適用例によれば、ロードロック式の成膜装置を用いないため、工場等のスペースを有効利用することができる。
また、成膜処理後であって基材ホルダが冷却される前に、成膜装置から搬出される基材ホルダを保持部材にて保持することができる。さらに、保持部材に保持されている基材ホルダの表面に清浄空気を供給することができる。そのため、冷却を待つ時間を要することなく、成膜装置は次の成膜加工に移ることができ、生産効率を向上させることができる。そして、基材が冷却されるまでの時間は、成膜装置内で基材ホルダを放置して冷却する場合に比べて、大幅に短縮されるため、生産効率を向上させることが出来る。
【０００７】
また、基材ホルダは、保持部材に保持され、清浄空気の供給を受けたまま搬送可能である。そのため、例えば、成膜装置が設置されたクリーンルームから、別のクリーンルームへと移動する場合であっても、クリーンルーム間を移動している間に、基材表面への異物付着等が防止され、品質の低下を防止することが出来る。
そして、広いエリアのクリーンルームを設けなくても、局所的にクリーンルームを設け、適宜クリーンルーム間を移動すればよいため、工場等のスペースを有効活用することができる。
【０００８】
［適用例２］
適用例１に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、冷風を供給することが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダ表面に清浄な室温以下の冷風を供給することができる。そのため、基材および基材ホルダをより短時間で冷却して、生産効率を向上させることができる。
【０００９】
［適用例３］
適用例１または適用例２に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、温度調節機能および除湿機能を備えていることが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダに装着された基材表面に乾燥温風を供給することができる。したがって、成膜前の基材を加熱するとともに、基材中の水分を減少させることができる。そのため、成膜処理を開始するのに必要な基材温度や真空度に到達するまでの時間を短縮し、生産効率を向上させることができる。
【００１０】
［適用例４］
適用例１から適用例３までのいずれかに係る本適用例では、前記基材ホルダはドーム状に形成されるとともに頂部には開口部が設けられ、前記保持部材には、前記基材ホルダを保持した際に前記基材ホルダの内表面側との間に隙間が形成されるように整流板が配置され、前記清浄空気供給手段には、清浄空気を吐出するとともに、前記基材ホルダを保持した際に前記開口部に面して配置される吐出部が設けられていることが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダの頂部に形成された開口部を通過して、基材ホルダの内表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダの内表面側と前記整流板との間に形成された隙間を清浄空気の流通路として通過し、基材ホルダの底面側から放出される。そのため、基材ホルダの内表面側へ露出する基材表面に対して、より多くの清浄空気を効率的に供給することができる。そして、基材ホルダの内表面側を通過する清浄空気が開口部から基材ホルダの底面側へと流れるため、基材ホルダの低面側からの異物侵入などを防ぐことができる。
したがって、品質低下を防止する効果をさらに高めることができる。さらに、基材および基材ホルダをより短時間で冷却することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００１１】
［適用例５］
適用例４に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、前記基材ホルダから離隔移動可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることが好ましい。
本適用例によれば、清浄空気供給手段を基材ホルダから離れた位置に移動させることが可能なので、成膜装置に対する基材ホルダの搬入および搬出を行う際に清浄空気供給手段が邪魔にならない。そのため、搬入および搬出作業を円滑に行うことができ、生産効率を向上させることができる。
また、清浄空気供給手段の吐出部を、基材ホルダの開口部から離れた位置に移動させることができるので、基材ホルダの外周面側および内周面側に供給される清浄空気量を適宜調節することができる。
例えば、当該吐出部を開口部に近接させると、より多くの清浄空気を基材ホルダの表面に対して供給することができる。一方で、当該吐出部を開口部から離隔させれば、基材ホルダ表面に供給される清浄空気が減少するものの、基材の装着および取り外し作業時において、清浄空気の風圧による作業性の低下を防止することが出来る。
【００１２】
［適用例６］
適用例５に係る本適用例では、前記清浄空気供給手段は、互いに直交する３軸方向に移動可能に取り付けられていることが好ましい。
本適用例によれば、適用例５と同様の効果を奏するとともに、適用例５よりも基材ホルダに対する清浄空気供給手段の位置調整を行い易くすることができる。
【００１３】
［適用例７］
適用例１から適用例６までのいずれかに係る本適用例では、前記保持部材は、昇降可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることが好ましい。
本適用例によれば、基材ホルダに対する基材の装着および取り外し作業を行う際の作業性を考慮して保持部材の高さ位置を変化させることができるので、作業性を向上させることができる。
【００１４】
［適用例８］
適用例４から適用例７までのいずれかに係る本適用例では、前記基材ホルダにおける前記基材の未装着部位に遮蔽板が装着されていることが好ましい。
基材ホルダの基材装着部位すべてに基材が装着されておらず、基材未装着部位がある場合に、そのままで清浄空気供給手段から清浄空気を供給したとしても、清浄空気の流れは基材未装着部位で乱れてしまい、全ての基材表面に対して清浄空気が安定して供給されない。その結果、清浄空気の供給が不十分な部位に装着されている一部の基材の品質低下を招いてしまう。
しかし、本適用例によれば、基材未装着部位には遮蔽板が装着されているため、清浄空気の流れが乱れることが無く、基材に対して清浄空気を安定して供給することができる。したがって、品質の低下を防止することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態にかかる外段取り装置および成膜装置の概略図。
【図２】前記実施形態に係る外段取り装置の保持部の拡大図。
【図３】前記実施形態に係る基材ホルダの斜視図。
【図４】前記実施形態に係る基材ホルダの断面拡大図。
【図５】前記実施形態に係る基材ホルダを保持した状態を示す図。
【図６】前記実施形態に係る基材ホルダを保持した状態の拡大図。
【図７】前記実施形態に係る外段取り装置の移動後を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
〔外段取り装置〕
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１には、本実施形態にかかる外段取り装置１、成膜装置２および成膜装置２に収容された基材ホルダ４が示されている。外段取り装置１および成膜装置２はクリーンルーム６内に配置されている。
外段取り装置１は、移動可能フレーム１０と、この移動可能フレーム１０に取り付けられた保持部材２０と、同じく移動可能フレーム１０に取り付けられた清浄空気供給手段３０とを備えて構成される。
【００１７】
移動可能フレーム１０は、上下方向に延びるメインフレーム１１を備えており、このメインフレーム１１の下端部には、メインフレーム１１から連続して形成された水平方向に延びる下フレーム１２を備えている。
この下フレーム１２には、外段取り装置１が移動可能なように車輪１３が取り付けられている。
【００１８】
保持部材２０は、基材５が装着された基材ホルダ４を保持する。
保持部材２０は、メインフレーム１１に対して水平方向に延びる保持フレーム２１と、この保持フレーム２１上に設けられるとともに基材ホルダ４を保持するための保持部２２と、保持部２２の内側に設けられる整流板２３とで構成されている。なお、詳細は後述するが、基材ホルダ４は円錐型ドーム状に形成されている（図３参照）。
保持フレーム２１は、昇降機構２４を介してメインフレーム１１に取り付けられているため、保持部材２０は昇降移動が可能になっている。
【００１９】
図２には、保持部材２０の拡大図が示されている。
保持部２２は、基材ホルダ４を載せるための平面部２２Ａと、基材ホルダ４の保持位置を保持部２２に合わせるための位置合わせ部２２Ｂとで構成されている。位置合わせ部２２Ｂは、平面部２２Ａに対して所定の傾斜角度で起立して形成されている。図２中では、二点差線で示される基材ホルダ４の底面が平面部２２Ａ上に載せられて保持されている。
整流板２３は円錐状に形成されている。整流板２３は保持フレーム２１上に設けられた整流板保持部２５に着脱可能に取り付けられている。この整流板２３は、基材ホルダ４を保持部２２で保持する際に、基材ホルダ４のドーム状内部に収容可能なサイズに形成されている。さらに整流板２３は、基材ホルダ４のドーム状内部に収容された際に、基材ホルダ４の内表面と整流板２３の外表面との間に所定間隔の隙間Ｄが生ずるサイズに形成されている。この隙間Ｄが清浄空気の流通路として利用される。この隙間Ｄに清浄空気が流れることにより一層効率の高い冷却効果が発生する。清浄空気供給手段３０からの送風量に対して、基材と清浄空気の接触面積が大きくなる為である。
【００２０】
清浄空気供給手段３０は、基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給するためのものである。清浄空気供給手段３０としては、代表的なものとしてＦＦＵ（ファンフィルターユニット）等が挙げられる。
本実施形態で用いる清浄空気供給手段３０は、その上面側に設けられた吸気部３１から、シロッコファンなどの図示しないファンによって空気を取り込む（図１参照）。そして、清浄空気供給手段３０の内部には図示しないフィルタが取り付けられ、取り込んだ空気はそのフィルタを通過して、除塵される。その後、除塵された清浄空気は、清浄空気供給手段３０の下面側に設けられた吐出部３２から吐出される。フィルタとしては、エアフィルタとして、ＨＥＰＡフィルタやＵＬＰＡフィルタ等を、それぞれ１枚もしくは複数枚を組み合わせて用いることができる。高い清浄度が要求される場合には、ＵＬＰＡフィルタが使用される。
また、清浄空気供給手段３０には、図示しない温度調節機能および除湿機能が設けられている。そのため、清浄空気供給手段３０からは、冷風や乾燥温風等も供給される。
【００２１】
清浄空気供給手段３０は、第１移動機構３３を介して水平方向に延びる上フレーム３４に設けられている。そして上フレーム３４は、第２移動機構３５を介してメインフレーム１１に取り付けられている。
清浄空気供給手段３０は、第１移動機構３３によって、紙面に対して垂直方向（Ｙ方向）に移動することができる。また、第２移動機構３５によって、上フレーム３４は、紙面平面内で上下方向（Ｚ方向）および左右方向（Ｘ方向）に移動することができる。すなわち、清浄空気供給手段３０は、互いに直交する３軸方向に移動可能にメインフレーム１１に対して取り付けられている。
【００２２】
〔基材ホルダ〕
図３には、円錐型ドーム状に形成されている基材ホルダ４が示されている。
また、図４には基材ホルダ４の断面拡大図が示されている。
基材ホルダ４には、その頂部から放射状に、窓部４１が設けられている。この窓部４１の枠には基材５を装着させるための治具４２が予め取り付けられている。基材５が装着されると、基材ホルダ４の内表面側に基材５の表面（成膜面）が露出した状態になるので、この内表面側に露出した基材５の表面上に膜が形成されることになる。
また、基材ホルダ４の頂部には、清浄空気供給手段３０から供給される清浄空気を基材ホルダ４のドーム内部へと導入するための開口部４３が設けられている。
なお、基材ホルダ４のすべての窓部４１に対して基材５を装着させない場合には、当該未装着部には、基材ホルダ４の内表面側と外表面側とが窓部４１を介して連通しないように、窓部４１を覆うための遮蔽板５’が取り付けられる。窓部４１を覆うことができればよいので、例えば、遮蔽板５’としては図４に示すような基材５と同じサイズの板状体などが用いられる。
【００２３】
〔成膜装置〕
成膜装置２は、被成膜対象の基材５を保持する基材ホルダ４を収容し、真空状態下で基材５の成膜面に膜を形成させるためのものである。成膜装置２はクリーンルーム６内に設置されているため、成膜装置２の扉が開放されても、基材ホルダ４や基材５の表面は清浄に保たれる。
成膜装置２の内部には、基材ホルダ４を回転させるための回転機構が設けられている。図１に示されるように、レール２２に備え付けられた回転歯車２１が、基材ホルダ４の底面部を支持して回転させる。また、成膜装置２の上方にも図示しない回転機構が設けられ、基材ホルダ４を支持し回転させる。これらの回転機構は、基材ホルダ４が装置外へ搬出される際には、待避可能に設けられている。
また、成膜装置２内の底部には成膜原材料が配置されている。例えば、成膜装置２が真空蒸着装置であれば、この成膜原材料を加熱蒸発させることで、基材ホルダ４に保持された基材５の成膜面に成膜原材料が付着して析出し、膜が形成される。
その他、成膜装置２は、従来の成膜装置が備える構成も備えている。
【００２４】
〔外段取り装置の動作１〕
次に、本実施形態に係る外段取り装置１の動作について説明する。
なお、説明上、基材５の表面には、すでに膜が形成された状態であるとする。また、成膜処理は成膜装置２が設置されているクリーンルーム６で行われ、その後、別のクリーンルーム７（図７参照）で、基材ホルダ４および基材５を冷却し、基材５を取り外すための作業が行われるものとする。
【００２５】
図１には、クリーンルーム６内の、基材ホルダ４を保持していない状態の外段取り装置１と基材ホルダ４が収容された成膜装置２とが示されている。
まず、成膜装置２の扉を開け、外段取り装置１を保持部２２が基材ホルダ４の下方に位置するまで移動させる。なお、予め、清浄空気供給手段３０や上フレーム３４は、成膜装置２や基材ホルダ４に接触しないように適宜移動させておく。
そして、保持部材２０を上方に移動させ、基材ホルダ４を保持部２２で保持させる。このとき、整流板２３は、基材ホルダ４の内部に収容され、基材ホルダ４の内表面と整流板２３の外表面との間に、隙間Ｄ（図２参照）が形成される。
基材ホルダ４を保持した後、外段取り装置１を後退させて、基材ホルダ４を成膜装置２の外へと搬出する。なお、この搬出の際には、成膜装置２内の基材ホルダ４を回転させるための回転機構も適宜待避させる。
【００２６】
次に、図５に示すように、清浄空気供給手段３０の吐出部３２が基材ホルダ４の開口部４３に面するように、清浄空気供給手段３０と保持部材２０を移動させる。そして、清浄空気供給手段３０から基材ホルダ４に対して清浄空気を供給させ、いわゆるダウンフローＦを形成させる。このとき、室温以下の冷風を供給させれば、冷却効果が高まる。
【００２７】
図６にダウンフローＦの様子を拡大して示す。開口部４３から基材ホルダ４の内表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダ４の内表面と整流板２３の外表面との間に形成された隙間Ｄを通過して、基材ホルダ４の下方から放出される。一方、基材ホルダ４の外表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダ４の外表面に沿って基材ホルダ４の下方へと流れる。
【００２８】
清浄空気の供給を開始した後、供給したままの状態で、成膜装置２が設置されたクリーンルーム６を出て、基材５の取り出し作業を行うために別のクリーンルーム７へと外段取り装置１を移動させる。
図７に示すように、クリーンルーム７へと移動した後、基材５の取り出し作業を行い易い高さ位置に調節するために、保持部材２０を昇降させる。また、清浄空気供給手段３０からの清浄空気の供給量が多すぎて取り出し作業を行い難いときは、基材ホルダ４の表面へ供給される供給量を抑えるために、基材ホルダ４の開口部４３から離れた位置に清浄空気供給手段３０を移動させる。
基材５を全て取り出し終わった基材ホルダ４は、そのまま外段取り装置１の保持部材２０で保持させたままにする。
【００２９】
〔外段取り装置の動作２〕
次に、成膜処理が行われる前の外段取り装置１の動作について説明する。
前述したように、成膜後の基材５を全て取り出し終わった基材ホルダ４は、そのまま外段取り装置１の保持部材２０で保持させたままになっている。そして、外段取り装置１は、クリーンルーム７内で待機させたままになっている。
そこで、この基材ホルダ４を用いて次の成膜処理へと移行すべく、まず基材ホルダ４に基材５を装着させる。
【００３０】
装着後は、前述と同様に、清浄空気供給手段３０の吐出部３２が基材ホルダ４の開口部４３に面するように、清浄空気供給手段３０と保持部材２０を移動させ、清浄空気供給手段３０から基材ホルダ４に対して清浄空気を供給させる。
このとき、乾燥空気を供給すれば基材５が水分を吸収することを防ぐことも出来る。さらに、乾燥温風を供給すれば基材５の加熱や、基材５に含まれていた水分を除去することもできる。
清浄空気の供給を開始した後、供給したままの状態で、成膜装置２が設置されたクリーンルーム６へと外段取り装置１を移動させる。
【００３１】
移動後は、清浄空気供給手段３０からの清浄空気の供給を停止させる。そして、清浄空気供給手段３０や上フレーム３４は、成膜装置２や基材ホルダ４に接触しないように適宜移動させる。
成膜装置２において別途進行していた成膜処理が終了し、基材ホルダが搬出された後であれば、クリーンルーム７から移動してきた外段取り装置１に保持されていた基材ホルダ４を成膜装置２へ搬入し、収容させる。
一方、成膜装置２において成膜処理が進行中であれば、成膜処理が終了するまで待機し、成膜処理が終了した後に基材ホルダ４を成膜装置２へ搬入し、収容させる。
【００３２】
〔実施形態の効果〕
以上のような本実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。
（１）ロードロック式の成膜装置を用いないため、工場等のスペースを有効利用することができる。
【００３３】
（２）成膜処理後であって基材ホルダ４が冷却される前に、成膜装置２から搬出される基材ホルダ４を保持部材２０にて保持することができる。さらに、保持部材２０に保持されている基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給することができる。そのため、冷却を待つ時間を要することなく、成膜装置２は次の成膜加工に移ることができ、生産効率を向上させることができる。そして、基材５が冷却されるまでの時間は、成膜装置２内で基材ホルダ４を放置したまま冷却する場合に比べて、大幅に短縮されるため、生産効率を向上させることが出来る。
【００３４】
（３）基材ホルダ４は、保持部材２０に保持され、清浄空気の供給を受けたまま搬送可能である。そのため、例えば、成膜装置２が設置されたクリーンルーム６から、別のクリーンルーム７へと移動する場合であっても、クリーンルーム６，７間を移動している間に、基材の表面への異物付着等が防止され、品質の低下を防止することが出来る。
そして、広いエリアのクリーンルームを設けなくても、局所的にクリーンルームを設け、適宜クリーンルーム６，７間を移動すればよいため、工場等のスペースを有効活用することができる。
【００３５】
（４）基材ホルダ４の表面に清浄な冷風を供給することができる。そのため、基材および基材ホルダをより短時間で冷却して、生産効率を向上させることができる。
【００３６】
（５）基材ホルダ４に装着された基材５の表面に乾燥温風を供給することができる。したがって、成膜前の基材５を加熱するとともに、基材５に含まれる水分を減少させることができる。そのため、成膜処理を開始するのに必要な基材温度や真空度に到達するまでの時間を短縮し、生産効率を向上させることができる。
【００３７】
（６）基材ホルダ４の頂部に形成された開口部４３を通過して、基材ホルダ４の内表面側へ供給された清浄空気は、基材ホルダ４の内表面側と整流板２３との間に形成された隙間Ｄを清浄空気の流通路として通過し、基材ホルダ４の底面側から放出される。そのため、基材ホルダ４の内表面側へ露出する成膜面に対して、より多くの清浄空気を効率的に供給することができる。そして、基材ホルダの内表面側を通過する清浄空気が開口部４３から基材ホルダ４の底面側へと流れるため、基材ホルダ４の低面側からの異物侵入などを防ぐことができる。
したがって、品質低下を防止する効果をさらに高めることができる。さらに、基材５および基材ホルダ４をより短時間で冷却することができるので、生産効率を向上させることができる。
【００３８】
（７）清浄空気供給手段３０は互いに直交する３軸方向に移動可能であるために、基材ホルダ４の開口部４３に対する清浄空気供給手段３０の吐出部３２の相対位置を適宜変化させることができる。そのため、基材ホルダ４の外周面側および内周面側に供給される清浄空気量を適宜調節することができる。
例えば、吐出部３２を開口部４３に近接させると、より多くの清浄空気を基材ホルダ４の表面に対して供給することができる。一方で、吐出部３２を開口部４３から離隔させれば、基材ホルダ４表面に供給される清浄空気が減少するものの、基材５の装着および取り外し作業時における風圧による作業性の低下を防止することが出来る。
【００３９】
（８）基材ホルダ４に対する基材５の装着および取り外し作業を行う際の作業性を考慮して保持部材２０の高さ位置を変化させることができるので、作業性を向上させることができる。
【００４０】
（９）基材５を装着させていない部位がある場合には遮蔽板５’を装着させるため、清浄空気の流れが乱れることが無く、基材５に対して清浄空気を安定して供給することができる。したがって、品質の低下を防止することが出来る。
【００４１】
〔変形例〕
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、保持部２２を、保持フレーム２１上でその位置を変更可能に取り付けても良い。そうすれば、基材ホルダ４のサイズに応じて、保持部２２の位置を変更することができることになり、様々なサイズの基材ホルダ４を保持可能な外段取り装置とすることができる。
なお、整流板２３も整流板保持部２５に対して着脱可能に取り付けられているので、基材ホルダ４のサイズに応じた整流板２３を取り付けることができる。そのため、基材ホルダ４と整流板２３との隙間Ｄを適切に調整することができる。
【００４２】
また、前記実施形態においては、清浄空気供給手段３０の移動可能な方向は、互いに直交する３軸方向として説明したが、これに限られない。例えば、メインフレーム１１を軸とした回転方向への移動機構を設けることで、首振り動作が可能になり、清浄空気供給手段３０の位置をよりフレキシブルに移動させることができる。
【００４３】
また、前記実施形態においては、基材ホルダ４を保持部２２に載置して保持する態様で説明したが、例えば、保持部２２に基材ホルダ４を回転させるための機構を設けても良い。そうすれば、基材ホルダ４を回転させながら、基材５の装着および取り外しが可能になり、作業性を向上させることができる。
【００４４】
また、前記実施形態においては、外段取り装置１が移動可能なように下フレーム１２に車輪１３が取り付けられているが、これに限られない。例えば、クローラー等、その他の移動機構によって、外段取り装置１を移動させても良い。
【００４５】
また、前記実施形態においては、基材ホルダ４の内表面側と整流板２３との間に形成される隙間Ｄに清浄空気を供給させているが、これに限られない。例えば、基材ホルダ４の頂部に形成された開口部４３から基材ホルダ４の内表面側に清浄な空気をより多く供給し、成膜面を清浄に保つことができれば、整流板２３を保持部材２０上に設置しない形態も採り得る。
【符号の説明】
【００４６】
１…外段取り装置、２…成膜装置、４…基材ホルダ、５…基材、５’…遮蔽板、１０…移動可能フレーム、２３…整流板、３０…清浄空気供給手段、３２…吐出部、４３…開口部、Ｄ…隙間
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜装置内に配置されるとともに被成膜対象の基材が装着される基材ホルダを保持する保持部材と、
この保持部材が取り付けられた移動可能フレームと、
この移動可能フレームに取り付けられるとともに、前記基材ホルダの表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段と
を備えたことを特徴とする外段取り装置。
【請求項２】
請求項１に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、冷風を供給することを特徴とする外段取り装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、温度調節機能および除湿機能を備えていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の外段取り装置において、
前記基材ホルダはドーム状に形成されるとともに頂部には開口部が設けられ、
前記保持部材には、前記基材ホルダを保持した際に前記基材ホルダの内表面側との間に隙間が形成されるように整流板が配置され、
前記清浄空気供給手段には、清浄空気を吐出するとともに、前記基材ホルダを保持した際に前記開口部に面して配置される吐出部が設けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項５】
請求項４に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、前記基材ホルダから離隔移動可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項６】
請求項５に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、互いに直交する３軸方向に移動可能に取り付けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載の外段取り装置において、
前記保持部材は、昇降可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項８】
請求項４から請求項７までのいずれかに記載の外段取り装置において、
前記基材ホルダにおける前記基材の未装着部位に遮蔽板が装着されていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項１】
成膜装置内に配置されるとともに被成膜対象の基材が装着される基材ホルダを保持する保持部材と、
この保持部材が取り付けられた移動可能フレームと、
この移動可能フレームに取り付けられるとともに、前記基材ホルダの表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段と
を備えたことを特徴とする外段取り装置。
【請求項２】
請求項１に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、冷風を供給することを特徴とする外段取り装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、温度調節機能および除湿機能を備えていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれかに記載の外段取り装置において、
前記基材ホルダはドーム状に形成されるとともに頂部には開口部が設けられ、
前記保持部材には、前記基材ホルダを保持した際に前記基材ホルダの内表面側との間に隙間が形成されるように整流板が配置され、
前記清浄空気供給手段には、清浄空気を吐出するとともに、前記基材ホルダを保持した際に前記開口部に面して配置される吐出部が設けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項５】
請求項４に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、前記基材ホルダから離隔移動可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項６】
請求項５に記載の外段取り装置において、
前記清浄空気供給手段は、互いに直交する３軸方向に移動可能に取り付けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれかに記載の外段取り装置において、
前記保持部材は、昇降可能に前記移動可能フレームに対して取り付けられていることを特徴とする外段取り装置。
【請求項８】
請求項４から請求項７までのいずれかに記載の外段取り装置において、
前記基材ホルダにおける前記基材の未装着部位に遮蔽板が装着されていることを特徴とする外段取り装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１８９７４０（Ｐ２０１０−１８９７４０Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−３７３８８（Ｐ２００９−３７３８８）
【出願日】平成２１年２月２０日（２００９．２．２０）
【出願人】（０００００３１０４）エプソントヨコム株式会社 (1,528)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月２０日（２００９．２．２０）
【出願人】（０００００３１０４）エプソントヨコム株式会社 (1,528)
【Ｆターム（参考）】
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