多層フィルムおよびそれを用いた偏光板
【課題】透明性、位相差制御性、耐湿熱性に優れ、かつ環境にも配慮した多層フィルムおよびそれを用いた偏光板を提供する。
【解決手段】ポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である層５（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）からなる層６（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である多層フィルム７およびそれを用いた偏光板。
【解決手段】ポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である層５（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）からなる層６（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である多層フィルム７およびそれを用いた偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は特に光学用途において用いられる多層フィルムおよびそれを用いた偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置はテレビやパソコンモニター、携帯情報端末等の表示デバイスとして広く使用されている。液晶表示装置には通常、偏光板が用いられているが、これは一般の液晶表示装置では偏光を利用しているためである。偏光板は、光源の自然偏光を直線偏光に変換するため、また、液晶セル等によって制御された偏光情報を透過率情報に変換するための偏光変換素子として使用されている。この偏光板には各種の提案があるが、もっとも一般的に利用されている偏光板の形態は、２枚の保護フィルムの間に偏光変換を行う偏光膜が挟持された構造を有するものである。偏光膜としては主としてポリビニルアルコール延伸フィルム中に２色性色素が配向状態で存在しているものが好適に利用されている。一方、保護フィルムはこの偏光膜が、単体では耐熱、耐湿熱試験における寸法安定性や、耐光性、耐磨耗性等の特性を満足できないために使用される。
【０００３】
偏光板用保護フィルムとしてはいくつか提案があるが、トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」と略記することがある。）フィルムが最も広く利用されている。最近では保護フィルムに偏光変換素子の一種である位相差フィルムを兼ねさせる例も提案され、実用に供されている。ＴＡＣは半合成樹脂であり、樹脂に関しては部分的ではあるが植物由来原料を使用しているという点において環境に配慮した材料であるといえる。しかし、そのポリマーの物性上、フィルム製造方法として溶液キャスト法を用いることが必要であり、製造時に大量のハロゲン溶媒を使用するため、環境負荷が大きく、そのフィルムは真に環境に配慮した材料とは言い難い。
【０００４】
ポリ乳酸は植物由来材料として石油系樹脂の代替と成りうる可能性をもつだけではなく、溶媒を用いない溶融押出法にてフィルム化が可能であるために環境配慮型の材料としては好適であり、さらに、結晶性であるにも関わらず高い透明性を保有するなど光学特性に特長があり、それを活かした用途展開が期待されている。実際に、ポリ乳酸を偏光板の保護フィルムとして用いようとする発明が提案されている（例えば、特許文献１、２、３等参照）。
【０００５】
しかしながら、ポリ乳酸は現時点において偏光板の保護フィルムとしては利用されていない。技術的課題の１つは、機械的強度を得ようとして延伸をすると、ポリ乳酸は結晶性高分子であるがゆえに光学的な異方性が無視できないほどに大きくなる点である。
【０００６】
さらにポリ乳酸は、生分解性であることが知られていることからも、分解しやすいといった特徴を有する。特に加水分解が生じやすいといった問題がある。この加水分解を抑制する手法は既に提案されている（特許文献４）。この提案において用いられているカルボジイミド化合物は、線状のカルボジイミド化合物である。線状カルボジイミド化合物を高分子化合物の末端封止剤として用いると、線状カルボジイミド化合物が高分子化合物の末端に結合する反応に伴いイソシアネート基を有する化合物が遊離し、イソシアネート化合物の独特の臭いを発生し、作業環境を悪化させることが問題となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−８２２２３号公報
【特許文献２】特開２００１−３３７２０１号公報
【特許文献３】特開２００４−２５２２６３号公報
【特許文献４】特開２００１−２６１７９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記した従来技術の問題を解決することにあり、透明性に優れ、光学異方性が小さく、かつ環境にも配慮した光学用途に最適な多層フィルムおよびそれを用いた偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記従来技術に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の第１の目的は、
１．ポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である層（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）からなる層（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である多層フィルムによって達成される。
｛ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（△Ｈｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（△Ｈｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求める。
（Ｓ）＝〔△Ｈｍｓｃ ／ （△Ｈｍｈ ＋△Ｈｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）｝
【００１０】
上記の発明には、以下も包含される。
２．Ｐ層が、さらにアクリル系樹脂（Ｂ成分）を含む、前記１記載の多層フィルム。
３．Ｃ成分が下記式（１）で表される前記１または２記載の多層フィルム。
【化１】
（式中、Ｑは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２〜４価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
４．Ｑは、下記式（１−１）、（１−２）または（１−３）で表される２〜４価の結合基である前記３記載の多層フィルム。
【化２】
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基である。Ｒ１およびＲ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基またはこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基の組み合わせである。Ｘ１およびＸ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。ｓは０〜１０の整数である。ｋは０〜１０の整数である。なお、ｓまたはｋが２以上であるとき、繰り返し単位としてのＸ１、あるいはＸ２が、他のＸ１、あるいはＸ２と異なっていてもよい。Ｘ３は、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。但し、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はヘテロ原子を含有していてもよい、また、Ｑが２価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は全て２価の基である。Ｑが３価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが３価の基である。Ｑが４価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
【００１１】
５．Ｃ成分が、下記式（２）で表される前記３記載の多層フィルム。
【化３】
（式中、Ｑａは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
６．Ｑａは、下記式（２−１）、（２−２）または（２−３）で表される２価の結合基である前記５記載の多層フィルム。
【化４】
（式中、Ａｒａ１、Ａｒａ２、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｘａ１、Ｘａ２、Ｘａ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）中のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。）
【００１２】
７．Ｃ成分が、下記式（３）で表される前記３記載の多層フィルム。
【化５】
（式中、Ｑｂは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである３価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Ｙは、環状構造を担持する担体である。）
８．Ｑｂは、下記式（３−１）、（３−２）または（３−３）で表される３価の結合基である前記７記載の多層フィルム。
【化６】
（式中、Ａｒｂ１、Ａｒｂ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｘｂ１、Ｘｂ２、Ｘｂ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但しこれらの内の一つは３価の基である。）
９．Ｙは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである前記７または８記載の多層フィルム。
【００１３】
１０．Ｃ成分が、下記式（４）で表される前記３記載の多層フィルム。
【化７】
（式中、Ｑｃは、脂肪族基、芳香族基、脂環族基またはこれらの組み合わせである４価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。Ｚ１およびＺ２は、環状構造を担持する担体である。）
１１．Ｑｃは、下記式（４−１）、（４−２）または（４−３）で表される４価の結合基である前記１０記載の多層フィルム。
【化８】
（式中、Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２、Ｘｃ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）の、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、これらの内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
１２．Ｚ１およびＺ２は各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである前記１０または１１記載の多層フィルム。
【００１４】
１３．Ｄ成分がポリメチルメタクリレートまたはポリメチルメタクリレート／ポリスチレン共重合体を含む、前記１〜１２のいずれか記載の多層フィルム。
１４．多層フィルムの積層構成がＰ層／Ｎ層／Ｐ層またはＮ層／Ｐ層／Ｎ層の３層構成である、前記１〜１３のいずれか記載の多層フィルム。
１５．３層構成における中間層が紫外線吸収剤を含有する、前記１４記載の多層フィルム。
１６．略光学等方である、前記１〜１５のいずれか記載の多層フィルム。
【００１５】
また、本発明の第３の目的は、
１７．前記１〜１６のいずれか記載の多層フィルムを用いたことを特徴とする偏光板、によって達成することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、透明性に優れ、光学的異方性が小さく、かつ環境にも配慮した光学用途に適した多層フィルムおよびそれを用いた偏光板を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明における多層フィルムの一態様を示す模式図である。
【図２】本発明における多層フィルムの一態様を示す模式図である。
【図３】本発明における偏光板の一態様を示す模式図である。
【図４】本発明における偏光板の一態様を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜多層フィルム＞
本発明における多層フィルムは、ポリ乳酸（Ａ成分）と、カルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である樹脂層（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）層（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上であることを特徴とする。
｛ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（△Ｈｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（△Ｈｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求める。
（Ｓ）＝〔△Ｈｍｓｃ ／ （△Ｈｍｈ ＋△Ｈｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）｝
【００１９】
本発明で言う光学的に正または負である樹脂層とは、それぞれ単独に縦一軸延伸した際に、層面内の屈折率の最大方位が延伸方向となるものを正である樹脂層（Ｐ層）、層面内の屈折率の最大方位が延伸方向と直交する方向となるものを負である樹脂層（Ｎ層）と定義する。なお、延伸条件は当該各樹脂層のガラス転移点温度（Ｔｇ）−１０℃からＴｇ＋２０℃の範囲で延伸し、屈折率異方性の評価はエリプソメータによって測定波長５５０ｎｍで行うものとする。
【００２０】
本発明の多層フィルムは、少なくともＰ層とＮ層の１層ずつを含むことが必要である。好ましくは３層以上であり、より好ましくは３層で、Ｎ／Ｐ／Ｎ，Ｐ／Ｎ／Ｐのような対称構造を取ることが多層フィルムのカール防止の点で好ましい。光学異方性が互いに逆の特性を有するＮ層、Ｐ層が積層されることにより光学的異方性は打ち消され、異方性の小さい多層フィルムを得ることが可能となる。
【００２１】
最適な光学異方性は多層フィルムの用途によって異なるが、偏光板の保護フィルムに位相差フィルム機能を付与しない場合においては、当該保護フィルムは光学的に等方であることが好ましく、この用途に本発明の多層フィルムを用いる場合には、好ましい光学的異方性は下記式により表される。
Ｒ０ ＜ １０ｎｍ （４０）
Ｒｔｈ ＜ ７０ｎｍ （４１）
（ここで、Ｒ０，Ｒｔｈはそれぞれ、
Ｒ０ ＝ （ｎｘ−ｎｙ） × ｄ （４２）
Ｒｔｈ ＝ ｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ （４３）
で表され、ｄは多層フィルムの膜厚、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは多層フィルムの三次元屈折率であり、ｎｘはフィルム面内の最大屈折率方位の屈折率、ｎｙはフィルム面内でｎｘに直交する方位の屈折率、ｎｚはフィルム表面に垂直な方向の屈折率と定義する。Ｒ０、Ｒｔｈはエリプソメータ等の公知の方法により評価できるが、本発明においては、特に断りが無ければ測定波長は５５０ｎｍとする。）
より好ましくは、
Ｒ０ ＜ ７ｎｍ （４４）
Ｒｔｈ ＜ ５０ｎｍ （４５）
さらに好ましくは、
Ｒ０ ＜ ５ｎｍ （４６）
Ｒｔｈ ＜ ３０ｎｍ （４７）
である。
透明性の点でヘーズは３％以下であることが好ましく、より好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
【００２２】
＜多層フィルムの製造＞
本発明の多層フィルムを得るには、押出成形、キャスト成形等の公知の成形手法を用いることができる。例えば、Ｔダイ、Ｉダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、製膜することができる。好ましくは、マルチマニュホールドダイかフィードブロック、ダブリング設備等多層化のための設備を接続したＴダイまたはＩダイによる多層押出成形を用いることが好ましい。これらは層数や樹脂の物性等により最適な方法が選択される。
【００２３】
多層押出成形により多層フィルムを得る場合、例えば、Ｐ層の場合、事前にポリ乳酸（Ａ成分）および他の成分を溶融混練した材料を用いることもできれば、押し出し成形時に溶融混練を経て成形することもできる。Ｎ層も同様にかつ同時に成形し多層フィルムを形成することが可能である。多層フィルム成形において問題となるシャークスキンや層厚のばらつきを抑制するには、各層に用いる樹脂の溶融粘度が近いほうが好ましい。具体的にはＰ層とＮ層の樹脂の同温度におけるメルトフローレートの差が２０（ｇ／１０ｍｉｎ）以下であることが好ましく、より好ましくは１０以下である。このメルトフローレートはＩＳＯ１１３３の方法で測定される。
【００２４】
また、溶融粘度の観点からも融点が近い方が好ましく、各層の融点の温度差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは２０℃以下、さらに好ましくは１０℃以下である。本発明においては、特に断りが無ければ、本発明におけるＴｇ、Ｔｍおよび結晶化温度（Ｔｃ）は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、昇温速度２０℃／分で求めた第一回昇温時の値であるとする。
【００２５】
Ｐ層の樹脂は結晶性高分子であるが、Ｎ層の樹脂は結晶性または非晶性高分子のいずれであってもよい。Ｎ層を結晶性とした場合には、Ｎ層の樹脂はＰ層の樹脂とガラス転移点温度（Ｔｇ）、融点（Ｔｍ）が近いことが好ましい。Ｔｇの差は３０℃以下であることが好ましく、２０℃以下がより好ましく、さらに好ましくは１０℃以下である。Ｔｍの差も同様に、３０℃以下であることが好ましく、２０℃以下がより好ましく、さらに好ましくは１０℃以下である。両者のＴｍの差が３０℃を超えた場合には、多層溶融押出工程において、層厚のムラ等の問題が発生する場合があり、また、Ｔｇの差が３０℃を超えた場合には、延伸工程において延伸ムラ等の問題が発生する場合がある。
【００２６】
一方、Ｎ層の樹脂を非晶性高分子とした場合には、Ｐ層の樹脂の結晶化温度（Ｔｐｃ）はＮ層のガラス転移点温度（Ｔｎｇ）よりも高いことが好ましい。ＴｐｃはＴｎｇよりも５℃以上高いことが好ましく、さらに好ましくは１０℃以上である。ＴｐｃがＴｎｇよりも低い場合には、延伸工程においては各層のＴｇ近傍以上で延伸が行われることから、Ｐ層の結晶化が延伸時に発生し、クレーズの発生等により透明性を確保できない場合がある。
【００２７】
多層フィルムは、溶融フィルムを冷却ドラム上に押出しついで該フィルムを回転する冷却ドラムに密着させ冷却することによって製造することができる。このとき溶融フィルムにはスルホン酸四級ホスホニウム塩等の静電密着剤を配合し、電極よりフィルム溶融面に非接触的に電荷を容易に印加し、それによってフィルムを、回転する冷却ドラムに密着させることにより表面欠陥の少ない多層フィルムを得てもよい。その際、押出し用ダイのリップ開度と冷却ドラム上に押出されたシートとの厚みとの比（ドラフト比）が２以上、８０以下であることが好ましい。ドラフト比が２より小さくなると押出しダイリップからの引取り速度が遅くなり過ぎ、ダイリップからのポリマーの離れ速度が遅いため、ダイリップスジ欠点などの欠点が多くなり好ましくない場合がある。この観点からドラフト比は３以上が好ましく、５以上がより好ましく、９以上が更に好ましく、１５以上が特に好ましい。また、ドラフト比が８０より大きくなるとポリマーがダイリップから離れる時の変形が大きすぎるためか流動が不安定となり厚み変動（厚み斑）が悪くなり、好ましくない場合がある。この観点からはドラフト比は６０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることが特に好ましい。
【００２８】
溶融押出フィルムを得るためには、ダイから出された溶融状態にある樹脂は急冷されることが好ましい。したがって、冷却ドラムの温度は各層樹脂のガラス転移点温度＋２０℃以下であることが好ましいが、多層フィルムのうちの冷却ドラムに接する層のガラス転移点温度＋２０℃以下であることがより好ましい。Ｐ層を冷却ドラムに接する層とした場合には、冷却ドラムは１０℃〜７０℃に設定されることが好ましく、より好ましくは２０℃〜６０℃、最も好ましくは３０℃〜５０℃である。冷却ドラムの温度が１０℃未満では冷却ドラムとの密着性が悪くなる場合があり、また、７０℃より高い温度の場合には、冷却不足による結晶化等のため透明性に問題が発生する場合がある。
【００２９】
多層フィルムの延伸は、公知の縦一軸延伸、横一軸延伸、同時二軸延伸等により行うことができ、該フィルムは、結晶性を高めるため、また、熱収縮性などの抑制のため延伸後、熱固定処理を行ってもよい。
【００３０】
延伸倍率は目的や樹脂の種類等によって適宜決定される。多層フィルムは、面積延伸倍率（縦倍率×横倍率）は、好ましくは６．０倍以下、より好ましくは４．０倍以下、さらに好ましくは３倍以下の範囲であり、好ましくは１．０５倍以上、さらに好ましくは１．１倍以上の範囲である。面積延伸倍率を６．０倍以上とした場合には、延伸性が悪くなり延伸中に破断が発生する頻度が上昇する等の問題が生じる場合がある。倍率が１．０５倍未満では、機械的強度が不十分となる場合がある。
【００３１】
延伸温度は、多層フィルムを構成する樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）から結晶化温度（Ｔｃ）の範囲が好適に選択される。
Ｔｇより低い温度では分子鎖が固定されているので、延伸加工を好適に進めることが困難であるとともに、またＴｃ以上では延伸時に結晶化が進み、この場合も延伸工程を良好に進行させることが困難となる場合がある。
【００３２】
従って延伸温度としては、各層を構成する樹脂のうち、最も高いＴｇを有する樹脂のＴｇ−１０℃以上がより好ましく、Ｔｇ−５℃以上がさらに好ましく、最も低いＴｃを有する樹脂のＴｃ＋１０℃以下がより好ましく、Ｔｃ＋５℃以下がさらに好ましく、最も好ましくはＴｃ以下である。
【００３３】
熱固定処理については、多層フィルムを構成する樹脂のうち最もＴｃの高い結晶性樹脂の結晶化温度（Ｔｃ）から、各層を構成する樹脂のうち最も低い融点（Ｔｍ）の温度範囲で熱固定処理することが好ましい。この熱固定処理をすることにより、ステレオコンプレックスポリ乳酸を含む各層の結晶性高分子の結晶化を進め、熱収縮率を好適に低下させることができる。
【００３４】
熱固定処理は１秒間から３０分間の範囲で実施することが好ましい。熱処理温度が高いときは相対的に短い時間で、熱固定処理温度が低いときは相対的に長い時間の熱処理を要する。
【００３５】
＜Ｐ層＞
Ｐ層の樹脂としては、後述するポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）を含むことが必須であるが、それ以外の成分を含んでいてもよい。
【００３６】
Ｐ層樹脂中のポリ乳酸（Ａ成分）成分の含有量は４０重量％以上であることが好ましく、さらに好ましくは５０重量％以上、より好ましくは６０重量％以上、特に好ましくは７０％重量以上、最も好ましくは７５重量％以上である。ポリ乳酸（Ａ成分）の含有量が４０重量％未満であると、ポリ乳酸（Ａ成分）の結晶化が生じにくくなり、耐熱性に問題が生じる場合等がある。ポリ乳酸（Ａ成分）以外の樹脂を含有させる場合には、多層フィルム成形性の観点から熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。
【００３７】
ポリ乳酸以外の熱可塑性樹脂としては、たとえばポリ乳酸樹脂以外のポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、芳香族ポリケトン樹脂、脂肪族ポリケトン樹脂、フッソ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリイミド樹脂、熱可塑性澱粉樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ビニルエステル系樹脂、ＭＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００３８】
特に好ましくは、ポリ乳酸（Ａ成分）との相溶性が良く、また屈折率が近いという観点からアクリル系樹脂（Ｂ成分）、とりわけ、ポリメチルメタクリレート（以下、ＰＭＭＡと略記することがある。）である。多層フィルムのＰ層におけるアクリル系樹脂（Ｂ成分）含有量としては、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下である。アクリル系樹脂（Ｂ成分）が５０重量％より多い場合においてはポリ乳酸（Ａ成分）を結晶化させることが困難であり、耐熱性等に問題が生じる場合がある。アクリル系樹脂（Ｂ成分）については後述する。
【００３９】
＜ポリ乳酸（Ａ成分）＞
本発明において、Ｐ層樹脂は、ポリ乳酸（Ａ成分）を含む。ポリ乳酸（Ａ成分）は、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含み、ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である。
【００４０】
ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃
未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（ΔＨｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（ΔＨｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求められる値である。
（Ｓ）＝〔ΔＨｍｓｃ ／ （ΔＨｍｈ ＋ ΔＨｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）
【００４１】
ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は好ましくは９３％から１００％、より好ましくは９５％から１００％の範囲が選択される。特に好ましくはステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は１００％である。
【００４２】
ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上であるポリ乳酸をＰ層樹脂として用いると、多層フィルムの透明性を高く保つことが可能である。また、耐熱性も高いものとなる。
【００４３】
上述のステレオコンプレックス結晶化度を好適に満たすために、ポリ乳酸（Ａ成分）において、ポリＤ−乳酸成分とポリＬ−乳酸成分との重量比は９０／１０から１０／９０であることが好ましい。
【００４４】
より好ましくは８０／２０から２０／８０、さらに好ましくは３０／７０から７０／３０、とりわけ好ましくは４０／６０から６０／４０の範囲であり、理論的には１／１にできるだけ近い方が好ましく選択される。
【００４５】
多層フィルムにおけるポリ乳酸（Ａ成分）の結晶化の度合いとしては、広角Ｘ線回折（ＸＲＤ）測定による回折ピークの強度比によって、式（ＩＩ）で定義されるステレオコンプレックス結晶化率（Ｓｃ）が５０％以上を有することがより好ましく、好ましくは５０から１００％、さらに好ましくは７０から１００％、とりわけ好ましくは９０から１００％の範囲が選択される。すなわちポリ乳酸（Ａ成分）が上記（Ｓｃ）を有することにより、フィルムの透明性、耐熱性、耐湿熱性をより好適に満たすことができる。特に透明性に関しては、ステレオコンプレックス結晶を有しないポリ乳酸に比べて、著しくヘーズを低減することが可能であり、光学用途に用いられるフィルムとしてはより好適である。
Ｓｃ（％）＝〔ΣＩＳＣｉ／（ΣＩＳＣｉ＋ＩＨＭ）〕×１００ （ＩＩ）
［ここで、ΣＩＳＣｉ＝ＩＳＣ１＋ＩＳＣ２＋ＩＳＣ３、ＩＳＣｉ（ｉ＝１から３）はそれぞれ２θ＝１２．０°， ２０．７°， ２４．０°付近の各回折ピークの積分強度、ＩＨＭは２θ＝１６．５°付近に現れるホモ結晶に由来する回折ピークの積分強度ＩＨＭを表す。］
【００４６】
さらにポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶の融点は１９０から２５０℃、より好ましくは２００から２３０℃の範囲が好適に選択され、ＤＳＣ測定による結晶融解エンタルピーは、２０Ｊ／ｇ以上、好ましくは２０から８０Ｊ／ｇ、より好ましくは３０から８０Ｊ／ｇの範囲が選択される。
【００４７】
また、本発明におけるポリＬ‐乳酸成分およびポリＤ‐乳酸成分の重量平均分子量は、フィルムの機械物性及び成形性を両立させるため、好ましくは１０万から５０万、より好ましくは１１万から３５万、さらに好ましくは１２から２５万の範囲が選択される。
【００４８】
ポリＬ‐乳酸成分およびポリＤ‐乳酸成分は、従来公知の方法で製造することができる。
例えば、Ｌ‐ラクチドまたはＤ‐ラクチドを金属含有触媒の存在下、開環重合することにより製造することができる。また金属含有触媒を含有する低分子量のポリ乳酸を、所望により結晶化させた後、あるいは結晶化させることなく、減圧下または常圧から加圧下、不活性ガス気流の存在下、あるいは非存在下、固相重合させ製造することもできる。さらに有機溶媒の存在または非存在下、乳酸を脱水縮合させる直接重合法により製造することができる。
【００４９】
重合反応は、従来公知の反応容器で実施可能であり、例えば開環重合あるいは直接重合法においてはヘリカルリボン翼等、高粘度用撹拌翼を備えた縦型反応器あるいは横型反応器を単独、または並列して使用することができる。また、回分式あるいは連続式あるいは半回分式のいずれでも良いし、これらを組み合わせてもよい。
【００５０】
重合開始剤としてアルコールを用いてもよい。かかるアルコールとしては、ポリ乳酸の重合を阻害せず不揮発性であることが好ましく、例えばデカノール、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスルトールなどを好適に用いることができる。
【００５１】
固相重合法で使用するポリ乳酸プレポリマーは、予め結晶化させることが、樹脂ペレット融着防止の面から好ましい実施形態と言える。プレポリマーは固定された縦型或いは横型反応容器、またはタンブラーやキルンの様に容器自身が回転する反応容器（ロータリーキルン等）中、プレポリマーのガラス転移点温度から融点未満の温度範囲において固体状態で重合される。
【００５２】
金属含有触媒としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類、遷移金属類、アルミニウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、チタン等の脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラート等が例示される。
【００５３】
なかでもスズ、アルミニウム、亜鉛、カルシウム、チタン、ゲルマニウム、マンガン、マグネシウムおよび稀土類元素より選択される少なくとも一種の金属を含有する脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラートが好ましい。
【００５４】
触媒活性、副反応の少なさからスズ化合物、具体的には塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化第一スズ、硫酸第一スズ、酸化第二スズ、ミリスチン酸スズ、オクチル酸スズ、ステアリン酸スズ、テトラフェニルスズ等のスズ含有化合物が好ましい触媒として例示でされる。
【００５５】
なかでも、スズ（ＩＩ）化合物、具体的にはジエトキシスズ、ジノニルオキシスズ、ミリスチン酸スズ（ＩＩ）、オクチル酸スズ（ＩＩ）、ステアリン酸スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＩ）などが好適に例示される。
【００５６】
触媒の使用量は、ラクチド１ｋｇ当たり０．４２×１０−４から１００×１０−４（モル）でありさらに反応性、得られるポリラクチド類の色調、安定性を考慮すると１．６８×１０−４から４２．１×１０−４（モル）、特に好ましくは２．５３×１０−４から１６．８×１０−４（モル）使用される。
【００５７】
ポリ乳酸重合に使用された金属含有触媒は、ポリ乳酸使用に先立ち、従来公知の失活剤で不活性化しておくのが好ましい。
かかる失活剤としては例えばイミノ基を有し且つ重合金属触媒に配位し得るキレート配位子の群からなる有機リガンド及びジヒドリドオキソリン（Ｉ）酸、ジヒドリドテトラオキソ二リン（ＩＩ，ＩＩ）酸、ヒドリドトリオキソリン（ＩＩＩ）酸、ジヒドリドペンタオキソ二リン（ＩＩＩ）酸、ヒドリドペンタオキソ二（ＩＩ，ＩＶ）酸、ドデカオキソ六リン（ＩＩＩ）酸、ヒドリドオクタオキソ三リン（ＩＩＩ，ＩＶ，ＩＶ）酸、オクタオキソ三リン（ＩＶ，ＩＩＩ，ＩＶ）酸、ヒドリドヘキサオキソ二リン（ＩＩＩ，Ｖ）酸、ヘキサオキソ二リン（ＩＶ）酸、デカオキソ四リン（ＩＶ）酸、ヘンデカオキソ四リン（ＩＶ）酸、エネアオキソ三リン（Ｖ，ＩＶ，ＩＶ）酸等の酸価数５以下の低酸化数リン酸、式 ｘＨ２Ｏ・ｙＰ２Ｏ５で表され、ｘ／ｙ＝３のオルトリン酸、２＞ｘ／ｙ＞１であり、縮合度より二リン酸、三リン酸、四リン酸、五リン酸等と称せられるポリリン酸及びこれらの混合物、ｘ／ｙ＝１で表されるメタリン酸、なかでもトリメタリン酸、テトラメタリン酸、１＞ｘ／ｙ＞０で表され、五酸化リン構造の一部をのこした網目構造を有するウルトラリン酸（これらを総称してメタリン酸系化合物と呼ぶことがある。）、及びこれらの酸の酸性塩、一価、多価のアルコール類、あるいはポリアルキレングリコール類の部分エステル、完全エスエテル、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体などが例示される。
【００５８】
触媒失活能から、式ｘＨ２Ｏ・ｙＰ２Ｏ５で表され、ｘ／ｙ＝３のオルトリン酸、２＞ｘ／ｙ＞１であり、縮合度より二リン酸、三リン酸、四リン酸、五リン酸等と称せられるポリリン酸及びこれらの混合物、ｘ／ｙ＝１で表されるメタリン酸、なかでもトリメタリン酸、テトラメタリン酸、１＞ｘ／ｙ＞０で表され、五酸化リン構造の一部をのこした網目構造を有するウルトラリン酸（これらを総称してメタリン酸系化合物と呼ぶことがある。）、及びこれらの酸の酸性塩、一価、多価のアルコール類、あるいはポリアルキレングリコール類の部分エステルリンオキソ酸あるいはこれらの酸性エステル類、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体及び上記のメタリン酸系化合物が好適に使用される。
【００５９】
本発明で使用するメタリン酸系化合物は、３から２００程度のリン酸単位が縮合した環状のメタリン酸あるいは立体網目状構造を有するウルトラ領域メタリン酸あるいはそれらの（アルカル金属塩、アルカリ土類金属塩、オニウム塩）を包含する。なかでも環状メタリン酸ナトリウムやウルトラ領域メタリン酸ナトリウム、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体のジヘキシルホスホノエチルアセテート（以下、ＤＨＰＡと略称することがある）などが好適に使用される。
【００６０】
本発明で使用するポリ乳酸は、含有ラクチド量が１から５０００ｐｐｍのものが好ましい。ポリ乳酸中に含有するラクチドは溶融加工時、樹脂を劣化させ、色調を悪化させ、場合によっては製品として使用不可能にする場合がある。
【００６１】
溶融開環重合された直後のポリＬ−乳酸および／またはポリＤ−乳酸は通常１から５重量％のラクチドを含有するが、ポリＬ−乳酸および／またはポリＤ−乳酸重合終了の時点からポリ乳酸成形までの間の任意の段階において、従来公知のラクチド減量法により、即ち一軸あるいは多軸押出機での真空脱揮法、あるいは重合装置内での高真空処理等を単独であるいは組み合わせて実施することにラクチドを好適な範囲に低減することができる。
【００６２】
ラクチド含有量は少ないほど、樹脂の溶融安定性、耐湿熱安定性は向上するが、樹脂溶融粘度を低下させる利点もあり、所望の目的に合致した含有量にするのが合理的、経済的である。すなわち、実用的な溶融安定性が達成される１から１０００ｐｐｍに設定するのが合理的である。さらに好ましくは１から７００ｐｐｍ、より好ましくは２から５００ｐｐｍ、特に好ましくは５から１００ｐｐｍの範囲が選択される。
【００６３】
ポリ乳酸成分がかかる範囲のラクチド含有量を有することにより、本発明の多層フィルムの溶融製膜時の樹脂の安定性を向上せしめ、フィルムの製造を効率よく実施できる利点及びフィルムの耐湿熱安定性、低ガス性を高めることが出来る。
【００６４】
本発明に使用されるポリ乳酸の重量平均分子量は、成形加工性と得られる成形品の機械的、熱的物性との関係を考察して選択される。即ち、組成物の強度、伸度、耐熱性等の機械的、熱的物性を発揮させるためには重量平均分子量は好ましくは８万以上、より好ましくは１０万以上、さらに好ましくは１３万以上である。
【００６５】
しかし、重量平均分子量の上昇とともに、ポリ乳酸の溶融粘度は指数関数的に上昇し、押出成形等の溶融成形を行うとき、樹脂粘度を成形可能範囲にするため、成形温度をポリ乳酸の耐熱温度以上に高く設定しなければならない場合が発生する。
【００６６】
具体的には、ポリ乳酸は、３００℃を超える温度で成形を行うと樹脂の熱分解のためフィルム品が着色し、商品としての価値が低いものとなってしまう可能性が高い。
したがってポリ乳酸組成物の重量平均分子量は、好ましくは５０万以下、より好ましくは４０万以下、さらに好ましくは３０万以下である。従ってポリ乳酸の重量平均分子量は、好ましくは８万から５０万、より好ましくは１０万から４０万、さらに好ましくは１３万から３０万である。
【００６７】
重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比を分子量分散（Ｍｗ／Ｍｎ）という。分子量分散が大きいことは、平均分子量に比較し、大きな分子や小さな分子の割合が多いことを意味する。
【００６８】
即ち、例えば重量平均分子量が２５万程度で、分子量分散の３以上のポリ乳酸は、分子量が２５万より大きい分子の割合が大きくなる場合があり、この場合、溶融粘度が大きくなり、上記の意味で成形上好ましくない。また８万程度の比較的小さい重量平均分子量で分子量分散の大きなポリ乳酸組成物では、分子量が８万より小さい分子の割合が大きくなる場合があり、この場合、成形品の機械的物性の耐久性が小さくなり、使用上好ましくない。かかる観点より分子量分散の範囲は、好ましくは１．５から２．４、より好ましくは１．６から２．４、さらに好ましくは１．６から２．３の範囲である。
【００６９】
本発明の多層フィルムで用いられるポリ乳酸は、前述したようにポリＬ−乳酸成分とポリＤ−乳酸成分とを重量比で１０／９０から９０／１０の範囲で接触させることにより、好ましくは溶融接触させることにより、より好ましくは溶融混練接触させることにより得ることができる。
【００７０】
このポリＬ−乳酸成分とポリＤ−乳酸成分との接触温度はポリ乳酸の溶融時の安定性及びステレオコンプレックス結晶化度の向上の観点より２２０から２９０℃、好ましくは２２０から２８０℃、さらに好ましくは２２５から２７５℃の範囲が選択される。
【００７１】
溶融混練方法は特に限定されるものではないが、従来公知のバッチ式或いは連続式の溶融混合装置が好適に使用される。たとえば、溶融撹拌槽、一軸、二軸の押出し機、ニーダー、無軸籠型撹拌槽、住友重機械工業（株）製「バイボラック」、三菱重工業（株）製Ｎ−ＳＣＲ，（株）日立製作所製めがね翼、格子翼あるいはケニックス式撹拌機、あるいはズルツァー式ＳＭＬＸタイプスタチックミキサー具備管型重合装置などを使用できるが、生産性、ポリ乳酸の品質とりわけ色調の点でセルフクリーニング式の重合装置である無軸籠型撹拌槽、Ｎ−ＳＣＲ、２軸押し出しルーダーなどが好適に使用される。
【００７２】
本発明で用いるポリ乳酸には、本発明の主旨に反しない範囲において、ステレオコンプレックスポリ乳酸結晶の形成を安定的且つ高度に進めるために特定の添加物を配合する手法が好ましく適用される。
【００７３】
すなわち、例えば、ステレオコンプレックス結晶化促進剤として下記式（２２）または（２３）で表されるリン酸金属塩を添加する手法が挙げられる。
【００７４】
【化９】
【００７５】
式（２２）中、Ｒ１１は水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１２、Ｒ１３はそれぞれ独立に、水素原子、または炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｍ１はアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、ｐは１または２を表し、ｑはＭ１がアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは０を、アルミニウム原子の時は１または２を表す。
【００７６】
【化１０】
【００７７】
式（２３）中Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は各々独立に、水素原子または炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｍ２はアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、ｐは１または２を表し、ｑはＭ２がアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは０を、アルミニウム原子の時は１または２を表す。
【００７８】
式（２２）または（２３）で表されるリン酸金属塩のＭ１、Ｍ２は、Ｎａ、Ｋ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｌｉが好ましく、特に、Ｋ、Ｎａ、Ａｌ、ＬｉなかでもＬｉ、Ａｌが最も好適に用いることができる。
【００７９】
これらのリン酸金属塩は、（株）ＡＤＥＫＡ製の商品名、「アデカスタブ」ＮＡ−１１、ＮＡ−７１等が好適な剤として例示される。ポリ乳酸に対して、リン酸金属塩は０．００１から２ｗｔ％、好ましくは０．００５から１ｗｔ％、より好ましくは０．０１から０．５ｗｔ％さらに好ましくは０．０２から０．３ｗｔ％用いることが好ましい。少なすぎる場合には、ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）を向上する効果が小さく、多すぎるとステレオコンプレックス結晶融点を低下させるので好ましくない。
【００８０】
さらに所望により、リン酸金属塩の作用を強化するため、以下記載する公知の結晶化核剤を併用することができる。なかでも珪酸カルシウム、タルク、カオリナイト、モンモリロナイトが好ましくは選択される。
結晶化核剤の使用量はポリ乳酸に対し０．０５から５ｗｔ％、より好ましくは０．０６から２ｗｔ％、さらに好ましくは０．０６から１ｗｔ％の範囲が選択される。
【００８１】
また、ステレオコンプレックス結晶化助剤［（エポキシ基、オキサゾリン基、オキサジン基、イソシアネート基、ケテン基及びカルボジイミド基）（以下特定官能基と略称することがある）の群より選択される官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物］を添加する手法が挙げられる。
【００８２】
本発明においてステレオコンプレックス結晶化助剤とは、特定官能基がポリ乳酸の分子末端と反応して、部分的にポリＬ−乳酸ユニットとポリＤ−乳酸ユニットとを連結し、ステレオコンプレックス結晶形成を促進させているものと本発明者らが推察する剤である。
【００８３】
ステレオコンプレックス結晶化助剤としては以下に記載する従来ポリエステルのカルボキシル末端基封鎖剤として公知の剤を好適に適用することができる。なかでも、ステレオコンプレックス結晶形成促進効果よりカルボジイミド化合物が好適に選択される。
【００８４】
しかしながらステレオコンプレックス結晶化助剤とりわけ、窒素を含有するステレオコンプレックス結晶化助剤は、ステレオコンプレックス結晶形成時、剤の熱分解のため悪臭による作業環境悪化、ポリ乳酸の色調悪化を引き起こす危険性が大きいため、使用しないことが好ましく、使用する場合には、ステレオコンプレックス結晶の高度形成に重点を置く場合に限定し、可能な限り少量に抑制して使用することが好ましい。
【００８５】
ステレオコンプレックス結晶化助剤の使用量は上記と同じ基準において１ｗｔ％以下、好ましくは、０から０．５ｗｔ％、より好ましくは０から０．３ｗｔ％、さらに好ましくは０から０．１ｗｔ％の範囲が選択される。
【００８６】
すなわち上記ステレオコンプレックス結晶化促進剤の手法は単独に適用することが好ましく、ステレオコンプレックス結晶形成により重点をおく場合にステレオコンプレックス結晶化助剤の手法と組み合わせて適用することが好ましく選択される。
【００８７】
本発明においては、ポリ乳酸のカルボキシル末端基濃度は０．０１から１０（当量／１０６ｇ）、｛以下（当量／１０６ｇ）を（当量／ｔｏｎ）と略称することがある。｝が好ましい。より好ましくは０．０２から２（当量／ｔｏｎ）、さらに好ましくは０．０２から１（当量／ｔｏｎ）の範囲が好適に選択される。
【００８８】
カルボキシル末端基濃度がこの範囲内にある時には、溶融安定性、湿熱安定性を良好なものとすることができる。ポリ乳酸のカルボキシル末端基濃度を１０（当量／ｔｏｎ）以下にするには、ポリエステル組成物で従来公知のカルボキシル末端基濃度の低減方法を好適に適用することができ、例えばアルコール、アミンによってエステルまたはアミド化することもできるが、後述のＣ成分を用いることが好ましい。
【００８９】
＜アクリル系樹脂（Ｂ成分）＞
上述のアクリル系樹脂（Ｂ成分）は、シクロヘキシルメタクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロへキシルメタクリレート、メチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等のアクリル酸エステルより選ばれる１種以上の単量体を重合したものである。これらの単量体は、単独でまたは２種以上混合して用いることができる。なかでも、メタクリル酸メチルの単独重合体または他の単量体との共重合体が好ましい。
【００９０】
メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体としては、他のメタリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロへキシルマレイミド等のマレイミド類、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類が挙げられる。これらメタクリル酸メチルと共重合可能な単量体の中でも、特にアクリル酸アルキルエステル類は耐熱分解性に優れる。またアクリル酸アルキルエステル類を共重合させて得られるメタクリル系樹脂は成形加工時の流動性が高く好ましい。
【００９１】
メタクリル酸メチルにアクリル酸アルキルエステル類を共重合させる場合のアクリル酸アルキルエステル類の使用量は、耐熱分解性の観点から０．１重量％以上であることが好ましく、耐熱性の観点から１５重量％以下であることが好ましい。０．２重量％以上１４重量％以下であることがさらに好ましく、１重量％以上１２重量％以下であることがとりわけ好ましい。
【００９２】
このアクリル酸アルキルエステル類の中でも、特にアクリル酸メチルおよびアクリル酸エチルは、それを少量メタクリル酸メチルと共重合させても上記改良効果は著しく最も好ましい。上記メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体は一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
【００９３】
アクリル系樹脂（Ｂ成分）の重量平均分子量は、好ましくは５万〜２０万である。重量平均分子量は成形品の強度の観点から５万以上が好ましく、成形加工性、流動性の観点から２０万以下が好ましい。さらに好ましい範囲は７万〜１５万である。また、本発明においてはアイソタクチックポリメタクリル酸エステルとシンジオタクチックポリメタクリル酸エステルを同時に用いることもできる。
【００９４】
アクリル系樹脂（Ｂ成分）を製造する方法として、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、光学用途において用いられる多層フィルムとするにあたり、微小異物の混入は極力避けることが好ましく、この観点からは懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が望ましい。溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調整した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
【００９５】
重合反応に用いられる開始剤としては、一般にラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えばアゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物が用いられる。また、特に９０℃以上の高温下で重合を行わせる場合には、溶液重合が一般的であるので、１０時間半減期温度が８０℃以上でかつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤等が好ましい。具体的には１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、１，１−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソプチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は０．００５〜５重量％の範囲で用いられる。
【００９６】
重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用される。例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸２−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が特に好ましいものとして挙げられる。これらの分子量調節剤は、重合度が上記の範囲内に制御されるような濃度範囲で添加される。
【００９７】
＜Ｃ成分＞
本発明において、Ｐ層樹脂において主としてポリ乳酸の加水分解を抑制するために添加される、カルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）について説明する。Ｃ成分は環状構造を有する（以下、Ｃ成分を環状カルボジイミド化合物と略記することがある。）。環状カルボジイミド化合物は、環状構造を複数有していてもよい。
【００９８】
ここで環状構造は、カルボジイミド基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−）を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されて形成している。一つの環状構造中には、１個のカルボジイミド基のみを有するが、例えば、スピロ環など、分子中に複数の環状構造を有する場合にはスピロ原子に結合するそれぞれの環状構造中に１個のカルボジイミド基を有していれば、化合物として複数のカルボジイミド基を有していてよいことはいうまでもない。環状構造中の原子数は、好ましくは８〜５０、より好ましくは１０〜３０、さらに好ましくは１０〜２０、特に、１０〜１５が好ましい。
【００９９】
ここで、環状構造中の原子数とは、環状構造を直接構成する原子の数を意味し、例えば、８員環であれば８、５０員環であれば５０である。環状構造中の原子数が８より小さいと、環状カルボジイミド化合物の安定性が低下して、保管、使用が困難となる場合があるためである。また反応性の観点よりは環員数の上限値に関しては特別の制限はないが、５０を超える原子数の環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より環状構造中の原子数は好ましくは、１０〜３０、より好ましくは１０〜２０、特に好ましくは１０〜１５の範囲が選択される。
【０１００】
環状構造は、下記式（１）で表される構造であることが好ましい。
【化１１】
【０１０１】
式中、Ｑは、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２〜４価の結合基である。ヘテロ原子とはこの場合、Ｏ、Ｎ、Ｓ、Ｐを指す。この結合基の価のうち２つの価は環状構造を形成するために使用される。Ｑが３価あるいは４価の結合基である場合、単結合、二重結合、原子、原子団を介して、ポリマーあるいは他の環状構造と結合している。
【０１０２】
結合基は、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基またはこれらの組み合わせであり、上記で規定される環状構造を形成するための必要炭素数を有する結合基が選択される。組み合わせの例としては、アルキレン基とアリーレン基が結合した、アルキレン−アリーレン基のような構造などが挙げられる。
【０１０３】
結合基（Ｑ）は、下記式（１−１）、（１−２）または（１−３）で表される２〜４価の結合基であることが好ましい。
【０１０４】
【化１２】
【０１０５】
式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基である。
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基（２価）として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１０６】
Ｒ１およびＲ２は各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、およびこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基の組み合わせである。
【０１０７】
脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルカントリイル基、炭素数１〜２０のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１０８】
脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルカントリイル基、炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１０９】
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これら芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１０】
上記式（１−１）、（１−２）においてＸ１およびＸ２は各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。
【０１１１】
脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルカントリイル基、炭素数１〜２０のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１２】
脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルカントリイル基、炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１３】
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１４】
上記式（１−１）、（１−２）においてｓ、ｋは０〜１０の整数、好ましくは０〜３の整数、より好ましくは０〜１の整数である。ｓ及びｋが１０を超えると、環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より整数は好ましくは０〜３の範囲が選択される。なお、ｓまたはｋが２以上であるとき、繰り返し単位としてのＸ１、あるいはＸ２が、他のＸ１、あるいはＸ２と異なっていてもよい。
【０１１５】
上記式（１−３）においてＸ３は、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。
【０１１６】
脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルカントリイル基、炭素数１〜２０のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂肪族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１７】
脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルカントリイル基、炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂環族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリーレン基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１８】
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１９】
また、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はヘテロ原子を含有していてもよい、また、Ｑが２価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は全て２価の基である。Ｑが３価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが３価の基である。Ｑが４価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。
【０１２０】
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として、以下（ａ）〜（ｃ）で表される化合物が挙げられる。
【０１２１】
＜環状カルボジイミド化合物（ａ）＞
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式（２）で表される化合物（以下、「環状カルボジイミド化合物（ａ）」ということがある。）を挙げることができる。
【０１２２】
【化１３】
【０１２３】
式中、Ｑａは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式（１）で説明したものと同じである。但し、式（２）の化合物においては、脂肪族基、脂環族基、芳香族基は全て２価である。Ｑａは、下記式（２−１）、（２−２）または（２−３）で表される２価の結合基であることが好ましい。
【０１２４】
【化１４】
【０１２５】
式中、Ａｒａ１、Ａｒａ２、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｘａ１、Ｘａ２、Ｘａ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）中のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、これらは全て２価である。
かかる環状カルボジイミド化合物（ａ）としては、以下の化合物が挙げられる。
【０１２６】
【化１５】
【０１２７】
【化１６】
【０１２８】
【化１７】
【０１２９】
【化１８】
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
【化２０】
【０１３２】
【化２１】
【０１３３】
【化２２】
【０１３４】
【化２３】
【０１３５】
【化２４】
【０１３６】
【化２５】
【０１３７】
【化２６】
【０１３８】
【化２７】
【０１３９】
【化２８】
【０１４０】
＜環状カルボジイミド化合物（ｂ）＞
さらに、本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式（３）で表される化合物（以下、「環状カルボジイミド化合物（ｂ）」ということがある。）を挙げることができる。
【０１４１】
【化２９】
【０１４２】
式中、Ｑｂは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基、またはこれらの組み合わせである３価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Ｙは、環状構造を担持する担体である。脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式（１）で説明したものと同じである。但し、式（３）の化合物においては、Ｑｂを構成する基の内一つは３価である。
Ｑｂは、下記式（３−１）、（３−２）または（３−３）で表される３価の結合基であることが好ましい。
【０１４３】
【化３０】
【０１４４】
式中、Ａｒｂ１、Ａｒｂ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｘｂ１、Ｘｂ２、Ｘｂ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但しこれらの内の一つは３価の基である。
Ｙは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーであることが好ましい。Ｙは結合部であり、複数の環状構造がＹを介して結合し、式（３）で表される構造を形成している。
かかる環状カルボジイミド化合物（ｂ）としては、下記化合物が挙げられる。
【０１４５】
【化３１】
【０１４６】
【化３２】
【０１４７】
【化３３】
【０１４８】
【化３４】
【０１４９】
＜環状カルボジイミド化合物（ｃ）＞
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式（４）で表される化合物（以下、「環状カルボジイミド化合物（ｃ）」ということがある。）を挙げることができる。
【０１５０】
【化３５】
【０１５１】
式中、Ｑｃは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである４価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。Ｚ１およびＺ２は、環状構造を担持する担体である。Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１５２】
脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式（１）で説明したものと同じである。但し、式（４）の化合物において、Ｑｃは４価である。従って、これらの基の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。
Ｑｃは、下記式（４−１）、（４−２）または（４−３）で表される４価の結合基であることが好ましい。
【０１５３】
【化３６】
【０１５４】
Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２、Ｘｃ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）の、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２およびＸｃ３は、これらの内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。Ｚ１およびＺ２は各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーであることが好ましい。Ｚ１およびＺ２は結合部であり、複数の環状構造がＺ１およびＺ２を介して結合し、式（４）で表される構造を形成している。
かかる環状カルボジイミド化合物（ｃ）としては、下記化合物を挙げることができる。
【０１５５】
【化３７】
【０１５６】
【化３８】
【０１５７】
【化３９】
【０１５８】
本発明における、多層フィルムＰ層中の環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の割合は、ポリ乳酸（Ａ成分）１００重量部と基準にして環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）が０．００１〜５重量部含有されることが好ましい。Ｃ成分の量がこの範囲にあれば、水分に対する安定性、耐加水分解安定性を好適に高めることができる。
【０１５９】
かかる観点より環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の含有割合はより好ましくは、ポリ乳酸（Ａ成分）１００重量部あたり０．０１〜５重量部、さらに好ましくは０．１〜４重量部の範囲が選択される。この範囲より少量であると環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の効果が有効に認められないことがあり、また、この範囲を超えて多量に適用しても、耐加水分解安定性の更なる向上は期待されない。
【０１６０】
前述のように、Ｐ層樹脂にアクリル系樹脂（Ｂ成分）を含む場合には、樹脂中の環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の割合は、上述の”ポリ乳酸（Ａ成分）１００重量部”を”ポリ乳酸（Ａ成分）とアクリル系樹脂（Ｂ成分）との合計量１００重量部”と読み代えればよい。
【０１６１】
本発明において、環状カルボジイミド化合物の製造方法は特に限定無く、従来公知の方法により製造することができる。例として、アミン体からイソシアネート体を経由して製造する方法、アミン体からイソチオシアネート体を経由して製造する方法、アミン体からトリフェニルホスフィン体を経由して製造する方法、アミン体から尿素体を経由して製造する方法、アミン体からチオ尿素体を経由して製造する方法、カルボン酸体からイソシアネート体を経由して製造する方法、ラクタム体を誘導して製造する方法などが挙げられる。
【０１６２】
また、本発明の環状カルボジイミド化合物は、以下の文献に記載された方法を組み合わせ、あるいは目的とする化合物に応じて適切に改変、組み合わせすることにより製造することができる。
【０１６３】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３４，Ｎｏ．３２，５１５−５１５８，１９９３．
Ｍｅｄｉｕｍ−ａｎｄ Ｌａｒｇｅ−Ｍｅｍｂｅｒｅｄ Ｒｉｎｇｓ ｆｒｏｍ Ｂｉｓ（ｉｍｉｎｏｐｈｏｓｐｈｏｒａｎｅｓ）：Ａｎ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ， Ｐｅｄｒｏ Ｍｏｌｉｎａ ｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．６１，Ｎｏ．１３，４２８９−４２９９，１９９６．
Ｎｅｗ Ｍｏｄｅｌｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｓｔｕｄｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｒａｃｅｍｉｚａｔｉｏｎ Ｍｅｃｈａｎｉｓｍ ｏｆ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ．Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ａｎｄ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ（Ｘ−ｒａｙ Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ ａｎｄ １Ｈ ＮＭＲ） ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ， Ｐｅｄｒｏ Ｍｏｌｉｎａ ｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．４３，Ｎｏ８，１９４４−１９４６，１９７８．
Ｍａｃｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｕｒｅａｓ ａｓ Ｍａｓｋｅｄ Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅｓ， Ｈｅｎｒｉ Ｕｌｒｉｃｈ ｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．４８，Ｎｏ．１０，１６９４−１７００，１９８３．
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ａｎｄ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ，Ｒ．Ｒｉｃｈｔｅｒｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．５９，Ｎｏ．２４，７３０６−７３１５，１９９４．
Ａ Ｎｅｗ ａｎｄ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ ｆｒｏｍ Ｂｉｓ（ｉｍｉｎｏｐｈｏｓｐｈｏｒａｎｅａ）ａｎｄ ｔｈｅ Ｓｙｓｔｅｍ Ｂｏｃ２Ｏ／ＤＭＡＰ，Ｐｅｄｒｏ Ｍｏｌｉｎａ ｅｔａｌ．
【０１６４】
製造する化合物に応じて、適切な製法を採用すればよいが、例えば、（１）下記式（ａ−１）で表されるニトロフェノール類、下記式（ａ−２）で表されるニトロフェノール類および下記式（ｂ）で表される化合物を反応させ、下記式（ｃ）で表されるニトロ体を得る工程、
【化４０】
【化４１】
（２）得られたニトロ体を還元して下記式（ｄ）で表わされるアミン体を得る工程、
【化４２】
（３）得られたアミン体とトリフェニルホスフィンジブロミドを反応させ下記式（ｅ）で表されるトリフェニルホスフィン体を得る工程、および
【化４３】
（４）得られたトリフェニルホスフィン体を反応系中でイソシアネート化した後、直接脱炭酸させることによって製造したものは、本願発明に用いる環状カルボジイミド化合物として好適に用いることができる。
（上記式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基で置換されていてもよい芳香族基である。Ｅ１およびＥ２は各々独立に、ハロゲン原子、トルエンスルホニルオキシ基およびメタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルオキシ基からなる群から選ばれる基である。Ａｒａは、フェニル基である。Ｘは、下記式（ｉ−１）から（ｉ−３）の結合基である。）
【０１６５】
【化４４】
【０１６６】
【化４５】
【０１６７】
【化４６】
【０１６８】
なお、環状カルボジイミド化合物は、高分子化合物の酸性基を有効に封止することができるが、本発明の主旨に反しない範囲において、所望により、例えば、従来公知のポリマーのカルボキシル基封止剤を併用することができる。かかる従来公知のカルボキシル基封止剤としては、特開２００５−２１７４号公報記載の剤、例えば、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、などが例示される。
【０１６９】
＜Ｄ成分＞
Ｎ層の樹脂としては、光学的に負であれば良く、特に限定は無い。ポリメチルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートとポリスチレンの共重合体、アタクチックポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、オレフィンマレイミド樹脂、フルオレン骨格を有するポリカーボネート、それらのブレンド体等が好適に用いられる。ポリ乳酸を含有するＰ層との接着性や屈折率の差が小さいことによる界面反射の少なさの点で、より好ましくは、ポリメチルメタクリレートまたはポリメチルメタクリレート／ポリスチレン共重合体である。
【０１７０】
＜Ａ，Ｂ，Ｃ、Ｄ成分以外＞
本発明のＰ層、Ｎ層には、前記したＡ，Ｂ，Ｃ、Ｄ成分以外の熱可塑性樹脂、安定剤、紫外線吸収剤、結晶化促進剤、充填剤、離型剤、帯電防止剤、可塑剤および耐衝撃性安定剤からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有することができる。本発明に用いられるポリ乳酸は、安定剤を含有することが好ましい。安定剤としては通常の熱可塑性樹脂の安定剤に使用されるものを用いることができる。例えば酸化防止剤、光安定剤等を挙げることができる。これらの剤を配合することで機械的特性、成形性、耐熱性および耐久性に優れた多層フィルムを得ることができる。
【０１７１】
酸化防止剤としてはヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ホスファイト系化合物、チオエーテル系化合物等を挙げることができる。
【０１７２】
ヒンダードフェノール系化合物としては、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（３’−メチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−テトラデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、１，６−ヘキサンジオ−ル−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、１，４−ブタンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン等が挙げられる。ヒンダードアミン系化合物として、Ｎ，Ｎ’−ビス−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチレン−ビス［３−（３’−メチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ−サリチロイル−Ｎ’−サリチリデンヒドラジン、３−（Ｎ−サリチロイル）アミノ−１，２，４―トリアゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−｛３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］オキシアミド等を挙げることができる。好ましくは、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、およびテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン等が挙げられる。
【０１７３】
ホスファイト系化合物としては、少なくとも１つのＰ−Ｏ結合が芳香族基に結合しているものが好ましく、具体的には、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンホスファイト、ビス（２，６―ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシル）ホスファイト、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジトリデシルホスファイト−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、トリス（ミックスドモノおよびジ−ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、４，４’−イソプロピリデンビス（フェニル−ジアルキルホスファイト）等が挙げられる。
【０１７４】
なかでもトリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、テトラキス（２，６―ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンホスファイト等が好ましく使用できる。
【０１７５】
チオエーテル系化合物の具体例として、ジラウリルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ドデシルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−オクタデシルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）等が挙げられる。
【０１７６】
光安定剤としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、環状イミノエステル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来る。光安定剤としては、紫外線吸収剤と光酸化で生成するラジカルを捕捉するものの組み合わせにて用いても良い。
【０１７７】
紫外線吸収剤としては、環状イミノエステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が可視光における吸収を最小化できる点で好ましい。また、偏光膜や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ液晶表示性能の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。紫外線吸収剤のブリードアウト抑制の観点からは、多層フィルムをＰ／Ｎ／Ｐ層またはＮ／Ｐ／Ｎ層の３層構成とし、中間の層（前者ではＮ層、後者ではＰ層）に紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。
【０１７８】
有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を好ましく使用出来る。
【０１７９】
環状イミノエステル系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが例示される。なかでも２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好適であり、特に２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好適である。環状イミノエステルは単独であるいは２種以上を併用して用いることができる。
【０１８０】
当該環状イミノエステルは、国際公開ＷＯ０３／０３５７３５号パンフレットに開示された各種の方法によって製造することができる。すなわち原料として無水イサト酸を利用する方法（殊に再結晶化された無水イサト酸を利用する方法）、並びにアントラニル酸を利用する方法のいずれも利用可能である。これらの酸化合物とカルボン酸クロライド化合物とを反応させて、環状イミノエステル化合物を得ることができる。これらは特公昭６２−３１０２７号公報に開示された如く、生成後に再結晶化処理を行ってもよい。かかる化合物は竹本油脂（株）からＣＥｉ−Ｐ（商品名）、およびＣＹＴＥＣ社からＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ−３６３８（商品名）として市販されており、容易に利用できる。
【０１８１】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メチル−アクリロキシイソプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸水和物、２−ヒドロキシ−４−オクチロキシベンゾフェノン、４−ベンジロキシ−２−ハイドロキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−ブタン等が挙げられる。
【０１８２】
本発明におけるポリ乳酸には、有機若しくは無機の結晶化促進剤を含有することができる。結晶化促進剤を含有することで、ステレオコンプレックス結晶促進剤の作用を一層増強することができ、機械的特性、耐熱性、および成形性に優れた成形品を得ることができる。
【０１８３】
本発明で使用する結晶化促進剤は一般に結晶性樹脂の結晶核剤として用いられるものを用いることができ、無機系の結晶核剤および有機系の結晶核剤のいずれをも使用することができる。
【０１８４】
無機系の結晶核剤として、タルク、カオリン、シリカ、合成マイカ、クレイ、ゼオライト、グラファイト、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫化カルシウム、窒化ホウ素、モンモリロナイト、酸化ネオジム、酸化アルミニウム、フェニルフォスフォネート金属塩等が挙げられる。
【０１８５】
これらの無機系の結晶核剤は組成物中での分散性およびその効果を高めるために、各種分散助剤で処理され、一次粒子径が０．０１から０．５μｍ程度の高度に分散状態にあるものが好ましい。
【０１８６】
有機系の結晶核剤としては、安息香酸カルシウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸リチウム、安息香酸カリウム、安息香酸マグネシウム、安息香酸バリウム、蓚酸カルシウム、テレフタル酸ジナトリウム、テレフタル酸ジリチウム、テレフタル酸ジカリウム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸カリウム、ミリスチン酸カルシウム、ミリスチン酸バリウム、オクタコ酸ナトリウム、オクタコ酸カルシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、モンタン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、トルイル酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、サリチル酸カリウム、サリチル酸亜鉛、アルミニウムジベンゾエート、β−ナフトエ酸ナトリウム、β−ナフトエ酸カリウム、シクロヘキサンカルボン酸ナトリウム等の有機カルボン酸金属塩、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホイソフタル酸ナトリウム等の有機スルホン酸金属塩が挙げられる。
【０１８７】
また、ステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、トリメシン酸トリス（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）等の有機カルボン酸アミド、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリイソプロピレン、ポリブテン、ポリ−４−メチルペンテン、ポリ−３−メチルブテン−１、ポリビニルシクロアルカン、ポリビニルトリアルキルシラン、高融点ポリ乳酸、エチレン−アクリル酸コポマーのナトリウム塩、スチレン−無水マレイン酸コポリマーのナトリウム塩（いわゆるアイオノマー）、ベンジリデンソルビトールおよびその誘導体、例えばジベンジリデンソルビトール等が挙げられる。
【０１８８】
これらのなかでタルク、および有機カルボン酸金属塩から選択された少なくとも１種が好ましく使用される。本発明のポリ乳酸で使用する結晶核剤は１種のみでもよく、２種以上を併用しても良い。
結晶化促進剤の含有量は、ポリ乳酸１００重量部当たり、好ましくは０．０１から３０重量部、より好ましくは０．０５から２０重量部である。
【０１８９】
本発明で使用される帯電防止剤として、（β−ラウラミドプロピオニル）トリメチルアンモニウムスルフェート、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の第４級アンモニウム塩系、スルホン酸塩系化合物、アルキルホスフェート系化合物等が挙げられる。
【０１９０】
本発明の多層フィルムにおいて帯電防止剤は１種類で用いても良いし２種以上を組み合わせて用いても良い。帯電防止剤の含有量は、ポリ乳酸１００重量部に対し、好ましくは０．０５から５重量部、より好ましくは０．１から５重量部である。
【０１９１】
本発明で使用する可塑剤としては一般に公知のものを使用することができる。例えば、ポリエステル系可塑剤、グリセリン系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、ポリアルキレングリコール系可塑剤、およびエポキシ系可塑剤、等が挙げられる。
【０１９２】
ポリエステル系可塑剤として、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸等の酸成分とエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール等のジオール成分からなるポリエステルやポリカプロラクトン等のヒドロキシカルボン酸からなるポリエステル等が挙げられる。これらのポリエステルは単官能カルボン酸または単官能アルコールで末端封止されていても良い。
【０１９３】
グリセリン系可塑剤として、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリンモノアセトモノラウレート、グリセリンモノアセトモノステアレート、グリセリンジアセトモノオレート、グリセリンモノアセトモノモンタネート等が挙げられる。
【０１９４】
多価カルボン酸系可塑剤として、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジベンジル、フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリヘキシル等のトリメリット酸エステル、アジピン酸イソデシル、アジピン酸−ｎ−デシル−ｎ−オクチル等のアジピン酸エステル、アセチルクエン酸トリブチル等のクエン酸エステル、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）等のアゼライン酸エステル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ビス（２−エチルヘキシル）等のセバシン酸エステルが挙げられる。
【０１９５】
リン酸エステル系可塑剤として、リン酸トリブチル、リン酸トリス（２−エチルヘキシル）、リン酸トリオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸ジフェニル−２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【０１９６】
ポリアルキレングリコール系可塑剤として、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリ（エチレンオキシド．プロピレンオキシド）ブロックおよびまたはランダム共重合体、ビスフェノール類のエチレンオキシド付加重合体、ビスフェノール類のテトラヒドロフラン付加重合体等のポリアルキレングリコールあるいはその末端エポキシ変性化合物、末端エステル変性化合物および末端エーテル変性化合物等の末端封鎖剤化合物等が挙げられる。
【０１９７】
エポキシ系可塑剤として、エポキシステアリン酸アルキルと大豆油とからなるエポキシトリグリセリド、およびビスフェノールＡとエピクロルヒドリンを原料とするエポキシ樹脂が挙げられる。
【０１９８】
その他の可塑剤の具体的な例としては、ネオペンチルグリコールジベンゾエート、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコール−ビス（２−エチルブチレート）等の脂肪族ポリオールの安息香酸エステル、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド、オレイン酸ブチル等の脂肪酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル等のオキシ酸エステル、ペンタエリスリトール、各種ソルビトール、ポリアクリル酸エステル、シリコーンオイル、およびパラフィン類等が挙げられる。
【０１９９】
可塑剤として、特にポリエステル系可塑剤およびポリアルキレン系可塑剤から選択された少なくとも１種よりなるものが好ましく使用でき、１種のみでも良くまた２種以上を併用することもできる。
【０２００】
可塑剤の含有量は、多層フィルム各層１００重量部当たり、好ましくは０．０１から３０重量部、より好ましくは０．０５から２０重量部、さらに好ましくは０．１から１０重量部である。本発明においては結晶核剤と可塑剤を各々単独で使用してもよいし、両者を併用して使用することがさらに好ましい。
【０２０１】
＜偏光板およびその製造方法＞
偏光板は、一般に一対の保護フィルムの間に偏光膜が挟持された構成を有する。保護フィルムとして、偏光膜の偏光特性に影響を与えないように出来るだけ光学等方にしたものや、逆に液晶表示装置の画質向上を狙って制御された位相差特性を有するいわゆる位相差フィルムを保護フィルムとして利用する場合がある。本発明では、保護フィルムと言った場合には、断りが無い限り光学等方性、光学異方性フィルムのいずれも含むものとする。
【０２０２】
本発明の偏光板は、本発明の多層フィルムを用いてあればよいが、好ましくは、上記の保護フィルムとして本発明の多層フィルムが少なくとも１枚使用される。
偏光膜は、公知の方法により作製することができる。偏光膜は主としてポリビニルアルコール系樹脂から形成される。偏光膜は、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを二色性物質（代表的には、ヨウ素、二色性染料）で染色して一軸延伸したものが用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、好ましくは１００〜５０００、さらに好ましくは１４００〜４０００である。重合度が低すぎると、所定の延伸を行う際に延伸切れしやすく、また重合度が高すぎると、延伸する際に張力が異常に必要となり、機械的に延伸できなくなるおそれがある。
【０２０３】
偏光膜を構成するポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、任意の適切な方法（例えば樹脂を水または有機溶剤に溶解した溶液を流延製膜する流延法、キャスト法、押出法）で成形され得る。偏光膜の厚みは偏光板が用いられる液晶表示装置の目的や用途に応じて適宜設定されるが、通常、５〜８０μｍ程度である。
【０２０４】
偏光膜の製造方法としては、目的、使用材料および条件などに応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、通常、膨潤、染色、架橋、延伸、水洗および乾燥工程を含む一連の製造工程に供する方式が採用される。乾燥工程を除く各処理工程においては、それぞれの工程に用いられる溶液を含む液中にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬することにより処理を行う。膨潤、染色、架橋、延伸、水洗および乾燥の各処理の順番、回数および実施の有無は、目的、使用材料および条件などに応じて適亘設定されえる。例えば、いくつかの処理を１つの工程で同時に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理を同時に行ってもよい。また例えば、架橋処理を延伸処理の前後に行うことが、好適に採用され得る。また例えば、水洗処理は、全ての処理の後に行ってもよく、特定の処理の後のみに行ってもよい。
【０２０５】
膨潤工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水で満たした処理浴中に浸漬することより行われる。この処理により、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄すると共に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させることで染色ムラ等の不均一性を防止できる。膨潤浴には、グリセリンやヨウ化カリウム等が適宜に添加される。膨潤浴の温度は、通常２０〜６０℃程度であり、膨潤浴への浸漬時間は、通常０．１〜１０分間程度である。
【０２０６】
染色工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、ヨウ素等の二色性物質を含む処理浴中に浸漬することにより行われる。染色浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。二色性物質は、溶媒１００重量部に対して、通常、０．１〜１重量部の割合で用いられる。二色性物質としてヨウ素を用いる場合は、染色浴の溶液はヨウ化物等の助剤をさらに含有することが好ましい。染色効率が改善されるからである。助剤は、溶媒１００重量部に対して、好ましくは０．０２〜２０重量部、さらに好ましくは２〜１０重量部の割合で用いられる。ヨウ化物の具体例としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンなどがあげられる。染色浴の温度は、通常、２０〜７０℃程度であり、染色浴への浸漬時間は、通常、１〜２０分間程度である。
【０２０７】
架橋工程は、代表的には、上記染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、架橋剤を含む処理欲中に浸漬することによって行われる。架橋割としては任意の適切な架橋剤が採用される。架橋剤の具体例としては、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等があげられる。これらは、単独で、または組み合わせて使用される。架橋浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。架橋剤は、溶媒１００重量部に対して、通常、１〜１０重量部の割合で用いられる。架橋剤の濃度が１重量部未満の場合は、十分な光学特性を得ることができない。架橋剤の濃度が１０重量部を超える場合は、延伸時にフィルムに発生する応力が大きくなり、得られる偏光板が収縮してしまう可能性がある。架橋浴の溶液は、ヨウ化物等の助剤をさらに含有することが望ましい。面内に均一な特性が得られやすいからである。助剤の濃度は好ましくは０．０５〜１５重量％、さらに好ましくは０．５〜８重量％である。ヨウ化物の具体例は、染色工程の場合と同様である。架橋浴の温度は、通常、２０〜７０℃程度、好ましく４０〜６０℃である。架橋浴への浸漬時間は、通常、１秒間〜１５分間程度、好ましくは５秒間〜１０分間である。
【０２０８】
偏光膜の延伸工程は、上記のようにいずれの段階で行ってもよい。具体的には、染色処理の後に行ってもよく、染色処理の前に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理と同時に行ってもよく、架橋処理の後に行ってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの累積延伸倍率は、通常、５倍以上にする。好ましくは５〜７倍、さらに好ましくは５〜６．５倍である。累積延伸倍率が５倍未満の場合には、高偏光度の偏光板を得ることが困難となる。累積延伸倍率が７倍を超える場合はポリビニルアルコール系樹脂フィルムが破断しやすくなる場合がある。延伸の具体的な方法としては、任意の適切な方法が採用される。例えば、湿式延伸法を採用した場合には、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを処理浴中で所定の倍率に延伸する。延伸浴の溶液としては、水または有機溶媒（例えばエタノール）などの溶媒中に、各種金属塩、ヨウ素、ホウ素または亜鉛の化合物を添加した溶液が好適に用いられる。
【０２０９】
水洗工程は、代表的には、上記各種処理を施されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを処理浴中に浸漬することによって行われる。水洗工程によりポリビニルアルコール系樹脂フィルムの不要残存物を洗い流すことができる。水洗浴は、純水であってもよく、ヨウ化物（例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等）の水溶液であってもよい。ヨウ化物水溶液の濃度は、好ましくは０．１〜１０重量％である。ヨウ化物水溶液には硫酸亜鉛、塩化亜鉛などの助剤を添加してもよい。水洗浴の温度は好ましくは１０〜６０℃、さらに好ましくは３０〜４０℃である。浸漬時間は１秒間〜１分間である。水洗工程は１回だけでもよく、必要に応じて複数回行ってもよい。複数回実施される場合は、各処理に用いられる水洗浴に含まれる添加剤の種類や濃度は適宜に調整される。例えば、水洗工程は上記各種処理を施されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ化カリウム水溶液（０．１〜１０重量％、１０〜６０℃）に１秒間〜１分間程度浸漬する工程と、純水ですすぐ工程とを含む。また、水洗工程において、偏光膜の表面改質や、偏光膜の乾燥効率を上げるために、水と相溶性を有する有機溶媒（例えば、エタノ−ルなど）を適宜添加してもよい。
【０２１０】
乾燥工程は、任意の適切な方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用されうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常、２０〜８０℃程度であり、乾燥時間は、通常、１〜１０分間程度である。以上のようにして偏光膜が得られる。
【０２１１】
本発明において用いる偏光膜は、水分率が好ましくは１５重量％以下、より好ましくは０〜１４重量％、さらに好ましくは１〜１４重量％である。水分率が１５重量％より大きいいと、得られた偏光板の寸法変化が大きくなり、高温下あるいは高温高湿下における寸法変化が大きくなってしまうという問題が生じるおそれがある。
【０２１２】
本発明の、偏光膜の水分率は、任意の適切な方法で調整すればよい。例えば偏光膜の製工程における乾燥工程の条件を調整することにより制御する方法があげられる。
偏光膜と保護フィルムの接着に関しては、公知の方法が用いられる。接着剤としては、放射線硬化型接着剤、水溶性接着剤、水系エマルジョン接着剤等用いてもよいが、好ましくは、放射線硬化型接着剤用組成物を用いることである。
【０２１３】
接着剤の塗工方式は、接着剤の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択される。塗工方式の例として、例えば、リバースコーター、グラビアコーター（ダイレクト，リバースやオフセット）、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーターなどがあげられる。その他、塗工には、デイッピング方式などの方式を適宜に使用することができる。
上記のように塗工した接着剤を介して、偏光膜と本発明の多層フィルムとを貼り合わせる。偏光膜と本発明の多層フィルムの貼り合わせは、ロールラミネーター等により行う事ができる。
【０２１４】
偏光膜と本発明の多層フィルムを貼り合わせた後に、放射線を照射して、接着剤を硬化させても良い。放射線としては紫外線および／または電子線が好ましく用いられるが、好ましくは紫外線である。
放射線硬化型接着剤組成物の粘度としては、０．１〜５０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、より好ましくは０．５〜１０００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１〜５００ｍＰａ・ｓである。
【０２１５】
硬化後の接着剤の厚みとしては、０．１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．３〜７μｍ、さらに好ましくは０．５〜５μｍである。接着剤の厚みが０．１μｍより薄い場合では十分な接着強度が得られない場合があり、また、１０μｍより大きい場合には均質に塗布することが困難で、偏光板の外観不良が発生する場合がある。
【０２１６】
紫外線を用いる場合の光源としては、公知の低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ、発光ダイオード等が好適に用いられる。ポリ乳酸は波長２５０ｎｍ以下において光吸収を生じるが、この波長領域において強度の強い光を照射した場合、分解が生じる場合がある。したがって、好ましくは２７０ｎｍ以下の紫外光はカットして放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させることが好ましい。より好ましくは２８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２８０ｎｍ以下、最も好ましくは３００ｎｍ以下をカットすることである。紫外線のカットは公知の方法で達成可能であり、例えば紫外線光源の適切な選択や紫外線カットフィルターを用いることができる。
【０２１７】
紫外光の強度としては、１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは２０〜７００ｍＷ／ｃｍ２、さらに好ましくは３０〜５００ｍＷ／ｃｍ２である。１０ｍＷ／ｃｍ２未満では硬化させるのに時間がかかり過ぎ、生産性が良くなく、また１０００ｍＷ／ｃｍ２より大きい場合には、熱により偏光膜の偏光性能が劣化する場合がある。また、積算光量としては、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは２００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは３００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２である。１００ｍＪ／ｃｍ２未満では硬化不十分となる場合があり、また１００００ｍＪ／ｃｍ２より大きい場合には、熱により偏光膜の偏光性能が劣化する場合がある。紫外光の照射方向は偏光板の片側からでも、両側からでも良い。
【０２１８】
放射線硬化型接着剤用組成物を紫外線等の光により硬化させる場合において、本発明の多層フィルムに紫外線吸収剤を含有し、かつ、当該多層フィルム側から紫外線を照射する場合においては、放射線硬化型接着剤用組成物の光開始剤の光開始反応波長は、多層フィルムの紫外線吸収波長領域よりも長波長側にあるものを適宜選択することが好ましい。すなわち、放射線硬化型接着剤用組成物において３８０ｎｍ以上の光により開始反応を行う光開始剤を含有することが好ましい。これは前記したように多層フィルムに紫外線吸収剤を加える必要がある場合の好ましい光線透過率が、波長３８０ｎｍにおいて２０％以下であり、波長３７５ｎｍでの光線透過率が１％以下であるからである。例えば、前述の光開始剤のうち、波長４０５ｎｍにおける吸光係数（ｍｌ／ｇ・ｃｍ）が１以上、好ましくは１０以上、さらに好ましくは１００以上あるものを好ましく用いることができる。この吸光係数は例えばメタノール溶媒等に光開始剤を溶解させ、分光器により測定することができる。このような光開始剤として好ましくは、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドと１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの混合物、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシドと２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンの混合物等である。
【０２１９】
放射線として電子線を用いる場合の電子線の照射方向は、任意の適切な方向から照射することができる。好ましくは、多層フィルム側から照射する。偏光膜側から照射すると、偏光膜が電子線によって劣化するおそれがある。
【０２２０】
電子線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５ｋＶ〜３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０ｋＶ〜２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、多層フィルムや偏光膜にダメージを与えるおそれがある。照射線量としては、５〜１００ｋＧｙ、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙである。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、多層フィルムや偏光膜にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所定の光学特性を得ることができない。
【０２２１】
前記製造方法を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間にもよるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎ、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎである。ライン速度が小さすぎる場合は、生産性が乏しい。ライン速度が大きすぎる場合は、接着剤の硬化が不十分となり、目的とする接着性が得られない場合がある。
【０２２２】
接着工程後に熱処理工程を設けても良いが、熱処理温度としては４０〜１００℃が好ましく、より好ましくは５０〜８５℃である。４０℃未満では熱処理工程としては効果が少なく、１００℃を超えると偏光膜が劣化する可能性がある。熱処理時間としては５秒間から１０分間程度が好ましい。５秒間未満では熱処理の効果が期待できず、１０分間を超えると生産性に問題が生じる場合がある。
【０２２３】
偏光膜と多層フィルムの接着剥離強度はＪＩＳ Ｋ６８５４に記される剥離試験で２Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは３Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは４Ｎ／２５ｍｍ以上、最も好ましくは５Ｎ／２５ｍｍ以上である。剥離強度が２Ｎ／２５ｍｍ未満では、偏光板の実使用上問題が生じる場合がある。本発明では特に断りの無い限り剥離強度評価における剥離速度は２００ｍｍ／分、フィルムの幅を２５ｍｍとして評価した。
【０２２４】
次いで、本発明の多層フィルム、偏光板を図面を以って具体的に説明する。図１、２は本発明の多層フィルムの一態様を示す模式図である。
図１で１はＮ層、２はＰ層、３はＮ層、４は本発明の多層フィルムである。図２で５はＰ層、６はＮ層、７は本発明の多層フィルムである。
図３、４は本発明の偏光板である。図３の８、１０は本発明の多層フィルム、９は偏光膜、１１は本発明の偏光板である。図４の１２は本発明の多層フィルム、１４は本発明の多層フィルム以外の保護フィルム、１３は偏光膜、１５は本発明の偏光板である。
図３，４の本発明の偏光板において、偏光膜と保護フィルム、偏光膜と本発明の多層フィルムとの間には接着剤があってもよい。また、当該偏光板の最表面には、反射防止膜、ハードコート膜、防汚染膜等があってもよい。さらに、液晶表示装置との貼合のために、当該偏光板の片面に粘着剤が設けられていてもよい。
【実施例】
【０２２５】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は、これにより何ら限定を受けるものではない。
【０２２６】
＜評価方法＞
（１）ヘーズ評価：
日本電色工業（株）の商品名『ＣＯＨ−３００Ａ』を用いてヘーズ値（％）を評価した。
【０２２７】
（２）ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）：
ポリマーの重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定、標準ポリスチレンに換算した。ＧＰＣ測定機器は、検出器；示差屈折計（（株）島津製作所製）ＲＩＤ−６Ａカラム；東ソ−（株）ＴＳＫｇｅｌＧ３０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ４０００ＨＸＬ，ＴＳＫｇｅｌＧ５０００ＨＸＬとＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｋｕｍｎＨＸＬ−Ｌを直列に接続したもの、あるいは東ソ−（株）ＴＳＫｇｅｌＧ２０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ３０００ＨＸＬとＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｋｕｍｎＨＸＬ−Ｌを直列に接続したものを使用した。
クロロホルムを溶離液とし温度４０℃、流速１．０ｍｌ／ｍｉｎにて、濃度１ｍｇ／ｍｌ（１％ヘキサフルオロイソプロパノールを含むクロロホルム）の試料を１０μｌ注入し測定した。
【０２２８】
（３）ステレオコンプレックス結晶化度〔Ｓ（％）〕，結晶融解温度などのＤＳＣ測定：
ＤＳＣ（ＴＡインストルメント社製，商品名『Ｑ１０』）を用いて試料を、第一サイクルにおいて、窒素気流下、２０℃／分で２６０℃まで昇温し、ガラス転移点温度（Ｔｇ）、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶融点（Ｔｍｓｃ）、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶化温度（Ｔｃｓｃ）、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶融解エンタルピー（ΔＨｍｓｃ）、ホモ相ポリ乳酸結晶融解エンタルピー（ΔＨｍｈ）および結晶化熱量（ΔＨｃ）を測定した。
ステレオコンプレックス結晶化度は上記測定で得られたステレオコンプレックス相およびホモ相ポリ乳酸結晶融解エンタルピーより、下記式（ＩＩ）により求めた値である。
Ｓ＝［ΔＨｍｓｃ ／ （ΔＨｍｈ ＋ΔＨｍｓｃ）］ × １００ （ＩＩ）
（但し、ΔＨｍｓｃはステレオコンプレックス相結晶の融解エンタルピー、ΔＨｍｈはホモ相ポリ乳酸結晶の融解エンタルピー）
【０２２９】
（４）厚み測定：
アンリツ社製の電子マイクロで測定した。
【０２３０】
（５）環状カルボジイミド構造の核磁気共鳴法（ＮＭＲ）による同定およびポリエステル組成物中の環状カルボジイミドの定量：
合成した環状カルボジイミド化合物は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲによって確認した。ＮＭＲは日本電子（株）製の商品名『ＪＮＲ−ＥＸ２７０』を使用した。溶媒は重クロロホルムを用いた。
【０２３１】
（６）環状カルボジイミドのカルボジイミド骨格の赤外分光法（ＩＲ）による同定：
合成した環状カルボジイミド化合物のカルボジイミド骨格の有無は、ＦＴ−ＩＲによりカルボジイミドに特徴的な２１００〜２２００ｃｍ−１の確認を行った。ＦＴ−ＩＲはサーモニコレー（株）製の商品名『Ｍａｇｎａ−７５０』を使用した。
【０２３２】
（７）位相差測定：
複屈折Δｎと膜厚ｄの積である位相差Ｒ０及びＲｔｈ値は、分光エリプソメータである日本分光（株）製の商品名『Ｍ１５０』により測定した。Ｒ０値は入射光線とフィルム表面が直交する状態で測定した。また、Ｒｔｈ値（ｎｍ）は入射光線とフィルム表面の角度を変えることにより、各角度での位相差値を測定し、公知の屈折率楕円体の式でカーブフィッチングすることにより三次元屈折率であるｎｘ，ｎｙ，ｎｚを求めた。測定波長は５５０ｎｍとした。
【０２３３】
（８）偏光板の偏光度および全光線透過率測定：
偏光板を２枚（３ｃｍ×４ｃｍ）切り出し、２枚の偏光板の平行透過率Ｙ／／、直交透過率Ｙ⊥を分光器である（株）日立製作所製の商品名『Ｕ−４０００』にて測定し、下記式（５０）を用いて偏光度（Ｐ（％））を求めた。なお、ここで言う透過率は平行光線透過率であり、２°視野Ｃ光源におけるＣＩＥ ＸＹＺ表色系のＹ値を用いた。
【０２３４】
【数１】
また、偏光板の単体の全光線透過率は同装置を用いて測定した。
【０２３５】
（９）フィルム機械強度：
測定装置としてインストロン引張試験機を用い、サンプルフィルムを幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍに切り出し、チャック間５０ｍｍにサンプルを装着し、ＪＩＳ−Ｃ２１５１に従って引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎ、室温の条件で引張試験を行って求めた。なお、サンプルの切り出し方向は、フィルム流れ方向であるＭＤ方向、およびそれと直交する幅方向をＴＤ方向として、それぞれＭＤ、ＴＤに平行な方向を長さ方向としてサンプリングし、ＭＤ、ＴＤ方向の引張り測定値を評価した。当該評価では、破断伸度、破断強度を耐久試験前後で測定し、その物性変化を確認した。
【０２３６】
＜ポリ乳酸（Ａ成分）の製造＞
（１）ポリＬ−乳酸（ＰＬＬＡ１）の製造：
Ｌ−ラクチド（（株）武蔵野化学研究所製、光学純度１００％）１００重量部に対し、オクチル酸スズを０．００５重量部加え、窒素雰囲気下、撹拌翼のついた反応機にて１８０℃で２時間反応させ、オクチル酸スズに対し１．２倍当量のリン酸を添加しその後、１３．３Ｐａで残存するラクチドを減圧除去し、チップ化し、ポリＬ−乳酸（ＰＬＬＡ１）を得た。得られたポリＬ−乳酸（ＰＬＬＡ１）の重量平均分子量は１５．２万、ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５５℃、融点は１７５℃であった。
【０２３７】
（２）ポリＤ−乳酸（ＰＤＬＡ１）の製造：
ＰＬＬＡ１の製造において、Ｌ−ラクチドをＤ−ラクチド（（株）武蔵野化学研究所製、光学純度１００％）に変更したこと以外は同じ条件で重合を行い、ポリＤ−乳酸（ＰＤＬＡ１）を得た。得られたポリＤ−乳酸（ＰＤＬＡ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１５．１万、ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５５℃、融点は１７５℃であった。
【０２３８】
（３）ステレオコンプレックスポリ乳酸（ＳＣＰＬＡ１）の製造：
上記操作で得られたＰＬＬＡ１とＰＤＬＡ１とを各５０重量部およびリン酸金属塩（（株）ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ」ＮＡ−７１：０．１重量部）を、２軸混練装置の第一供給口より供給、シリンダー温度２５０℃で溶融混練し、ステレオコンプレックスポリ乳酸（ＳＣＰＬＡ１）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５５℃、融点は２１６℃であり、ステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。
【０２３９】
＜カルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（成分Ｃ）の製造＞
ｏ−ニトロフェノール（０．１１ｍｏｌ）とペンタエリトリチルテトラブロミド（０．０２５ｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．３３ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２００ｍｌを撹拌装置及び加熱装置を設置した反応装置にＮ２雰囲気下仕込み、１３０℃で１２時間反応後、ＤＭＦを減圧により除去し、得られた固形物をジクロロメタン２００ｍｌに溶かし、水１００ｍｌで３回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム５ｇで脱水し、ジクロロメタンを減圧により除去し、中間生成物Ｄ（ニトロ体）を得た。
【０２４０】
次に中間生成物Ｄ（０．１ｍｏｌ）と５％パラジウムカーボン（Ｐｄ／Ｃ）（２ｇ）、エタノール／ジクロロメタン（７０／３０）４００ｍｌを、撹拌装置を設置した反応装置に仕込み、水素置換を５回行い、２５℃で水素を常に供給した状態で反応させ、水素の減少がなくなったら反応を終了した。Ｐｄ／Ｃを回収し、混合溶媒を除去すると中間生成物Ｅ（アミン体）が得られた。
【０２４１】
次に撹拌装置及び加熱装置、滴下ロートを設置した反応装置に、Ｎ２雰囲気下、トリフェニルホスフィンジブロミド（０．１１ｍｏｌ）と１，２−ジクロロエタン１５０ｍｌを仕込み撹拌させた。そこに中間生成物Ｅ（０．０２５ｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２５ｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン５０ｍｌに溶かした溶液を２５℃で徐々に滴下した。滴下終了後、７０℃で５時間反応させる。その後、反応溶液をろ過し、ろ液を水１００ｍｌで５回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム５ｇで脱水し、１，２−ジクロロエタンを減圧により除去し、中間生成物Ｆ（トリフェニルホスフィン体）が得られた。
【０２４２】
次に、撹拌装置及び滴下ロートを設置した反応装置に、Ｎ２雰囲気下、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（０．１１ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（０．０５５ｍｏｌ）、ジクロロメタン１５０ｍｌを仕込み撹拌させる。そこに、２５℃で中間生成物Ｆ（０．０２５ｍｏｌ）を溶かしたジクロロメタン１００ｍｌをゆっくりと滴下させた。滴下後、１２時間反応させる。その後、ジクロロメタンを除去し得られた固形物を、精製することで、下記に示す構造を有するＣ成分（以降、ＴＸ１と略記することがある。）、（分子量：５１６）を得た。ＴＸ１の構造はＮＭＲ、ＩＲにより確認した。
【０２４３】
【化４７】
【０２４４】
＜多層フィルム用材料の製造＞
（１）Ｃ１：ステレオコンプレックスポリ乳酸（ＴＸ１含有）；
ＳＣＰＬＡ１、１００重量部、ＴＸ１、１．０重量部、シプロ化成（株）製の商品名「シーソーブ１０７」である紫外線吸収剤２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２．５重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化して組成物（Ｃ１）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５６℃、結晶化温度は１１５℃、融点は２１５℃であった。
【０２４５】
（２）Ｃ２：ステレオコンプレックスポリ乳酸とＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）とを含む組成物（ＴＸ１含有）；
上記操作で得られたＳＣＰＬＡ１、７０重量部、三菱レイヨン（株）製のポリメチルメタクリレート、商品名「アクリペットＶＨ００１」３０重量部、ＴＸ１、１．０重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してブレンド組成物（Ｃ２）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は６５℃、結晶化温度は１２７℃、融点は２１６℃であった。
【０２４６】
（３）Ｃ３：ステレオコンプレックスポリ乳酸、ＰＭＭＡ、紫外線吸収剤とを含む組成物（ＴＸ１含有）；
上記操作で得られたＳＣＰＬＡ１、７０重量部、三菱レイヨン（株）製のポリメチルメタクリレート、商品名「アクリペットＶＨ００１」３０重量部、ＴＸ１、１．０重量部、商品名「シーソーブ１０７」３重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してブレンド組成物（Ｃ３）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は６４℃、結晶化温度は１２９℃、融点は２１１℃であった。
【０２４７】
（４）Ｃ４：ポリ乳酸；
上記操作で得られたＰＬＬＡ１と同じである。
【０２４８】
（５）Ｃ５：ステレオコンプレックスポリ乳酸（線状ポリカルボジイミド含有）；
ｓｃＰＬＡ１、１００重量部、日清紡ケミカル（株）製「カルボジライト」ＬＡ−１、１．０重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化して組成物（Ｃ５）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５６℃、結晶化温度は１３５℃、融点は１６８℃であった。
【０２４９】
（６）Ｃ６：ポリメチルメタクリレート；
（株）クラレ製「パラペットＧＦ」を８０℃で５時間乾燥し、Ｃ６を得た。ガラス転移点温度は１０５℃であった。
【０２５０】
（７）Ｃ７：ＭＳ樹脂
電気化学工業（株）製のＰＭＭＡとポリスチレンの共重合樹脂（ＭＳ樹脂）である「ＫＴ−８０」を８０℃５時間乾燥し、Ｃ７を得た。ガラス転移点温度は１１０℃であった。
なお、上記Ｃ１〜Ｃ５を溶融押出してフィルム化し、Ｔｇ＋１０℃にて縦一軸延伸した場合、延伸方向に屈折率が大きくなり、一方、Ｃ６、Ｃ７材料については、同条件で評価すると、延伸方向に垂直な方向に面内の屈折率が大きくなることを確認した。したがって、Ｃ１〜Ｃ５についてはＰ層材料として適当であり、一方、Ｃ６、Ｃ７はＮ層材料として適している。
【０２５１】
＜多層フィルムの製造＞
以下に記す多層フィルムの評価結果は表１に記す。
［実施例１］
樹脂Ｃ１を１００℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。三層の厚みの比はほぼ１：１：１であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１２０℃にて熱固定を実施し、Ｐ層の結晶化を略完了することにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ１）を得た。なお、Ｐ層の結晶化完了はＤＳＣにおける結晶化ピーク消失により確認した。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。
このフィルムは樹脂Ｃ１がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｎ／Ｐ／Ｎの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５２】
［実施例２］
樹脂Ｃ２を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。３層の厚みの比はほぼ０．７：１：０．７であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了することにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ１がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｎ／Ｐ／Ｎの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５３】
［実施例３］
樹脂Ｃ３を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。三層の厚みの比はほぼ０．７：１：０．７であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了させることにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ１がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｎ／Ｐ／Ｎの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。また、紫外線吸収剤のブリードアウトも当該耐久テスト実施後に確認したが、見られなかった。
【０２５４】
［実施例４］
樹脂Ｃ２を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ａのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ｂのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、４５℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。三層の厚みの比はほぼ０．３：１：０．３であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了させることにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ２がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｐ／Ｎ／Ｐの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５５】
［実施例５］
樹脂Ｃ２を９０℃で５時間乾燥させた後、２種２層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ７は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種２層押出機は押出機Ａが冷却ドラム側の１層、押出機Ｂがその反対側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。２層の厚みの比はほぼ１：１であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１１０℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１１１℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了させることにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ２がＰ層、樹脂Ｃ７がＮ層であり、Ｎ／Ｐの２層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５６】
［実施例６］
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、５重量％（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム＝１／１０）の３０℃のヨウ素溶液中で１分間染色した。次いで、３重量％のホウ酸および２重量％の３０℃のヨウ化カリウムを含む水溶液中に１分間浸漬し、さらに４重量％のホウ酸および３重量％のヨウ化カリウムを含む６０℃の水溶液中で１分間浸漬しながら６倍まで延伸した後、３０℃の５重量％のヨウ化カリウム水溶液に１分間浸漬した。その後、８０℃のオーブンで３分間乾燥を行い、厚さ３０μｍの偏光膜を得た。
次に実施例２で作製した多層フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いるために、片面の表面処理は紫外線オゾン処理を実施した。紫外線オゾン処理はアイグラフィックス（株）製の商品名『アイオゾン洗浄装置ＯＣ−２５０６』を用い、処理時間は３０秒とした。
偏光膜と保護フィルムとの接着は、硬化前には液状の紫外線硬化型接着剤を用いることとし、保護フィルムの紫外線オゾン処理をした面にバーコーターで塗布し、偏光膜とラミネートさせた後、保護フィルム側から低圧水銀ランプを用いて紫外線硬化させて接着させた。紫外線硬化型接着剤としては、２−ヒドロキシプロピルアクリレートを主成分とする共栄社化学（株）製の商品名『ライトエステルＨＯＰ−Ａ』１００重量部と光開始剤としてチバガイギー社製の商品名『イルガキュア１８４』１重量部を混合させたものを用いた。
得られた偏光板の全光線透過率は４２％、偏光度は９９．９％であった。
【０２５７】
［比較例１］
樹脂Ｃ４を１００℃で５時間乾燥させた後、単層押出機のホッパーに投入し１９０℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、４０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。膜厚は１００μｍであった。この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて８５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度９０℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１４０℃にて熱固定を実施することにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ１）を得た。表１から分かるように、ヘーズが高く、また、位相差も大きくかつテンター横一軸延伸機におけるボーイング現象等によりフィルム面内の位相差値ばらつきも大きいため、光学フィルムとしては不適であることがわかった。
【０２５８】
［比較例２］
樹脂Ｃ５を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ａのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ｂのホッパーに投入して、２２９℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、４５℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生があり、作業環境が悪化したため、これ以降のテストを中止した。
【０２５９】
【表１】
【符号の説明】
【０２６０】
１ Ｎ層
２ Ｐ層
３ Ｎ層
４ 本発明の多層フィルム
５ Ｐ層
６ Ｎ層
７ 本発明の多層フィルム
８ 本発明の多層フィルム
９ 偏光膜
１０ 本発明の多層フィルム
１１ 本発明の偏光板
１２ 本発明の多層フィルム
１３ 偏光膜
１４ 保護フィルム（本発明の多層フィルム以外のフィルム）
１５ 本発明の偏光板
【技術分野】
【０００１】
本発明は特に光学用途において用いられる多層フィルムおよびそれを用いた偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置はテレビやパソコンモニター、携帯情報端末等の表示デバイスとして広く使用されている。液晶表示装置には通常、偏光板が用いられているが、これは一般の液晶表示装置では偏光を利用しているためである。偏光板は、光源の自然偏光を直線偏光に変換するため、また、液晶セル等によって制御された偏光情報を透過率情報に変換するための偏光変換素子として使用されている。この偏光板には各種の提案があるが、もっとも一般的に利用されている偏光板の形態は、２枚の保護フィルムの間に偏光変換を行う偏光膜が挟持された構造を有するものである。偏光膜としては主としてポリビニルアルコール延伸フィルム中に２色性色素が配向状態で存在しているものが好適に利用されている。一方、保護フィルムはこの偏光膜が、単体では耐熱、耐湿熱試験における寸法安定性や、耐光性、耐磨耗性等の特性を満足できないために使用される。
【０００３】
偏光板用保護フィルムとしてはいくつか提案があるが、トリアセチルセルロース（以下、「ＴＡＣ」と略記することがある。）フィルムが最も広く利用されている。最近では保護フィルムに偏光変換素子の一種である位相差フィルムを兼ねさせる例も提案され、実用に供されている。ＴＡＣは半合成樹脂であり、樹脂に関しては部分的ではあるが植物由来原料を使用しているという点において環境に配慮した材料であるといえる。しかし、そのポリマーの物性上、フィルム製造方法として溶液キャスト法を用いることが必要であり、製造時に大量のハロゲン溶媒を使用するため、環境負荷が大きく、そのフィルムは真に環境に配慮した材料とは言い難い。
【０００４】
ポリ乳酸は植物由来材料として石油系樹脂の代替と成りうる可能性をもつだけではなく、溶媒を用いない溶融押出法にてフィルム化が可能であるために環境配慮型の材料としては好適であり、さらに、結晶性であるにも関わらず高い透明性を保有するなど光学特性に特長があり、それを活かした用途展開が期待されている。実際に、ポリ乳酸を偏光板の保護フィルムとして用いようとする発明が提案されている（例えば、特許文献１、２、３等参照）。
【０００５】
しかしながら、ポリ乳酸は現時点において偏光板の保護フィルムとしては利用されていない。技術的課題の１つは、機械的強度を得ようとして延伸をすると、ポリ乳酸は結晶性高分子であるがゆえに光学的な異方性が無視できないほどに大きくなる点である。
【０００６】
さらにポリ乳酸は、生分解性であることが知られていることからも、分解しやすいといった特徴を有する。特に加水分解が生じやすいといった問題がある。この加水分解を抑制する手法は既に提案されている（特許文献４）。この提案において用いられているカルボジイミド化合物は、線状のカルボジイミド化合物である。線状カルボジイミド化合物を高分子化合物の末端封止剤として用いると、線状カルボジイミド化合物が高分子化合物の末端に結合する反応に伴いイソシアネート基を有する化合物が遊離し、イソシアネート化合物の独特の臭いを発生し、作業環境を悪化させることが問題となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−８２２２３号公報
【特許文献２】特開２００１−３３７２０１号公報
【特許文献３】特開２００４−２５２２６３号公報
【特許文献４】特開２００１−２６１７９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記した従来技術の問題を解決することにあり、透明性に優れ、光学異方性が小さく、かつ環境にも配慮した光学用途に最適な多層フィルムおよびそれを用いた偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記従来技術に鑑み、鋭意検討を重ねた結果、本発明に到達した。
即ち、本発明の第１の目的は、
１．ポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である層（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）からなる層（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である多層フィルムによって達成される。
｛ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（△Ｈｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（△Ｈｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求める。
（Ｓ）＝〔△Ｈｍｓｃ ／ （△Ｈｍｈ ＋△Ｈｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）｝
【００１０】
上記の発明には、以下も包含される。
２．Ｐ層が、さらにアクリル系樹脂（Ｂ成分）を含む、前記１記載の多層フィルム。
３．Ｃ成分が下記式（１）で表される前記１または２記載の多層フィルム。
【化１】
（式中、Ｑは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２〜４価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
４．Ｑは、下記式（１−１）、（１−２）または（１−３）で表される２〜４価の結合基である前記３記載の多層フィルム。
【化２】
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基である。Ｒ１およびＲ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基またはこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基の組み合わせである。Ｘ１およびＸ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。ｓは０〜１０の整数である。ｋは０〜１０の整数である。なお、ｓまたはｋが２以上であるとき、繰り返し単位としてのＸ１、あるいはＸ２が、他のＸ１、あるいはＸ２と異なっていてもよい。Ｘ３は、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。但し、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はヘテロ原子を含有していてもよい、また、Ｑが２価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は全て２価の基である。Ｑが３価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが３価の基である。Ｑが４価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
【００１１】
５．Ｃ成分が、下記式（２）で表される前記３記載の多層フィルム。
【化３】
（式中、Ｑａは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
６．Ｑａは、下記式（２−１）、（２−２）または（２−３）で表される２価の結合基である前記５記載の多層フィルム。
【化４】
（式中、Ａｒａ１、Ａｒａ２、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｘａ１、Ｘａ２、Ｘａ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）中のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。）
【００１２】
７．Ｃ成分が、下記式（３）で表される前記３記載の多層フィルム。
【化５】
（式中、Ｑｂは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである３価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Ｙは、環状構造を担持する担体である。）
８．Ｑｂは、下記式（３−１）、（３−２）または（３−３）で表される３価の結合基である前記７記載の多層フィルム。
【化６】
（式中、Ａｒｂ１、Ａｒｂ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｘｂ１、Ｘｂ２、Ｘｂ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但しこれらの内の一つは３価の基である。）
９．Ｙは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである前記７または８記載の多層フィルム。
【００１３】
１０．Ｃ成分が、下記式（４）で表される前記３記載の多層フィルム。
【化７】
（式中、Ｑｃは、脂肪族基、芳香族基、脂環族基またはこれらの組み合わせである４価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。Ｚ１およびＺ２は、環状構造を担持する担体である。）
１１．Ｑｃは、下記式（４−１）、（４−２）または（４−３）で表される４価の結合基である前記１０記載の多層フィルム。
【化８】
（式中、Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２、Ｘｃ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）の、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、これらの内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
１２．Ｚ１およびＺ２は各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである前記１０または１１記載の多層フィルム。
【００１４】
１３．Ｄ成分がポリメチルメタクリレートまたはポリメチルメタクリレート／ポリスチレン共重合体を含む、前記１〜１２のいずれか記載の多層フィルム。
１４．多層フィルムの積層構成がＰ層／Ｎ層／Ｐ層またはＮ層／Ｐ層／Ｎ層の３層構成である、前記１〜１３のいずれか記載の多層フィルム。
１５．３層構成における中間層が紫外線吸収剤を含有する、前記１４記載の多層フィルム。
１６．略光学等方である、前記１〜１５のいずれか記載の多層フィルム。
【００１５】
また、本発明の第３の目的は、
１７．前記１〜１６のいずれか記載の多層フィルムを用いたことを特徴とする偏光板、によって達成することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、透明性に優れ、光学的異方性が小さく、かつ環境にも配慮した光学用途に適した多層フィルムおよびそれを用いた偏光板を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明における多層フィルムの一態様を示す模式図である。
【図２】本発明における多層フィルムの一態様を示す模式図である。
【図３】本発明における偏光板の一態様を示す模式図である。
【図４】本発明における偏光板の一態様を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜多層フィルム＞
本発明における多層フィルムは、ポリ乳酸（Ａ成分）と、カルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である樹脂層（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）層（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上であることを特徴とする。
｛ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（△Ｈｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（△Ｈｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求める。
（Ｓ）＝〔△Ｈｍｓｃ ／ （△Ｈｍｈ ＋△Ｈｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）｝
【００１９】
本発明で言う光学的に正または負である樹脂層とは、それぞれ単独に縦一軸延伸した際に、層面内の屈折率の最大方位が延伸方向となるものを正である樹脂層（Ｐ層）、層面内の屈折率の最大方位が延伸方向と直交する方向となるものを負である樹脂層（Ｎ層）と定義する。なお、延伸条件は当該各樹脂層のガラス転移点温度（Ｔｇ）−１０℃からＴｇ＋２０℃の範囲で延伸し、屈折率異方性の評価はエリプソメータによって測定波長５５０ｎｍで行うものとする。
【００２０】
本発明の多層フィルムは、少なくともＰ層とＮ層の１層ずつを含むことが必要である。好ましくは３層以上であり、より好ましくは３層で、Ｎ／Ｐ／Ｎ，Ｐ／Ｎ／Ｐのような対称構造を取ることが多層フィルムのカール防止の点で好ましい。光学異方性が互いに逆の特性を有するＮ層、Ｐ層が積層されることにより光学的異方性は打ち消され、異方性の小さい多層フィルムを得ることが可能となる。
【００２１】
最適な光学異方性は多層フィルムの用途によって異なるが、偏光板の保護フィルムに位相差フィルム機能を付与しない場合においては、当該保護フィルムは光学的に等方であることが好ましく、この用途に本発明の多層フィルムを用いる場合には、好ましい光学的異方性は下記式により表される。
Ｒ０ ＜ １０ｎｍ （４０）
Ｒｔｈ ＜ ７０ｎｍ （４１）
（ここで、Ｒ０，Ｒｔｈはそれぞれ、
Ｒ０ ＝ （ｎｘ−ｎｙ） × ｄ （４２）
Ｒｔｈ ＝ ｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ （４３）
で表され、ｄは多層フィルムの膜厚、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは多層フィルムの三次元屈折率であり、ｎｘはフィルム面内の最大屈折率方位の屈折率、ｎｙはフィルム面内でｎｘに直交する方位の屈折率、ｎｚはフィルム表面に垂直な方向の屈折率と定義する。Ｒ０、Ｒｔｈはエリプソメータ等の公知の方法により評価できるが、本発明においては、特に断りが無ければ測定波長は５５０ｎｍとする。）
より好ましくは、
Ｒ０ ＜ ７ｎｍ （４４）
Ｒｔｈ ＜ ５０ｎｍ （４５）
さらに好ましくは、
Ｒ０ ＜ ５ｎｍ （４６）
Ｒｔｈ ＜ ３０ｎｍ （４７）
である。
透明性の点でヘーズは３％以下であることが好ましく、より好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
【００２２】
＜多層フィルムの製造＞
本発明の多層フィルムを得るには、押出成形、キャスト成形等の公知の成形手法を用いることができる。例えば、Ｔダイ、Ｉダイ、円形ダイ等が装着された押出機等を用いて、製膜することができる。好ましくは、マルチマニュホールドダイかフィードブロック、ダブリング設備等多層化のための設備を接続したＴダイまたはＩダイによる多層押出成形を用いることが好ましい。これらは層数や樹脂の物性等により最適な方法が選択される。
【００２３】
多層押出成形により多層フィルムを得る場合、例えば、Ｐ層の場合、事前にポリ乳酸（Ａ成分）および他の成分を溶融混練した材料を用いることもできれば、押し出し成形時に溶融混練を経て成形することもできる。Ｎ層も同様にかつ同時に成形し多層フィルムを形成することが可能である。多層フィルム成形において問題となるシャークスキンや層厚のばらつきを抑制するには、各層に用いる樹脂の溶融粘度が近いほうが好ましい。具体的にはＰ層とＮ層の樹脂の同温度におけるメルトフローレートの差が２０（ｇ／１０ｍｉｎ）以下であることが好ましく、より好ましくは１０以下である。このメルトフローレートはＩＳＯ１１３３の方法で測定される。
【００２４】
また、溶融粘度の観点からも融点が近い方が好ましく、各層の融点の温度差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは２０℃以下、さらに好ましくは１０℃以下である。本発明においては、特に断りが無ければ、本発明におけるＴｇ、Ｔｍおよび結晶化温度（Ｔｃ）は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、昇温速度２０℃／分で求めた第一回昇温時の値であるとする。
【００２５】
Ｐ層の樹脂は結晶性高分子であるが、Ｎ層の樹脂は結晶性または非晶性高分子のいずれであってもよい。Ｎ層を結晶性とした場合には、Ｎ層の樹脂はＰ層の樹脂とガラス転移点温度（Ｔｇ）、融点（Ｔｍ）が近いことが好ましい。Ｔｇの差は３０℃以下であることが好ましく、２０℃以下がより好ましく、さらに好ましくは１０℃以下である。Ｔｍの差も同様に、３０℃以下であることが好ましく、２０℃以下がより好ましく、さらに好ましくは１０℃以下である。両者のＴｍの差が３０℃を超えた場合には、多層溶融押出工程において、層厚のムラ等の問題が発生する場合があり、また、Ｔｇの差が３０℃を超えた場合には、延伸工程において延伸ムラ等の問題が発生する場合がある。
【００２６】
一方、Ｎ層の樹脂を非晶性高分子とした場合には、Ｐ層の樹脂の結晶化温度（Ｔｐｃ）はＮ層のガラス転移点温度（Ｔｎｇ）よりも高いことが好ましい。ＴｐｃはＴｎｇよりも５℃以上高いことが好ましく、さらに好ましくは１０℃以上である。ＴｐｃがＴｎｇよりも低い場合には、延伸工程においては各層のＴｇ近傍以上で延伸が行われることから、Ｐ層の結晶化が延伸時に発生し、クレーズの発生等により透明性を確保できない場合がある。
【００２７】
多層フィルムは、溶融フィルムを冷却ドラム上に押出しついで該フィルムを回転する冷却ドラムに密着させ冷却することによって製造することができる。このとき溶融フィルムにはスルホン酸四級ホスホニウム塩等の静電密着剤を配合し、電極よりフィルム溶融面に非接触的に電荷を容易に印加し、それによってフィルムを、回転する冷却ドラムに密着させることにより表面欠陥の少ない多層フィルムを得てもよい。その際、押出し用ダイのリップ開度と冷却ドラム上に押出されたシートとの厚みとの比（ドラフト比）が２以上、８０以下であることが好ましい。ドラフト比が２より小さくなると押出しダイリップからの引取り速度が遅くなり過ぎ、ダイリップからのポリマーの離れ速度が遅いため、ダイリップスジ欠点などの欠点が多くなり好ましくない場合がある。この観点からドラフト比は３以上が好ましく、５以上がより好ましく、９以上が更に好ましく、１５以上が特に好ましい。また、ドラフト比が８０より大きくなるとポリマーがダイリップから離れる時の変形が大きすぎるためか流動が不安定となり厚み変動（厚み斑）が悪くなり、好ましくない場合がある。この観点からはドラフト比は６０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることが特に好ましい。
【００２８】
溶融押出フィルムを得るためには、ダイから出された溶融状態にある樹脂は急冷されることが好ましい。したがって、冷却ドラムの温度は各層樹脂のガラス転移点温度＋２０℃以下であることが好ましいが、多層フィルムのうちの冷却ドラムに接する層のガラス転移点温度＋２０℃以下であることがより好ましい。Ｐ層を冷却ドラムに接する層とした場合には、冷却ドラムは１０℃〜７０℃に設定されることが好ましく、より好ましくは２０℃〜６０℃、最も好ましくは３０℃〜５０℃である。冷却ドラムの温度が１０℃未満では冷却ドラムとの密着性が悪くなる場合があり、また、７０℃より高い温度の場合には、冷却不足による結晶化等のため透明性に問題が発生する場合がある。
【００２９】
多層フィルムの延伸は、公知の縦一軸延伸、横一軸延伸、同時二軸延伸等により行うことができ、該フィルムは、結晶性を高めるため、また、熱収縮性などの抑制のため延伸後、熱固定処理を行ってもよい。
【００３０】
延伸倍率は目的や樹脂の種類等によって適宜決定される。多層フィルムは、面積延伸倍率（縦倍率×横倍率）は、好ましくは６．０倍以下、より好ましくは４．０倍以下、さらに好ましくは３倍以下の範囲であり、好ましくは１．０５倍以上、さらに好ましくは１．１倍以上の範囲である。面積延伸倍率を６．０倍以上とした場合には、延伸性が悪くなり延伸中に破断が発生する頻度が上昇する等の問題が生じる場合がある。倍率が１．０５倍未満では、機械的強度が不十分となる場合がある。
【００３１】
延伸温度は、多層フィルムを構成する樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）から結晶化温度（Ｔｃ）の範囲が好適に選択される。
Ｔｇより低い温度では分子鎖が固定されているので、延伸加工を好適に進めることが困難であるとともに、またＴｃ以上では延伸時に結晶化が進み、この場合も延伸工程を良好に進行させることが困難となる場合がある。
【００３２】
従って延伸温度としては、各層を構成する樹脂のうち、最も高いＴｇを有する樹脂のＴｇ−１０℃以上がより好ましく、Ｔｇ−５℃以上がさらに好ましく、最も低いＴｃを有する樹脂のＴｃ＋１０℃以下がより好ましく、Ｔｃ＋５℃以下がさらに好ましく、最も好ましくはＴｃ以下である。
【００３３】
熱固定処理については、多層フィルムを構成する樹脂のうち最もＴｃの高い結晶性樹脂の結晶化温度（Ｔｃ）から、各層を構成する樹脂のうち最も低い融点（Ｔｍ）の温度範囲で熱固定処理することが好ましい。この熱固定処理をすることにより、ステレオコンプレックスポリ乳酸を含む各層の結晶性高分子の結晶化を進め、熱収縮率を好適に低下させることができる。
【００３４】
熱固定処理は１秒間から３０分間の範囲で実施することが好ましい。熱処理温度が高いときは相対的に短い時間で、熱固定処理温度が低いときは相対的に長い時間の熱処理を要する。
【００３５】
＜Ｐ層＞
Ｐ層の樹脂としては、後述するポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）を含むことが必須であるが、それ以外の成分を含んでいてもよい。
【００３６】
Ｐ層樹脂中のポリ乳酸（Ａ成分）成分の含有量は４０重量％以上であることが好ましく、さらに好ましくは５０重量％以上、より好ましくは６０重量％以上、特に好ましくは７０％重量以上、最も好ましくは７５重量％以上である。ポリ乳酸（Ａ成分）の含有量が４０重量％未満であると、ポリ乳酸（Ａ成分）の結晶化が生じにくくなり、耐熱性に問題が生じる場合等がある。ポリ乳酸（Ａ成分）以外の樹脂を含有させる場合には、多層フィルム成形性の観点から熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。
【００３７】
ポリ乳酸以外の熱可塑性樹脂としては、たとえばポリ乳酸樹脂以外のポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエチレン樹脂およびポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩素化ポリエチレン樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、芳香族ポリケトン樹脂、脂肪族ポリケトン樹脂、フッソ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリイミド樹脂、熱可塑性澱粉樹脂、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ビニルエステル系樹脂、ＭＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリエーテルイミド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００３８】
特に好ましくは、ポリ乳酸（Ａ成分）との相溶性が良く、また屈折率が近いという観点からアクリル系樹脂（Ｂ成分）、とりわけ、ポリメチルメタクリレート（以下、ＰＭＭＡと略記することがある。）である。多層フィルムのＰ層におけるアクリル系樹脂（Ｂ成分）含有量としては、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下である。アクリル系樹脂（Ｂ成分）が５０重量％より多い場合においてはポリ乳酸（Ａ成分）を結晶化させることが困難であり、耐熱性等に問題が生じる場合がある。アクリル系樹脂（Ｂ成分）については後述する。
【００３９】
＜ポリ乳酸（Ａ成分）＞
本発明において、Ｐ層樹脂は、ポリ乳酸（Ａ成分）を含む。ポリ乳酸（Ａ成分）は、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含み、ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である。
【００４０】
ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃
未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（ΔＨｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（ΔＨｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求められる値である。
（Ｓ）＝〔ΔＨｍｓｃ ／ （ΔＨｍｈ ＋ ΔＨｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）
【００４１】
ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は好ましくは９３％から１００％、より好ましくは９５％から１００％の範囲が選択される。特に好ましくはステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は１００％である。
【００４２】
ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上であるポリ乳酸をＰ層樹脂として用いると、多層フィルムの透明性を高く保つことが可能である。また、耐熱性も高いものとなる。
【００４３】
上述のステレオコンプレックス結晶化度を好適に満たすために、ポリ乳酸（Ａ成分）において、ポリＤ−乳酸成分とポリＬ−乳酸成分との重量比は９０／１０から１０／９０であることが好ましい。
【００４４】
より好ましくは８０／２０から２０／８０、さらに好ましくは３０／７０から７０／３０、とりわけ好ましくは４０／６０から６０／４０の範囲であり、理論的には１／１にできるだけ近い方が好ましく選択される。
【００４５】
多層フィルムにおけるポリ乳酸（Ａ成分）の結晶化の度合いとしては、広角Ｘ線回折（ＸＲＤ）測定による回折ピークの強度比によって、式（ＩＩ）で定義されるステレオコンプレックス結晶化率（Ｓｃ）が５０％以上を有することがより好ましく、好ましくは５０から１００％、さらに好ましくは７０から１００％、とりわけ好ましくは９０から１００％の範囲が選択される。すなわちポリ乳酸（Ａ成分）が上記（Ｓｃ）を有することにより、フィルムの透明性、耐熱性、耐湿熱性をより好適に満たすことができる。特に透明性に関しては、ステレオコンプレックス結晶を有しないポリ乳酸に比べて、著しくヘーズを低減することが可能であり、光学用途に用いられるフィルムとしてはより好適である。
Ｓｃ（％）＝〔ΣＩＳＣｉ／（ΣＩＳＣｉ＋ＩＨＭ）〕×１００ （ＩＩ）
［ここで、ΣＩＳＣｉ＝ＩＳＣ１＋ＩＳＣ２＋ＩＳＣ３、ＩＳＣｉ（ｉ＝１から３）はそれぞれ２θ＝１２．０°， ２０．７°， ２４．０°付近の各回折ピークの積分強度、ＩＨＭは２θ＝１６．５°付近に現れるホモ結晶に由来する回折ピークの積分強度ＩＨＭを表す。］
【００４６】
さらにポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶の融点は１９０から２５０℃、より好ましくは２００から２３０℃の範囲が好適に選択され、ＤＳＣ測定による結晶融解エンタルピーは、２０Ｊ／ｇ以上、好ましくは２０から８０Ｊ／ｇ、より好ましくは３０から８０Ｊ／ｇの範囲が選択される。
【００４７】
また、本発明におけるポリＬ‐乳酸成分およびポリＤ‐乳酸成分の重量平均分子量は、フィルムの機械物性及び成形性を両立させるため、好ましくは１０万から５０万、より好ましくは１１万から３５万、さらに好ましくは１２から２５万の範囲が選択される。
【００４８】
ポリＬ‐乳酸成分およびポリＤ‐乳酸成分は、従来公知の方法で製造することができる。
例えば、Ｌ‐ラクチドまたはＤ‐ラクチドを金属含有触媒の存在下、開環重合することにより製造することができる。また金属含有触媒を含有する低分子量のポリ乳酸を、所望により結晶化させた後、あるいは結晶化させることなく、減圧下または常圧から加圧下、不活性ガス気流の存在下、あるいは非存在下、固相重合させ製造することもできる。さらに有機溶媒の存在または非存在下、乳酸を脱水縮合させる直接重合法により製造することができる。
【００４９】
重合反応は、従来公知の反応容器で実施可能であり、例えば開環重合あるいは直接重合法においてはヘリカルリボン翼等、高粘度用撹拌翼を備えた縦型反応器あるいは横型反応器を単独、または並列して使用することができる。また、回分式あるいは連続式あるいは半回分式のいずれでも良いし、これらを組み合わせてもよい。
【００５０】
重合開始剤としてアルコールを用いてもよい。かかるアルコールとしては、ポリ乳酸の重合を阻害せず不揮発性であることが好ましく、例えばデカノール、ドデカノール、テトラデカノール、ヘキサデカノール、オクタデカノール、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスルトールなどを好適に用いることができる。
【００５１】
固相重合法で使用するポリ乳酸プレポリマーは、予め結晶化させることが、樹脂ペレット融着防止の面から好ましい実施形態と言える。プレポリマーは固定された縦型或いは横型反応容器、またはタンブラーやキルンの様に容器自身が回転する反応容器（ロータリーキルン等）中、プレポリマーのガラス転移点温度から融点未満の温度範囲において固体状態で重合される。
【００５２】
金属含有触媒としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類、遷移金属類、アルミニウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、チタン等の脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラート等が例示される。
【００５３】
なかでもスズ、アルミニウム、亜鉛、カルシウム、チタン、ゲルマニウム、マンガン、マグネシウムおよび稀土類元素より選択される少なくとも一種の金属を含有する脂肪酸塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、水酸化物、ハロゲン化物、アルコラートが好ましい。
【００５４】
触媒活性、副反応の少なさからスズ化合物、具体的には塩化第一スズ、臭化第一スズ、ヨウ化第一スズ、硫酸第一スズ、酸化第二スズ、ミリスチン酸スズ、オクチル酸スズ、ステアリン酸スズ、テトラフェニルスズ等のスズ含有化合物が好ましい触媒として例示でされる。
【００５５】
なかでも、スズ（ＩＩ）化合物、具体的にはジエトキシスズ、ジノニルオキシスズ、ミリスチン酸スズ（ＩＩ）、オクチル酸スズ（ＩＩ）、ステアリン酸スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＩ）などが好適に例示される。
【００５６】
触媒の使用量は、ラクチド１ｋｇ当たり０．４２×１０−４から１００×１０−４（モル）でありさらに反応性、得られるポリラクチド類の色調、安定性を考慮すると１．６８×１０−４から４２．１×１０−４（モル）、特に好ましくは２．５３×１０−４から１６．８×１０−４（モル）使用される。
【００５７】
ポリ乳酸重合に使用された金属含有触媒は、ポリ乳酸使用に先立ち、従来公知の失活剤で不活性化しておくのが好ましい。
かかる失活剤としては例えばイミノ基を有し且つ重合金属触媒に配位し得るキレート配位子の群からなる有機リガンド及びジヒドリドオキソリン（Ｉ）酸、ジヒドリドテトラオキソ二リン（ＩＩ，ＩＩ）酸、ヒドリドトリオキソリン（ＩＩＩ）酸、ジヒドリドペンタオキソ二リン（ＩＩＩ）酸、ヒドリドペンタオキソ二（ＩＩ，ＩＶ）酸、ドデカオキソ六リン（ＩＩＩ）酸、ヒドリドオクタオキソ三リン（ＩＩＩ，ＩＶ，ＩＶ）酸、オクタオキソ三リン（ＩＶ，ＩＩＩ，ＩＶ）酸、ヒドリドヘキサオキソ二リン（ＩＩＩ，Ｖ）酸、ヘキサオキソ二リン（ＩＶ）酸、デカオキソ四リン（ＩＶ）酸、ヘンデカオキソ四リン（ＩＶ）酸、エネアオキソ三リン（Ｖ，ＩＶ，ＩＶ）酸等の酸価数５以下の低酸化数リン酸、式 ｘＨ２Ｏ・ｙＰ２Ｏ５で表され、ｘ／ｙ＝３のオルトリン酸、２＞ｘ／ｙ＞１であり、縮合度より二リン酸、三リン酸、四リン酸、五リン酸等と称せられるポリリン酸及びこれらの混合物、ｘ／ｙ＝１で表されるメタリン酸、なかでもトリメタリン酸、テトラメタリン酸、１＞ｘ／ｙ＞０で表され、五酸化リン構造の一部をのこした網目構造を有するウルトラリン酸（これらを総称してメタリン酸系化合物と呼ぶことがある。）、及びこれらの酸の酸性塩、一価、多価のアルコール類、あるいはポリアルキレングリコール類の部分エステル、完全エスエテル、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体などが例示される。
【００５８】
触媒失活能から、式ｘＨ２Ｏ・ｙＰ２Ｏ５で表され、ｘ／ｙ＝３のオルトリン酸、２＞ｘ／ｙ＞１であり、縮合度より二リン酸、三リン酸、四リン酸、五リン酸等と称せられるポリリン酸及びこれらの混合物、ｘ／ｙ＝１で表されるメタリン酸、なかでもトリメタリン酸、テトラメタリン酸、１＞ｘ／ｙ＞０で表され、五酸化リン構造の一部をのこした網目構造を有するウルトラリン酸（これらを総称してメタリン酸系化合物と呼ぶことがある。）、及びこれらの酸の酸性塩、一価、多価のアルコール類、あるいはポリアルキレングリコール類の部分エステルリンオキソ酸あるいはこれらの酸性エステル類、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体及び上記のメタリン酸系化合物が好適に使用される。
【００５９】
本発明で使用するメタリン酸系化合物は、３から２００程度のリン酸単位が縮合した環状のメタリン酸あるいは立体網目状構造を有するウルトラ領域メタリン酸あるいはそれらの（アルカル金属塩、アルカリ土類金属塩、オニウム塩）を包含する。なかでも環状メタリン酸ナトリウムやウルトラ領域メタリン酸ナトリウム、ホスホノ置換低級脂肪族カルボン酸誘導体のジヘキシルホスホノエチルアセテート（以下、ＤＨＰＡと略称することがある）などが好適に使用される。
【００６０】
本発明で使用するポリ乳酸は、含有ラクチド量が１から５０００ｐｐｍのものが好ましい。ポリ乳酸中に含有するラクチドは溶融加工時、樹脂を劣化させ、色調を悪化させ、場合によっては製品として使用不可能にする場合がある。
【００６１】
溶融開環重合された直後のポリＬ−乳酸および／またはポリＤ−乳酸は通常１から５重量％のラクチドを含有するが、ポリＬ−乳酸および／またはポリＤ−乳酸重合終了の時点からポリ乳酸成形までの間の任意の段階において、従来公知のラクチド減量法により、即ち一軸あるいは多軸押出機での真空脱揮法、あるいは重合装置内での高真空処理等を単独であるいは組み合わせて実施することにラクチドを好適な範囲に低減することができる。
【００６２】
ラクチド含有量は少ないほど、樹脂の溶融安定性、耐湿熱安定性は向上するが、樹脂溶融粘度を低下させる利点もあり、所望の目的に合致した含有量にするのが合理的、経済的である。すなわち、実用的な溶融安定性が達成される１から１０００ｐｐｍに設定するのが合理的である。さらに好ましくは１から７００ｐｐｍ、より好ましくは２から５００ｐｐｍ、特に好ましくは５から１００ｐｐｍの範囲が選択される。
【００６３】
ポリ乳酸成分がかかる範囲のラクチド含有量を有することにより、本発明の多層フィルムの溶融製膜時の樹脂の安定性を向上せしめ、フィルムの製造を効率よく実施できる利点及びフィルムの耐湿熱安定性、低ガス性を高めることが出来る。
【００６４】
本発明に使用されるポリ乳酸の重量平均分子量は、成形加工性と得られる成形品の機械的、熱的物性との関係を考察して選択される。即ち、組成物の強度、伸度、耐熱性等の機械的、熱的物性を発揮させるためには重量平均分子量は好ましくは８万以上、より好ましくは１０万以上、さらに好ましくは１３万以上である。
【００６５】
しかし、重量平均分子量の上昇とともに、ポリ乳酸の溶融粘度は指数関数的に上昇し、押出成形等の溶融成形を行うとき、樹脂粘度を成形可能範囲にするため、成形温度をポリ乳酸の耐熱温度以上に高く設定しなければならない場合が発生する。
【００６６】
具体的には、ポリ乳酸は、３００℃を超える温度で成形を行うと樹脂の熱分解のためフィルム品が着色し、商品としての価値が低いものとなってしまう可能性が高い。
したがってポリ乳酸組成物の重量平均分子量は、好ましくは５０万以下、より好ましくは４０万以下、さらに好ましくは３０万以下である。従ってポリ乳酸の重量平均分子量は、好ましくは８万から５０万、より好ましくは１０万から４０万、さらに好ましくは１３万から３０万である。
【００６７】
重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比を分子量分散（Ｍｗ／Ｍｎ）という。分子量分散が大きいことは、平均分子量に比較し、大きな分子や小さな分子の割合が多いことを意味する。
【００６８】
即ち、例えば重量平均分子量が２５万程度で、分子量分散の３以上のポリ乳酸は、分子量が２５万より大きい分子の割合が大きくなる場合があり、この場合、溶融粘度が大きくなり、上記の意味で成形上好ましくない。また８万程度の比較的小さい重量平均分子量で分子量分散の大きなポリ乳酸組成物では、分子量が８万より小さい分子の割合が大きくなる場合があり、この場合、成形品の機械的物性の耐久性が小さくなり、使用上好ましくない。かかる観点より分子量分散の範囲は、好ましくは１．５から２．４、より好ましくは１．６から２．４、さらに好ましくは１．６から２．３の範囲である。
【００６９】
本発明の多層フィルムで用いられるポリ乳酸は、前述したようにポリＬ−乳酸成分とポリＤ−乳酸成分とを重量比で１０／９０から９０／１０の範囲で接触させることにより、好ましくは溶融接触させることにより、より好ましくは溶融混練接触させることにより得ることができる。
【００７０】
このポリＬ−乳酸成分とポリＤ−乳酸成分との接触温度はポリ乳酸の溶融時の安定性及びステレオコンプレックス結晶化度の向上の観点より２２０から２９０℃、好ましくは２２０から２８０℃、さらに好ましくは２２５から２７５℃の範囲が選択される。
【００７１】
溶融混練方法は特に限定されるものではないが、従来公知のバッチ式或いは連続式の溶融混合装置が好適に使用される。たとえば、溶融撹拌槽、一軸、二軸の押出し機、ニーダー、無軸籠型撹拌槽、住友重機械工業（株）製「バイボラック」、三菱重工業（株）製Ｎ−ＳＣＲ，（株）日立製作所製めがね翼、格子翼あるいはケニックス式撹拌機、あるいはズルツァー式ＳＭＬＸタイプスタチックミキサー具備管型重合装置などを使用できるが、生産性、ポリ乳酸の品質とりわけ色調の点でセルフクリーニング式の重合装置である無軸籠型撹拌槽、Ｎ−ＳＣＲ、２軸押し出しルーダーなどが好適に使用される。
【００７２】
本発明で用いるポリ乳酸には、本発明の主旨に反しない範囲において、ステレオコンプレックスポリ乳酸結晶の形成を安定的且つ高度に進めるために特定の添加物を配合する手法が好ましく適用される。
【００７３】
すなわち、例えば、ステレオコンプレックス結晶化促進剤として下記式（２２）または（２３）で表されるリン酸金属塩を添加する手法が挙げられる。
【００７４】
【化９】
【００７５】
式（２２）中、Ｒ１１は水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１２、Ｒ１３はそれぞれ独立に、水素原子、または炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｍ１はアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、ｐは１または２を表し、ｑはＭ１がアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは０を、アルミニウム原子の時は１または２を表す。
【００７６】
【化１０】
【００７７】
式（２３）中Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は各々独立に、水素原子または炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、Ｍ２はアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子またはアルミニウム原子を表し、ｐは１または２を表し、ｑはＭ２がアルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、亜鉛原子のときは０を、アルミニウム原子の時は１または２を表す。
【００７８】
式（２２）または（２３）で表されるリン酸金属塩のＭ１、Ｍ２は、Ｎａ、Ｋ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｌｉが好ましく、特に、Ｋ、Ｎａ、Ａｌ、ＬｉなかでもＬｉ、Ａｌが最も好適に用いることができる。
【００７９】
これらのリン酸金属塩は、（株）ＡＤＥＫＡ製の商品名、「アデカスタブ」ＮＡ−１１、ＮＡ−７１等が好適な剤として例示される。ポリ乳酸に対して、リン酸金属塩は０．００１から２ｗｔ％、好ましくは０．００５から１ｗｔ％、より好ましくは０．０１から０．５ｗｔ％さらに好ましくは０．０２から０．３ｗｔ％用いることが好ましい。少なすぎる場合には、ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）を向上する効果が小さく、多すぎるとステレオコンプレックス結晶融点を低下させるので好ましくない。
【００８０】
さらに所望により、リン酸金属塩の作用を強化するため、以下記載する公知の結晶化核剤を併用することができる。なかでも珪酸カルシウム、タルク、カオリナイト、モンモリロナイトが好ましくは選択される。
結晶化核剤の使用量はポリ乳酸に対し０．０５から５ｗｔ％、より好ましくは０．０６から２ｗｔ％、さらに好ましくは０．０６から１ｗｔ％の範囲が選択される。
【００８１】
また、ステレオコンプレックス結晶化助剤［（エポキシ基、オキサゾリン基、オキサジン基、イソシアネート基、ケテン基及びカルボジイミド基）（以下特定官能基と略称することがある）の群より選択される官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物］を添加する手法が挙げられる。
【００８２】
本発明においてステレオコンプレックス結晶化助剤とは、特定官能基がポリ乳酸の分子末端と反応して、部分的にポリＬ−乳酸ユニットとポリＤ−乳酸ユニットとを連結し、ステレオコンプレックス結晶形成を促進させているものと本発明者らが推察する剤である。
【００８３】
ステレオコンプレックス結晶化助剤としては以下に記載する従来ポリエステルのカルボキシル末端基封鎖剤として公知の剤を好適に適用することができる。なかでも、ステレオコンプレックス結晶形成促進効果よりカルボジイミド化合物が好適に選択される。
【００８４】
しかしながらステレオコンプレックス結晶化助剤とりわけ、窒素を含有するステレオコンプレックス結晶化助剤は、ステレオコンプレックス結晶形成時、剤の熱分解のため悪臭による作業環境悪化、ポリ乳酸の色調悪化を引き起こす危険性が大きいため、使用しないことが好ましく、使用する場合には、ステレオコンプレックス結晶の高度形成に重点を置く場合に限定し、可能な限り少量に抑制して使用することが好ましい。
【００８５】
ステレオコンプレックス結晶化助剤の使用量は上記と同じ基準において１ｗｔ％以下、好ましくは、０から０．５ｗｔ％、より好ましくは０から０．３ｗｔ％、さらに好ましくは０から０．１ｗｔ％の範囲が選択される。
【００８６】
すなわち上記ステレオコンプレックス結晶化促進剤の手法は単独に適用することが好ましく、ステレオコンプレックス結晶形成により重点をおく場合にステレオコンプレックス結晶化助剤の手法と組み合わせて適用することが好ましく選択される。
【００８７】
本発明においては、ポリ乳酸のカルボキシル末端基濃度は０．０１から１０（当量／１０６ｇ）、｛以下（当量／１０６ｇ）を（当量／ｔｏｎ）と略称することがある。｝が好ましい。より好ましくは０．０２から２（当量／ｔｏｎ）、さらに好ましくは０．０２から１（当量／ｔｏｎ）の範囲が好適に選択される。
【００８８】
カルボキシル末端基濃度がこの範囲内にある時には、溶融安定性、湿熱安定性を良好なものとすることができる。ポリ乳酸のカルボキシル末端基濃度を１０（当量／ｔｏｎ）以下にするには、ポリエステル組成物で従来公知のカルボキシル末端基濃度の低減方法を好適に適用することができ、例えばアルコール、アミンによってエステルまたはアミド化することもできるが、後述のＣ成分を用いることが好ましい。
【００８９】
＜アクリル系樹脂（Ｂ成分）＞
上述のアクリル系樹脂（Ｂ成分）は、シクロヘキシルメタクリレート、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロへキシルメタクリレート、メチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−２−エチルヘキシル等のアクリル酸エステルより選ばれる１種以上の単量体を重合したものである。これらの単量体は、単独でまたは２種以上混合して用いることができる。なかでも、メタクリル酸メチルの単独重合体または他の単量体との共重合体が好ましい。
【００９０】
メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体としては、他のメタリル酸アルキルエステル類、アクリル酸アルキルエステル類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物類、アクリロニトリル、メタクリルニトリル等のシアン化ビニル類、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロへキシルマレイミド等のマレイミド類、無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸無水物類、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸等の不飽和酸類が挙げられる。これらメタクリル酸メチルと共重合可能な単量体の中でも、特にアクリル酸アルキルエステル類は耐熱分解性に優れる。またアクリル酸アルキルエステル類を共重合させて得られるメタクリル系樹脂は成形加工時の流動性が高く好ましい。
【００９１】
メタクリル酸メチルにアクリル酸アルキルエステル類を共重合させる場合のアクリル酸アルキルエステル類の使用量は、耐熱分解性の観点から０．１重量％以上であることが好ましく、耐熱性の観点から１５重量％以下であることが好ましい。０．２重量％以上１４重量％以下であることがさらに好ましく、１重量％以上１２重量％以下であることがとりわけ好ましい。
【００９２】
このアクリル酸アルキルエステル類の中でも、特にアクリル酸メチルおよびアクリル酸エチルは、それを少量メタクリル酸メチルと共重合させても上記改良効果は著しく最も好ましい。上記メタクリル酸メチルと共重合可能な単量体は一種または二種以上組み合わせて使用することもできる。
【００９３】
アクリル系樹脂（Ｂ成分）の重量平均分子量は、好ましくは５万〜２０万である。重量平均分子量は成形品の強度の観点から５万以上が好ましく、成形加工性、流動性の観点から２０万以下が好ましい。さらに好ましい範囲は７万〜１５万である。また、本発明においてはアイソタクチックポリメタクリル酸エステルとシンジオタクチックポリメタクリル酸エステルを同時に用いることもできる。
【００９４】
アクリル系樹脂（Ｂ成分）を製造する方法として、例えばキャスト重合、塊状重合、懸濁重合、溶液重合、乳化重合、アニオン重合等の一般に行われている重合方法を用いることができるが、光学用途において用いられる多層フィルムとするにあたり、微小異物の混入は極力避けることが好ましく、この観点からは懸濁剤や乳化剤を用いない塊状重合や溶液重合が望ましい。溶液重合を行う場合には、単量体の混合物をトルエン、エチルベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素の溶媒に溶解して調整した溶液を用いることができる。塊状重合により重合させる場合には、通常行われるように加熱により生じる遊離ラジカルや電離性放射線照射により重合を開始させることができる。
【００９５】
重合反応に用いられる開始剤としては、一般にラジカル重合において用いられる任意の開始剤を使用することができ、例えばアゾビスイソブチルニトリル等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物が用いられる。また、特に９０℃以上の高温下で重合を行わせる場合には、溶液重合が一般的であるので、１０時間半減期温度が８０℃以上でかつ用いる有機溶媒に可溶である過酸化物、アゾビス開始剤等が好ましい。具体的には１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンパーオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、１，１−アゾビス（１−シクロヘキサンカルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソプチロニトリル等を挙げることができる。これらの開始剤は０．００５〜５重量％の範囲で用いられる。
【００９６】
重合反応に必要に応じて用いられる分子量調節剤は、一般的なラジカル重合において用いる任意のものが使用される。例えば、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸２−エチルヘキシル等のメルカプタン化合物が特に好ましいものとして挙げられる。これらの分子量調節剤は、重合度が上記の範囲内に制御されるような濃度範囲で添加される。
【００９７】
＜Ｃ成分＞
本発明において、Ｐ層樹脂において主としてポリ乳酸の加水分解を抑制するために添加される、カルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）について説明する。Ｃ成分は環状構造を有する（以下、Ｃ成分を環状カルボジイミド化合物と略記することがある。）。環状カルボジイミド化合物は、環状構造を複数有していてもよい。
【００９８】
ここで環状構造は、カルボジイミド基（−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−）を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されて形成している。一つの環状構造中には、１個のカルボジイミド基のみを有するが、例えば、スピロ環など、分子中に複数の環状構造を有する場合にはスピロ原子に結合するそれぞれの環状構造中に１個のカルボジイミド基を有していれば、化合物として複数のカルボジイミド基を有していてよいことはいうまでもない。環状構造中の原子数は、好ましくは８〜５０、より好ましくは１０〜３０、さらに好ましくは１０〜２０、特に、１０〜１５が好ましい。
【００９９】
ここで、環状構造中の原子数とは、環状構造を直接構成する原子の数を意味し、例えば、８員環であれば８、５０員環であれば５０である。環状構造中の原子数が８より小さいと、環状カルボジイミド化合物の安定性が低下して、保管、使用が困難となる場合があるためである。また反応性の観点よりは環員数の上限値に関しては特別の制限はないが、５０を超える原子数の環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より環状構造中の原子数は好ましくは、１０〜３０、より好ましくは１０〜２０、特に好ましくは１０〜１５の範囲が選択される。
【０１００】
環状構造は、下記式（１）で表される構造であることが好ましい。
【化１１】
【０１０１】
式中、Ｑは、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２〜４価の結合基である。ヘテロ原子とはこの場合、Ｏ、Ｎ、Ｓ、Ｐを指す。この結合基の価のうち２つの価は環状構造を形成するために使用される。Ｑが３価あるいは４価の結合基である場合、単結合、二重結合、原子、原子団を介して、ポリマーあるいは他の環状構造と結合している。
【０１０２】
結合基は、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基またはこれらの組み合わせであり、上記で規定される環状構造を形成するための必要炭素数を有する結合基が選択される。組み合わせの例としては、アルキレン基とアリーレン基が結合した、アルキレン−アリーレン基のような構造などが挙げられる。
【０１０３】
結合基（Ｑ）は、下記式（１−１）、（１−２）または（１−３）で表される２〜４価の結合基であることが好ましい。
【０１０４】
【化１２】
【０１０５】
式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基である。
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基（２価）として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１０６】
Ｒ１およびＲ２は各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、およびこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基の組み合わせである。
【０１０７】
脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルカントリイル基、炭素数１〜２０のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１０８】
脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルカントリイル基、炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１０９】
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これら芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１０】
上記式（１−１）、（１−２）においてＸ１およびＸ２は各々独立に、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。
【０１１１】
脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルカントリイル基、炭素数１〜２０のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂肪族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１２】
脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルカントリイル基、炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これらの脂環族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１３】
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１４】
上記式（１−１）、（１−２）においてｓ、ｋは０〜１０の整数、好ましくは０〜３の整数、より好ましくは０〜１の整数である。ｓ及びｋが１０を超えると、環状カルボジイミド化合物は合成上困難となり、コストが大きく上昇する場合が発生するためである。かかる観点より整数は好ましくは０〜３の範囲が選択される。なお、ｓまたはｋが２以上であるとき、繰り返し単位としてのＸ１、あるいはＸ２が、他のＸ１、あるいはＸ２と異なっていてもよい。
【０１１５】
上記式（１−３）においてＸ３は、それぞれヘテロ原子ならびに置換基を含んでいてもよい、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。
【０１１６】
脂肪族基として、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルカントリイル基、炭素数１〜２０のアルカンテトライル基などが挙げられる。アルキレン基として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、へプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基、へキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、メタントリイル基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ドデカントリイル基、ヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、メタンテトライル基、エタンテトライル基、プロパンテトライル基、ブタンテトライル基、ペンタンテトライル基、ヘキサンテトライル基、ヘプタンテトライル基、オクタンテトライル基、ノナンテトライル基、デカンテトライル基、ドデカンテトライル基、ヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂肪族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１７】
脂環族基として、炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルカントリイル基、炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基が挙げられる。シクロアルキレン基として、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロへプチレン基、シクロオクチレン基、シクロノニレン基、シクロデシレン基、シクロドデシレン基、シクロへキサデシレン基などが挙げられる。アルカントリイル基として、シクロプロパントリイル基、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロヘプタントリイル基、シクロオクタントリイル基、シクロノナントリイル基、シクロデカントリイル基、シクロドデカントリイル基、シクロヘキサデカントリイル基などが挙げられる。アルカンテトライル基として、シクロプロパンテトライル基、シクロブタンテトライル基、シクロペンタンテトライル基、シクロヘキサンテトライル基、シクロヘプタンテトライル基、シクロオクタンテトライル基、シクロノナンテトライル基、シクロデカンテトライル基、シクロドデカンテトライル基、シクロヘキサデカンテトライル基などが挙げられる。これら脂環族基は置換基を含んでいてもよく、置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリーレン基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１８】
芳香族基として、それぞれへテロ原子を含んで複素環構造を持っていてもよい、炭素数５〜１５のアリーレン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、炭素数５〜１５のアレーンテトライル基が挙げられる。アリーレン基として、フェニレン基、ナフタレンジイル基などが挙げられる。アレーントリイル基（３価）として、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基などが挙げられる。アレーンテトライル基（４価）として、ベンゼンテトライル基、ナフタレンテトライル基などが挙げられる。これらの芳香族基は置換されていても良い。置換基として、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５のアリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミド基、ヒドロキシル基、エステル基、エーテル基、アルデヒド基などが挙げられる。
【０１１９】
また、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はヘテロ原子を含有していてもよい、また、Ｑが２価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は全て２価の基である。Ｑが３価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが３価の基である。Ｑが４価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。
【０１２０】
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として、以下（ａ）〜（ｃ）で表される化合物が挙げられる。
【０１２１】
＜環状カルボジイミド化合物（ａ）＞
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式（２）で表される化合物（以下、「環状カルボジイミド化合物（ａ）」ということがある。）を挙げることができる。
【０１２２】
【化１３】
【０１２３】
式中、Ｑａは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式（１）で説明したものと同じである。但し、式（２）の化合物においては、脂肪族基、脂環族基、芳香族基は全て２価である。Ｑａは、下記式（２−１）、（２−２）または（２−３）で表される２価の結合基であることが好ましい。
【０１２４】
【化１４】
【０１２５】
式中、Ａｒａ１、Ａｒａ２、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｘａ１、Ｘａ２、Ｘａ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）中のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、これらは全て２価である。
かかる環状カルボジイミド化合物（ａ）としては、以下の化合物が挙げられる。
【０１２６】
【化１５】
【０１２７】
【化１６】
【０１２８】
【化１７】
【０１２９】
【化１８】
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
【化２０】
【０１３２】
【化２１】
【０１３３】
【化２２】
【０１３４】
【化２３】
【０１３５】
【化２４】
【０１３６】
【化２５】
【０１３７】
【化２６】
【０１３８】
【化２７】
【０１３９】
【化２８】
【０１４０】
＜環状カルボジイミド化合物（ｂ）＞
さらに、本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式（３）で表される化合物（以下、「環状カルボジイミド化合物（ｂ）」ということがある。）を挙げることができる。
【０１４１】
【化２９】
【０１４２】
式中、Ｑｂは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基、またはこれらの組み合わせである３価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Ｙは、環状構造を担持する担体である。脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式（１）で説明したものと同じである。但し、式（３）の化合物においては、Ｑｂを構成する基の内一つは３価である。
Ｑｂは、下記式（３−１）、（３−２）または（３−３）で表される３価の結合基であることが好ましい。
【０１４３】
【化３０】
【０１４４】
式中、Ａｒｂ１、Ａｒｂ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｘｂ１、Ｘｂ２、Ｘｂ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但しこれらの内の一つは３価の基である。
Ｙは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーであることが好ましい。Ｙは結合部であり、複数の環状構造がＹを介して結合し、式（３）で表される構造を形成している。
かかる環状カルボジイミド化合物（ｂ）としては、下記化合物が挙げられる。
【０１４５】
【化３１】
【０１４６】
【化３２】
【０１４７】
【化３３】
【０１４８】
【化３４】
【０１４９】
＜環状カルボジイミド化合物（ｃ）＞
本発明で用いる環状カルボジイミド化合物として下記式（４）で表される化合物（以下、「環状カルボジイミド化合物（ｃ）」ということがある。）を挙げることができる。
【０１５０】
【化３５】
【０１５１】
式中、Ｑｃは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである４価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。Ｚ１およびＺ２は、環状構造を担持する担体である。Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して環状構造を形成していてもよい。
【０１５２】
脂肪族基、脂環族基、芳香族基は、式（１）で説明したものと同じである。但し、式（４）の化合物において、Ｑｃは４価である。従って、これらの基の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。
Ｑｃは、下記式（４−１）、（４−２）または（４−３）で表される４価の結合基であることが好ましい。
【０１５３】
【化３６】
【０１５４】
Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２、Ｘｃ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）の、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２およびＸｃ３は、これらの内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。Ｚ１およびＺ２は各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーであることが好ましい。Ｚ１およびＺ２は結合部であり、複数の環状構造がＺ１およびＺ２を介して結合し、式（４）で表される構造を形成している。
かかる環状カルボジイミド化合物（ｃ）としては、下記化合物を挙げることができる。
【０１５５】
【化３７】
【０１５６】
【化３８】
【０１５７】
【化３９】
【０１５８】
本発明における、多層フィルムＰ層中の環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の割合は、ポリ乳酸（Ａ成分）１００重量部と基準にして環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）が０．００１〜５重量部含有されることが好ましい。Ｃ成分の量がこの範囲にあれば、水分に対する安定性、耐加水分解安定性を好適に高めることができる。
【０１５９】
かかる観点より環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の含有割合はより好ましくは、ポリ乳酸（Ａ成分）１００重量部あたり０．０１〜５重量部、さらに好ましくは０．１〜４重量部の範囲が選択される。この範囲より少量であると環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の効果が有効に認められないことがあり、また、この範囲を超えて多量に適用しても、耐加水分解安定性の更なる向上は期待されない。
【０１６０】
前述のように、Ｐ層樹脂にアクリル系樹脂（Ｂ成分）を含む場合には、樹脂中の環状カルボジイミド化合物（Ｃ成分）の割合は、上述の”ポリ乳酸（Ａ成分）１００重量部”を”ポリ乳酸（Ａ成分）とアクリル系樹脂（Ｂ成分）との合計量１００重量部”と読み代えればよい。
【０１６１】
本発明において、環状カルボジイミド化合物の製造方法は特に限定無く、従来公知の方法により製造することができる。例として、アミン体からイソシアネート体を経由して製造する方法、アミン体からイソチオシアネート体を経由して製造する方法、アミン体からトリフェニルホスフィン体を経由して製造する方法、アミン体から尿素体を経由して製造する方法、アミン体からチオ尿素体を経由して製造する方法、カルボン酸体からイソシアネート体を経由して製造する方法、ラクタム体を誘導して製造する方法などが挙げられる。
【０１６２】
また、本発明の環状カルボジイミド化合物は、以下の文献に記載された方法を組み合わせ、あるいは目的とする化合物に応じて適切に改変、組み合わせすることにより製造することができる。
【０１６３】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３４，Ｎｏ．３２，５１５−５１５８，１９９３．
Ｍｅｄｉｕｍ−ａｎｄ Ｌａｒｇｅ−Ｍｅｍｂｅｒｅｄ Ｒｉｎｇｓ ｆｒｏｍ Ｂｉｓ（ｉｍｉｎｏｐｈｏｓｐｈｏｒａｎｅｓ）：Ａｎ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ， Ｐｅｄｒｏ Ｍｏｌｉｎａ ｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．６１，Ｎｏ．１３，４２８９−４２９９，１９９６．
Ｎｅｗ Ｍｏｄｅｌｓ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｓｔｕｄｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｒａｃｅｍｉｚａｔｉｏｎ Ｍｅｃｈａｎｉｓｍ ｏｆ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ．Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ａｎｄ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ（Ｘ−ｒａｙ Ｃｒｙｓｔａｌｌｏｇｒａｐｈｙ ａｎｄ １Ｈ ＮＭＲ） ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ， Ｐｅｄｒｏ Ｍｏｌｉｎａ ｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．４３，Ｎｏ８，１９４４−１９４６，１９７８．
Ｍａｃｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｕｒｅａｓ ａｓ Ｍａｓｋｅｄ Ｉｓｏｃｙａｎａｔｅｓ， Ｈｅｎｒｉ Ｕｌｒｉｃｈ ｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．４８，Ｎｏ．１０，１６９４−１７００，１９８３．
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ ａｎｄ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ，Ｒ．Ｒｉｃｈｔｅｒｅｔａｌ．
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．５９，Ｎｏ．２４，７３０６−７３１５，１９９４．
Ａ Ｎｅｗ ａｎｄ Ｅｆｆｉｃｉｅｎｔ Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｃｙｃｌｉｃ Ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅｓ ｆｒｏｍ Ｂｉｓ（ｉｍｉｎｏｐｈｏｓｐｈｏｒａｎｅａ）ａｎｄ ｔｈｅ Ｓｙｓｔｅｍ Ｂｏｃ２Ｏ／ＤＭＡＰ，Ｐｅｄｒｏ Ｍｏｌｉｎａ ｅｔａｌ．
【０１６４】
製造する化合物に応じて、適切な製法を採用すればよいが、例えば、（１）下記式（ａ−１）で表されるニトロフェノール類、下記式（ａ−２）で表されるニトロフェノール類および下記式（ｂ）で表される化合物を反応させ、下記式（ｃ）で表されるニトロ体を得る工程、
【化４０】
【化４１】
（２）得られたニトロ体を還元して下記式（ｄ）で表わされるアミン体を得る工程、
【化４２】
（３）得られたアミン体とトリフェニルホスフィンジブロミドを反応させ下記式（ｅ）で表されるトリフェニルホスフィン体を得る工程、および
【化４３】
（４）得られたトリフェニルホスフィン体を反応系中でイソシアネート化した後、直接脱炭酸させることによって製造したものは、本願発明に用いる環状カルボジイミド化合物として好適に用いることができる。
（上記式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、炭素数１〜６のアルキル基またはフェニル基で置換されていてもよい芳香族基である。Ｅ１およびＥ２は各々独立に、ハロゲン原子、トルエンスルホニルオキシ基およびメタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルオキシ基からなる群から選ばれる基である。Ａｒａは、フェニル基である。Ｘは、下記式（ｉ−１）から（ｉ−３）の結合基である。）
【０１６５】
【化４４】
【０１６６】
【化４５】
【０１６７】
【化４６】
【０１６８】
なお、環状カルボジイミド化合物は、高分子化合物の酸性基を有効に封止することができるが、本発明の主旨に反しない範囲において、所望により、例えば、従来公知のポリマーのカルボキシル基封止剤を併用することができる。かかる従来公知のカルボキシル基封止剤としては、特開２００５−２１７４号公報記載の剤、例えば、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物、オキサジン化合物、などが例示される。
【０１６９】
＜Ｄ成分＞
Ｎ層の樹脂としては、光学的に負であれば良く、特に限定は無い。ポリメチルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートとポリスチレンの共重合体、アタクチックポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、オレフィンマレイミド樹脂、フルオレン骨格を有するポリカーボネート、それらのブレンド体等が好適に用いられる。ポリ乳酸を含有するＰ層との接着性や屈折率の差が小さいことによる界面反射の少なさの点で、より好ましくは、ポリメチルメタクリレートまたはポリメチルメタクリレート／ポリスチレン共重合体である。
【０１７０】
＜Ａ，Ｂ，Ｃ、Ｄ成分以外＞
本発明のＰ層、Ｎ層には、前記したＡ，Ｂ，Ｃ、Ｄ成分以外の熱可塑性樹脂、安定剤、紫外線吸収剤、結晶化促進剤、充填剤、離型剤、帯電防止剤、可塑剤および耐衝撃性安定剤からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有することができる。本発明に用いられるポリ乳酸は、安定剤を含有することが好ましい。安定剤としては通常の熱可塑性樹脂の安定剤に使用されるものを用いることができる。例えば酸化防止剤、光安定剤等を挙げることができる。これらの剤を配合することで機械的特性、成形性、耐熱性および耐久性に優れた多層フィルムを得ることができる。
【０１７１】
酸化防止剤としてはヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ホスファイト系化合物、チオエーテル系化合物等を挙げることができる。
【０１７２】
ヒンダードフェノール系化合物としては、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（３’−メチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−テトラデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、１，６−ヘキサンジオ−ル−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、１，４−ブタンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン等が挙げられる。ヒンダードアミン系化合物として、Ｎ，Ｎ’−ビス−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチレン−ビス［３−（３’−メチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ−サリチロイル−Ｎ’−サリチリデンヒドラジン、３−（Ｎ−サリチロイル）アミノ−１，２，４―トリアゾール、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−｛３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］オキシアミド等を挙げることができる。好ましくは、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート］、およびテトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン等が挙げられる。
【０１７３】
ホスファイト系化合物としては、少なくとも１つのＰ−Ｏ結合が芳香族基に結合しているものが好ましく、具体的には、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンホスファイト、ビス（２，６―ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシル）ホスファイト、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジトリデシルホスファイト−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、トリス（ミックスドモノおよびジ−ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、４，４’−イソプロピリデンビス（フェニル−ジアルキルホスファイト）等が挙げられる。
【０１７４】
なかでもトリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、テトラキス（２，６―ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンホスファイト等が好ましく使用できる。
【０１７５】
チオエーテル系化合物の具体例として、ジラウリルチオジプロピオネート、ジトリデシルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ドデシルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−オクタデシルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）等が挙げられる。
【０１７６】
光安定剤としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、環状イミノエステル系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ヒンダードアミン系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来る。光安定剤としては、紫外線吸収剤と光酸化で生成するラジカルを捕捉するものの組み合わせにて用いても良い。
【０１７７】
紫外線吸収剤としては、環状イミノエステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物が可視光における吸収を最小化できる点で好ましい。また、偏光膜や液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ液晶表示性能の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。紫外線吸収剤のブリードアウト抑制の観点からは、多層フィルムをＰ／Ｎ／Ｐ層またはＮ／Ｐ／Ｎ層の３層構成とし、中間の層（前者ではＮ層、後者ではＰ層）に紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。
【０１７８】
有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２８（何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）を好ましく使用出来る。
【０１７９】
環状イミノエステル系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが例示される。なかでも２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好適であり、特に２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）が好適である。環状イミノエステルは単独であるいは２種以上を併用して用いることができる。
【０１８０】
当該環状イミノエステルは、国際公開ＷＯ０３／０３５７３５号パンフレットに開示された各種の方法によって製造することができる。すなわち原料として無水イサト酸を利用する方法（殊に再結晶化された無水イサト酸を利用する方法）、並びにアントラニル酸を利用する方法のいずれも利用可能である。これらの酸化合物とカルボン酸クロライド化合物とを反応させて、環状イミノエステル化合物を得ることができる。これらは特公昭６２−３１０２７号公報に開示された如く、生成後に再結晶化処理を行ってもよい。かかる化合物は竹本油脂（株）からＣＥｉ−Ｐ（商品名）、およびＣＹＴＥＣ社からＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ−３６３８（商品名）として市販されており、容易に利用できる。
【０１８１】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−スルホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メチル−アクリロキシイソプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸水和物、２−ヒドロキシ−４−オクチロキシベンゾフェノン、４−ベンジロキシ−２−ハイドロキシベンゾフェノン、１，４−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−ブタン等が挙げられる。
【０１８２】
本発明におけるポリ乳酸には、有機若しくは無機の結晶化促進剤を含有することができる。結晶化促進剤を含有することで、ステレオコンプレックス結晶促進剤の作用を一層増強することができ、機械的特性、耐熱性、および成形性に優れた成形品を得ることができる。
【０１８３】
本発明で使用する結晶化促進剤は一般に結晶性樹脂の結晶核剤として用いられるものを用いることができ、無機系の結晶核剤および有機系の結晶核剤のいずれをも使用することができる。
【０１８４】
無機系の結晶核剤として、タルク、カオリン、シリカ、合成マイカ、クレイ、ゼオライト、グラファイト、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫化カルシウム、窒化ホウ素、モンモリロナイト、酸化ネオジム、酸化アルミニウム、フェニルフォスフォネート金属塩等が挙げられる。
【０１８５】
これらの無機系の結晶核剤は組成物中での分散性およびその効果を高めるために、各種分散助剤で処理され、一次粒子径が０．０１から０．５μｍ程度の高度に分散状態にあるものが好ましい。
【０１８６】
有機系の結晶核剤としては、安息香酸カルシウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸リチウム、安息香酸カリウム、安息香酸マグネシウム、安息香酸バリウム、蓚酸カルシウム、テレフタル酸ジナトリウム、テレフタル酸ジリチウム、テレフタル酸ジカリウム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸カリウム、ミリスチン酸カルシウム、ミリスチン酸バリウム、オクタコ酸ナトリウム、オクタコ酸カルシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、モンタン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、トルイル酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、サリチル酸カリウム、サリチル酸亜鉛、アルミニウムジベンゾエート、β−ナフトエ酸ナトリウム、β−ナフトエ酸カリウム、シクロヘキサンカルボン酸ナトリウム等の有機カルボン酸金属塩、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホイソフタル酸ナトリウム等の有機スルホン酸金属塩が挙げられる。
【０１８７】
また、ステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、トリメシン酸トリス（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）等の有機カルボン酸アミド、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリイソプロピレン、ポリブテン、ポリ−４−メチルペンテン、ポリ−３−メチルブテン−１、ポリビニルシクロアルカン、ポリビニルトリアルキルシラン、高融点ポリ乳酸、エチレン−アクリル酸コポマーのナトリウム塩、スチレン−無水マレイン酸コポリマーのナトリウム塩（いわゆるアイオノマー）、ベンジリデンソルビトールおよびその誘導体、例えばジベンジリデンソルビトール等が挙げられる。
【０１８８】
これらのなかでタルク、および有機カルボン酸金属塩から選択された少なくとも１種が好ましく使用される。本発明のポリ乳酸で使用する結晶核剤は１種のみでもよく、２種以上を併用しても良い。
結晶化促進剤の含有量は、ポリ乳酸１００重量部当たり、好ましくは０．０１から３０重量部、より好ましくは０．０５から２０重量部である。
【０１８９】
本発明で使用される帯電防止剤として、（β−ラウラミドプロピオニル）トリメチルアンモニウムスルフェート、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の第４級アンモニウム塩系、スルホン酸塩系化合物、アルキルホスフェート系化合物等が挙げられる。
【０１９０】
本発明の多層フィルムにおいて帯電防止剤は１種類で用いても良いし２種以上を組み合わせて用いても良い。帯電防止剤の含有量は、ポリ乳酸１００重量部に対し、好ましくは０．０５から５重量部、より好ましくは０．１から５重量部である。
【０１９１】
本発明で使用する可塑剤としては一般に公知のものを使用することができる。例えば、ポリエステル系可塑剤、グリセリン系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、ポリアルキレングリコール系可塑剤、およびエポキシ系可塑剤、等が挙げられる。
【０１９２】
ポリエステル系可塑剤として、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸等の酸成分とエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール等のジオール成分からなるポリエステルやポリカプロラクトン等のヒドロキシカルボン酸からなるポリエステル等が挙げられる。これらのポリエステルは単官能カルボン酸または単官能アルコールで末端封止されていても良い。
【０１９３】
グリセリン系可塑剤として、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステアレート、グリセリンモノアセトモノラウレート、グリセリンモノアセトモノステアレート、グリセリンジアセトモノオレート、グリセリンモノアセトモノモンタネート等が挙げられる。
【０１９４】
多価カルボン酸系可塑剤として、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジベンジル、フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリオクチル、トリメリット酸トリヘキシル等のトリメリット酸エステル、アジピン酸イソデシル、アジピン酸−ｎ−デシル−ｎ−オクチル等のアジピン酸エステル、アセチルクエン酸トリブチル等のクエン酸エステル、アゼライン酸ビス（２−エチルヘキシル）等のアゼライン酸エステル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸ビス（２−エチルヘキシル）等のセバシン酸エステルが挙げられる。
【０１９５】
リン酸エステル系可塑剤として、リン酸トリブチル、リン酸トリス（２−エチルヘキシル）、リン酸トリオクチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸ジフェニル−２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【０１９６】
ポリアルキレングリコール系可塑剤として、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリ（エチレンオキシド．プロピレンオキシド）ブロックおよびまたはランダム共重合体、ビスフェノール類のエチレンオキシド付加重合体、ビスフェノール類のテトラヒドロフラン付加重合体等のポリアルキレングリコールあるいはその末端エポキシ変性化合物、末端エステル変性化合物および末端エーテル変性化合物等の末端封鎖剤化合物等が挙げられる。
【０１９７】
エポキシ系可塑剤として、エポキシステアリン酸アルキルと大豆油とからなるエポキシトリグリセリド、およびビスフェノールＡとエピクロルヒドリンを原料とするエポキシ樹脂が挙げられる。
【０１９８】
その他の可塑剤の具体的な例としては、ネオペンチルグリコールジベンゾエート、ジエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコール−ビス（２−エチルブチレート）等の脂肪族ポリオールの安息香酸エステル、ステアリン酸アミド等の脂肪酸アミド、オレイン酸ブチル等の脂肪酸エステル、アセチルリシノール酸メチル、アセチルリシノール酸ブチル等のオキシ酸エステル、ペンタエリスリトール、各種ソルビトール、ポリアクリル酸エステル、シリコーンオイル、およびパラフィン類等が挙げられる。
【０１９９】
可塑剤として、特にポリエステル系可塑剤およびポリアルキレン系可塑剤から選択された少なくとも１種よりなるものが好ましく使用でき、１種のみでも良くまた２種以上を併用することもできる。
【０２００】
可塑剤の含有量は、多層フィルム各層１００重量部当たり、好ましくは０．０１から３０重量部、より好ましくは０．０５から２０重量部、さらに好ましくは０．１から１０重量部である。本発明においては結晶核剤と可塑剤を各々単独で使用してもよいし、両者を併用して使用することがさらに好ましい。
【０２０１】
＜偏光板およびその製造方法＞
偏光板は、一般に一対の保護フィルムの間に偏光膜が挟持された構成を有する。保護フィルムとして、偏光膜の偏光特性に影響を与えないように出来るだけ光学等方にしたものや、逆に液晶表示装置の画質向上を狙って制御された位相差特性を有するいわゆる位相差フィルムを保護フィルムとして利用する場合がある。本発明では、保護フィルムと言った場合には、断りが無い限り光学等方性、光学異方性フィルムのいずれも含むものとする。
【０２０２】
本発明の偏光板は、本発明の多層フィルムを用いてあればよいが、好ましくは、上記の保護フィルムとして本発明の多層フィルムが少なくとも１枚使用される。
偏光膜は、公知の方法により作製することができる。偏光膜は主としてポリビニルアルコール系樹脂から形成される。偏光膜は、ポリビニルアルコール樹脂フィルムを二色性物質（代表的には、ヨウ素、二色性染料）で染色して一軸延伸したものが用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、好ましくは１００〜５０００、さらに好ましくは１４００〜４０００である。重合度が低すぎると、所定の延伸を行う際に延伸切れしやすく、また重合度が高すぎると、延伸する際に張力が異常に必要となり、機械的に延伸できなくなるおそれがある。
【０２０３】
偏光膜を構成するポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、任意の適切な方法（例えば樹脂を水または有機溶剤に溶解した溶液を流延製膜する流延法、キャスト法、押出法）で成形され得る。偏光膜の厚みは偏光板が用いられる液晶表示装置の目的や用途に応じて適宜設定されるが、通常、５〜８０μｍ程度である。
【０２０４】
偏光膜の製造方法としては、目的、使用材料および条件などに応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、通常、膨潤、染色、架橋、延伸、水洗および乾燥工程を含む一連の製造工程に供する方式が採用される。乾燥工程を除く各処理工程においては、それぞれの工程に用いられる溶液を含む液中にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬することにより処理を行う。膨潤、染色、架橋、延伸、水洗および乾燥の各処理の順番、回数および実施の有無は、目的、使用材料および条件などに応じて適亘設定されえる。例えば、いくつかの処理を１つの工程で同時に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理を同時に行ってもよい。また例えば、架橋処理を延伸処理の前後に行うことが、好適に採用され得る。また例えば、水洗処理は、全ての処理の後に行ってもよく、特定の処理の後のみに行ってもよい。
【０２０５】
膨潤工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水で満たした処理浴中に浸漬することより行われる。この処理により、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄すると共に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させることで染色ムラ等の不均一性を防止できる。膨潤浴には、グリセリンやヨウ化カリウム等が適宜に添加される。膨潤浴の温度は、通常２０〜６０℃程度であり、膨潤浴への浸漬時間は、通常０．１〜１０分間程度である。
【０２０６】
染色工程は、代表的には、上記ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、ヨウ素等の二色性物質を含む処理浴中に浸漬することにより行われる。染色浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。二色性物質は、溶媒１００重量部に対して、通常、０．１〜１重量部の割合で用いられる。二色性物質としてヨウ素を用いる場合は、染色浴の溶液はヨウ化物等の助剤をさらに含有することが好ましい。染色効率が改善されるからである。助剤は、溶媒１００重量部に対して、好ましくは０．０２〜２０重量部、さらに好ましくは２〜１０重量部の割合で用いられる。ヨウ化物の具体例としては、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタンなどがあげられる。染色浴の温度は、通常、２０〜７０℃程度であり、染色浴への浸漬時間は、通常、１〜２０分間程度である。
【０２０７】
架橋工程は、代表的には、上記染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、架橋剤を含む処理欲中に浸漬することによって行われる。架橋割としては任意の適切な架橋剤が採用される。架橋剤の具体例としては、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物、グリオキザール、グルタルアルデヒド等があげられる。これらは、単独で、または組み合わせて使用される。架橋浴の溶液に用いられる溶媒は、水が一般的に使用されるが、水と相溶性を有する有機溶媒が適量添加されていてもよい。架橋剤は、溶媒１００重量部に対して、通常、１〜１０重量部の割合で用いられる。架橋剤の濃度が１重量部未満の場合は、十分な光学特性を得ることができない。架橋剤の濃度が１０重量部を超える場合は、延伸時にフィルムに発生する応力が大きくなり、得られる偏光板が収縮してしまう可能性がある。架橋浴の溶液は、ヨウ化物等の助剤をさらに含有することが望ましい。面内に均一な特性が得られやすいからである。助剤の濃度は好ましくは０．０５〜１５重量％、さらに好ましくは０．５〜８重量％である。ヨウ化物の具体例は、染色工程の場合と同様である。架橋浴の温度は、通常、２０〜７０℃程度、好ましく４０〜６０℃である。架橋浴への浸漬時間は、通常、１秒間〜１５分間程度、好ましくは５秒間〜１０分間である。
【０２０８】
偏光膜の延伸工程は、上記のようにいずれの段階で行ってもよい。具体的には、染色処理の後に行ってもよく、染色処理の前に行ってもよく、膨潤処理、染色処理および架橋処理と同時に行ってもよく、架橋処理の後に行ってもよい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの累積延伸倍率は、通常、５倍以上にする。好ましくは５〜７倍、さらに好ましくは５〜６．５倍である。累積延伸倍率が５倍未満の場合には、高偏光度の偏光板を得ることが困難となる。累積延伸倍率が７倍を超える場合はポリビニルアルコール系樹脂フィルムが破断しやすくなる場合がある。延伸の具体的な方法としては、任意の適切な方法が採用される。例えば、湿式延伸法を採用した場合には、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを処理浴中で所定の倍率に延伸する。延伸浴の溶液としては、水または有機溶媒（例えばエタノール）などの溶媒中に、各種金属塩、ヨウ素、ホウ素または亜鉛の化合物を添加した溶液が好適に用いられる。
【０２０９】
水洗工程は、代表的には、上記各種処理を施されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを処理浴中に浸漬することによって行われる。水洗工程によりポリビニルアルコール系樹脂フィルムの不要残存物を洗い流すことができる。水洗浴は、純水であってもよく、ヨウ化物（例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化ナトリウム等）の水溶液であってもよい。ヨウ化物水溶液の濃度は、好ましくは０．１〜１０重量％である。ヨウ化物水溶液には硫酸亜鉛、塩化亜鉛などの助剤を添加してもよい。水洗浴の温度は好ましくは１０〜６０℃、さらに好ましくは３０〜４０℃である。浸漬時間は１秒間〜１分間である。水洗工程は１回だけでもよく、必要に応じて複数回行ってもよい。複数回実施される場合は、各処理に用いられる水洗浴に含まれる添加剤の種類や濃度は適宜に調整される。例えば、水洗工程は上記各種処理を施されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをヨウ化カリウム水溶液（０．１〜１０重量％、１０〜６０℃）に１秒間〜１分間程度浸漬する工程と、純水ですすぐ工程とを含む。また、水洗工程において、偏光膜の表面改質や、偏光膜の乾燥効率を上げるために、水と相溶性を有する有機溶媒（例えば、エタノ−ルなど）を適宜添加してもよい。
【０２１０】
乾燥工程は、任意の適切な方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用されうる。例えば、加熱乾燥の場合の乾燥温度は、通常、２０〜８０℃程度であり、乾燥時間は、通常、１〜１０分間程度である。以上のようにして偏光膜が得られる。
【０２１１】
本発明において用いる偏光膜は、水分率が好ましくは１５重量％以下、より好ましくは０〜１４重量％、さらに好ましくは１〜１４重量％である。水分率が１５重量％より大きいいと、得られた偏光板の寸法変化が大きくなり、高温下あるいは高温高湿下における寸法変化が大きくなってしまうという問題が生じるおそれがある。
【０２１２】
本発明の、偏光膜の水分率は、任意の適切な方法で調整すればよい。例えば偏光膜の製工程における乾燥工程の条件を調整することにより制御する方法があげられる。
偏光膜と保護フィルムの接着に関しては、公知の方法が用いられる。接着剤としては、放射線硬化型接着剤、水溶性接着剤、水系エマルジョン接着剤等用いてもよいが、好ましくは、放射線硬化型接着剤用組成物を用いることである。
【０２１３】
接着剤の塗工方式は、接着剤の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択される。塗工方式の例として、例えば、リバースコーター、グラビアコーター（ダイレクト，リバースやオフセット）、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーターなどがあげられる。その他、塗工には、デイッピング方式などの方式を適宜に使用することができる。
上記のように塗工した接着剤を介して、偏光膜と本発明の多層フィルムとを貼り合わせる。偏光膜と本発明の多層フィルムの貼り合わせは、ロールラミネーター等により行う事ができる。
【０２１４】
偏光膜と本発明の多層フィルムを貼り合わせた後に、放射線を照射して、接着剤を硬化させても良い。放射線としては紫外線および／または電子線が好ましく用いられるが、好ましくは紫外線である。
放射線硬化型接着剤組成物の粘度としては、０．１〜５０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、より好ましくは０．５〜１０００ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは１〜５００ｍＰａ・ｓである。
【０２１５】
硬化後の接着剤の厚みとしては、０．１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．３〜７μｍ、さらに好ましくは０．５〜５μｍである。接着剤の厚みが０．１μｍより薄い場合では十分な接着強度が得られない場合があり、また、１０μｍより大きい場合には均質に塗布することが困難で、偏光板の外観不良が発生する場合がある。
【０２１６】
紫外線を用いる場合の光源としては、公知の低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプ、発光ダイオード等が好適に用いられる。ポリ乳酸は波長２５０ｎｍ以下において光吸収を生じるが、この波長領域において強度の強い光を照射した場合、分解が生じる場合がある。したがって、好ましくは２７０ｎｍ以下の紫外光はカットして放射線硬化型接着剤用組成物を硬化させることが好ましい。より好ましくは２８０ｎｍ以下、さらに好ましくは２８０ｎｍ以下、最も好ましくは３００ｎｍ以下をカットすることである。紫外線のカットは公知の方法で達成可能であり、例えば紫外線光源の適切な選択や紫外線カットフィルターを用いることができる。
【０２１７】
紫外光の強度としては、１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは２０〜７００ｍＷ／ｃｍ２、さらに好ましくは３０〜５００ｍＷ／ｃｍ２である。１０ｍＷ／ｃｍ２未満では硬化させるのに時間がかかり過ぎ、生産性が良くなく、また１０００ｍＷ／ｃｍ２より大きい場合には、熱により偏光膜の偏光性能が劣化する場合がある。また、積算光量としては、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、より好ましくは２００〜５０００ｍＪ／ｃｍ２、さらに好ましくは３００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２である。１００ｍＪ／ｃｍ２未満では硬化不十分となる場合があり、また１００００ｍＪ／ｃｍ２より大きい場合には、熱により偏光膜の偏光性能が劣化する場合がある。紫外光の照射方向は偏光板の片側からでも、両側からでも良い。
【０２１８】
放射線硬化型接着剤用組成物を紫外線等の光により硬化させる場合において、本発明の多層フィルムに紫外線吸収剤を含有し、かつ、当該多層フィルム側から紫外線を照射する場合においては、放射線硬化型接着剤用組成物の光開始剤の光開始反応波長は、多層フィルムの紫外線吸収波長領域よりも長波長側にあるものを適宜選択することが好ましい。すなわち、放射線硬化型接着剤用組成物において３８０ｎｍ以上の光により開始反応を行う光開始剤を含有することが好ましい。これは前記したように多層フィルムに紫外線吸収剤を加える必要がある場合の好ましい光線透過率が、波長３８０ｎｍにおいて２０％以下であり、波長３７５ｎｍでの光線透過率が１％以下であるからである。例えば、前述の光開始剤のうち、波長４０５ｎｍにおける吸光係数（ｍｌ／ｇ・ｃｍ）が１以上、好ましくは１０以上、さらに好ましくは１００以上あるものを好ましく用いることができる。この吸光係数は例えばメタノール溶媒等に光開始剤を溶解させ、分光器により測定することができる。このような光開始剤として好ましくは、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイドと１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンの混合物、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシドと２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンの混合物等である。
【０２１９】
放射線として電子線を用いる場合の電子線の照射方向は、任意の適切な方向から照射することができる。好ましくは、多層フィルム側から照射する。偏光膜側から照射すると、偏光膜が電子線によって劣化するおそれがある。
【０２２０】
電子線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５ｋＶ〜３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０ｋＶ〜２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、多層フィルムや偏光膜にダメージを与えるおそれがある。照射線量としては、５〜１００ｋＧｙ、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙである。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、多層フィルムや偏光膜にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所定の光学特性を得ることができない。
【０２２１】
前記製造方法を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間にもよるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎ、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎである。ライン速度が小さすぎる場合は、生産性が乏しい。ライン速度が大きすぎる場合は、接着剤の硬化が不十分となり、目的とする接着性が得られない場合がある。
【０２２２】
接着工程後に熱処理工程を設けても良いが、熱処理温度としては４０〜１００℃が好ましく、より好ましくは５０〜８５℃である。４０℃未満では熱処理工程としては効果が少なく、１００℃を超えると偏光膜が劣化する可能性がある。熱処理時間としては５秒間から１０分間程度が好ましい。５秒間未満では熱処理の効果が期待できず、１０分間を超えると生産性に問題が生じる場合がある。
【０２２３】
偏光膜と多層フィルムの接着剥離強度はＪＩＳ Ｋ６８５４に記される剥離試験で２Ｎ／２５ｍｍ以上であることが好ましく、より好ましくは３Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは４Ｎ／２５ｍｍ以上、最も好ましくは５Ｎ／２５ｍｍ以上である。剥離強度が２Ｎ／２５ｍｍ未満では、偏光板の実使用上問題が生じる場合がある。本発明では特に断りの無い限り剥離強度評価における剥離速度は２００ｍｍ／分、フィルムの幅を２５ｍｍとして評価した。
【０２２４】
次いで、本発明の多層フィルム、偏光板を図面を以って具体的に説明する。図１、２は本発明の多層フィルムの一態様を示す模式図である。
図１で１はＮ層、２はＰ層、３はＮ層、４は本発明の多層フィルムである。図２で５はＰ層、６はＮ層、７は本発明の多層フィルムである。
図３、４は本発明の偏光板である。図３の８、１０は本発明の多層フィルム、９は偏光膜、１１は本発明の偏光板である。図４の１２は本発明の多層フィルム、１４は本発明の多層フィルム以外の保護フィルム、１３は偏光膜、１５は本発明の偏光板である。
図３，４の本発明の偏光板において、偏光膜と保護フィルム、偏光膜と本発明の多層フィルムとの間には接着剤があってもよい。また、当該偏光板の最表面には、反射防止膜、ハードコート膜、防汚染膜等があってもよい。さらに、液晶表示装置との貼合のために、当該偏光板の片面に粘着剤が設けられていてもよい。
【実施例】
【０２２５】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は、これにより何ら限定を受けるものではない。
【０２２６】
＜評価方法＞
（１）ヘーズ評価：
日本電色工業（株）の商品名『ＣＯＨ−３００Ａ』を用いてヘーズ値（％）を評価した。
【０２２７】
（２）ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）および数平均分子量（Ｍｎ）：
ポリマーの重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定、標準ポリスチレンに換算した。ＧＰＣ測定機器は、検出器；示差屈折計（（株）島津製作所製）ＲＩＤ−６Ａカラム；東ソ−（株）ＴＳＫｇｅｌＧ３０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ４０００ＨＸＬ，ＴＳＫｇｅｌＧ５０００ＨＸＬとＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｋｕｍｎＨＸＬ−Ｌを直列に接続したもの、あるいは東ソ−（株）ＴＳＫｇｅｌＧ２０００ＨＸＬ、ＴＳＫｇｅｌＧ３０００ＨＸＬとＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｋｕｍｎＨＸＬ−Ｌを直列に接続したものを使用した。
クロロホルムを溶離液とし温度４０℃、流速１．０ｍｌ／ｍｉｎにて、濃度１ｍｇ／ｍｌ（１％ヘキサフルオロイソプロパノールを含むクロロホルム）の試料を１０μｌ注入し測定した。
【０２２８】
（３）ステレオコンプレックス結晶化度〔Ｓ（％）〕，結晶融解温度などのＤＳＣ測定：
ＤＳＣ（ＴＡインストルメント社製，商品名『Ｑ１０』）を用いて試料を、第一サイクルにおいて、窒素気流下、２０℃／分で２６０℃まで昇温し、ガラス転移点温度（Ｔｇ）、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶融点（Ｔｍｓｃ）、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶化温度（Ｔｃｓｃ）、ステレオコンプレックス相ポリ乳酸結晶融解エンタルピー（ΔＨｍｓｃ）、ホモ相ポリ乳酸結晶融解エンタルピー（ΔＨｍｈ）および結晶化熱量（ΔＨｃ）を測定した。
ステレオコンプレックス結晶化度は上記測定で得られたステレオコンプレックス相およびホモ相ポリ乳酸結晶融解エンタルピーより、下記式（ＩＩ）により求めた値である。
Ｓ＝［ΔＨｍｓｃ ／ （ΔＨｍｈ ＋ΔＨｍｓｃ）］ × １００ （ＩＩ）
（但し、ΔＨｍｓｃはステレオコンプレックス相結晶の融解エンタルピー、ΔＨｍｈはホモ相ポリ乳酸結晶の融解エンタルピー）
【０２２９】
（４）厚み測定：
アンリツ社製の電子マイクロで測定した。
【０２３０】
（５）環状カルボジイミド構造の核磁気共鳴法（ＮＭＲ）による同定およびポリエステル組成物中の環状カルボジイミドの定量：
合成した環状カルボジイミド化合物は１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲによって確認した。ＮＭＲは日本電子（株）製の商品名『ＪＮＲ−ＥＸ２７０』を使用した。溶媒は重クロロホルムを用いた。
【０２３１】
（６）環状カルボジイミドのカルボジイミド骨格の赤外分光法（ＩＲ）による同定：
合成した環状カルボジイミド化合物のカルボジイミド骨格の有無は、ＦＴ−ＩＲによりカルボジイミドに特徴的な２１００〜２２００ｃｍ−１の確認を行った。ＦＴ−ＩＲはサーモニコレー（株）製の商品名『Ｍａｇｎａ−７５０』を使用した。
【０２３２】
（７）位相差測定：
複屈折Δｎと膜厚ｄの積である位相差Ｒ０及びＲｔｈ値は、分光エリプソメータである日本分光（株）製の商品名『Ｍ１５０』により測定した。Ｒ０値は入射光線とフィルム表面が直交する状態で測定した。また、Ｒｔｈ値（ｎｍ）は入射光線とフィルム表面の角度を変えることにより、各角度での位相差値を測定し、公知の屈折率楕円体の式でカーブフィッチングすることにより三次元屈折率であるｎｘ，ｎｙ，ｎｚを求めた。測定波長は５５０ｎｍとした。
【０２３３】
（８）偏光板の偏光度および全光線透過率測定：
偏光板を２枚（３ｃｍ×４ｃｍ）切り出し、２枚の偏光板の平行透過率Ｙ／／、直交透過率Ｙ⊥を分光器である（株）日立製作所製の商品名『Ｕ−４０００』にて測定し、下記式（５０）を用いて偏光度（Ｐ（％））を求めた。なお、ここで言う透過率は平行光線透過率であり、２°視野Ｃ光源におけるＣＩＥ ＸＹＺ表色系のＹ値を用いた。
【０２３４】
【数１】
また、偏光板の単体の全光線透過率は同装置を用いて測定した。
【０２３５】
（９）フィルム機械強度：
測定装置としてインストロン引張試験機を用い、サンプルフィルムを幅１０ｍｍ、長さ１００ｍｍに切り出し、チャック間５０ｍｍにサンプルを装着し、ＪＩＳ−Ｃ２１５１に従って引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎ、室温の条件で引張試験を行って求めた。なお、サンプルの切り出し方向は、フィルム流れ方向であるＭＤ方向、およびそれと直交する幅方向をＴＤ方向として、それぞれＭＤ、ＴＤに平行な方向を長さ方向としてサンプリングし、ＭＤ、ＴＤ方向の引張り測定値を評価した。当該評価では、破断伸度、破断強度を耐久試験前後で測定し、その物性変化を確認した。
【０２３６】
＜ポリ乳酸（Ａ成分）の製造＞
（１）ポリＬ−乳酸（ＰＬＬＡ１）の製造：
Ｌ−ラクチド（（株）武蔵野化学研究所製、光学純度１００％）１００重量部に対し、オクチル酸スズを０．００５重量部加え、窒素雰囲気下、撹拌翼のついた反応機にて１８０℃で２時間反応させ、オクチル酸スズに対し１．２倍当量のリン酸を添加しその後、１３．３Ｐａで残存するラクチドを減圧除去し、チップ化し、ポリＬ−乳酸（ＰＬＬＡ１）を得た。得られたポリＬ−乳酸（ＰＬＬＡ１）の重量平均分子量は１５．２万、ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５５℃、融点は１７５℃であった。
【０２３７】
（２）ポリＤ−乳酸（ＰＤＬＡ１）の製造：
ＰＬＬＡ１の製造において、Ｌ−ラクチドをＤ−ラクチド（（株）武蔵野化学研究所製、光学純度１００％）に変更したこと以外は同じ条件で重合を行い、ポリＤ−乳酸（ＰＤＬＡ１）を得た。得られたポリＤ−乳酸（ＰＤＬＡ１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１５．１万、ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５５℃、融点は１７５℃であった。
【０２３８】
（３）ステレオコンプレックスポリ乳酸（ＳＣＰＬＡ１）の製造：
上記操作で得られたＰＬＬＡ１とＰＤＬＡ１とを各５０重量部およびリン酸金属塩（（株）ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブ」ＮＡ−７１：０．１重量部）を、２軸混練装置の第一供給口より供給、シリンダー温度２５０℃で溶融混練し、ステレオコンプレックスポリ乳酸（ＳＣＰＬＡ１）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５５℃、融点は２１６℃であり、ステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。
【０２３９】
＜カルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（成分Ｃ）の製造＞
ｏ−ニトロフェノール（０．１１ｍｏｌ）とペンタエリトリチルテトラブロミド（０．０２５ｍｏｌ）、炭酸カリウム（０．３３ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）２００ｍｌを撹拌装置及び加熱装置を設置した反応装置にＮ２雰囲気下仕込み、１３０℃で１２時間反応後、ＤＭＦを減圧により除去し、得られた固形物をジクロロメタン２００ｍｌに溶かし、水１００ｍｌで３回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム５ｇで脱水し、ジクロロメタンを減圧により除去し、中間生成物Ｄ（ニトロ体）を得た。
【０２４０】
次に中間生成物Ｄ（０．１ｍｏｌ）と５％パラジウムカーボン（Ｐｄ／Ｃ）（２ｇ）、エタノール／ジクロロメタン（７０／３０）４００ｍｌを、撹拌装置を設置した反応装置に仕込み、水素置換を５回行い、２５℃で水素を常に供給した状態で反応させ、水素の減少がなくなったら反応を終了した。Ｐｄ／Ｃを回収し、混合溶媒を除去すると中間生成物Ｅ（アミン体）が得られた。
【０２４１】
次に撹拌装置及び加熱装置、滴下ロートを設置した反応装置に、Ｎ２雰囲気下、トリフェニルホスフィンジブロミド（０．１１ｍｏｌ）と１，２−ジクロロエタン１５０ｍｌを仕込み撹拌させた。そこに中間生成物Ｅ（０．０２５ｍｏｌ）とトリエチルアミン（０．２５ｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン５０ｍｌに溶かした溶液を２５℃で徐々に滴下した。滴下終了後、７０℃で５時間反応させる。その後、反応溶液をろ過し、ろ液を水１００ｍｌで５回分液を行った。有機層を硫酸ナトリウム５ｇで脱水し、１，２−ジクロロエタンを減圧により除去し、中間生成物Ｆ（トリフェニルホスフィン体）が得られた。
【０２４２】
次に、撹拌装置及び滴下ロートを設置した反応装置に、Ｎ２雰囲気下、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート（０．１１ｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（０．０５５ｍｏｌ）、ジクロロメタン１５０ｍｌを仕込み撹拌させる。そこに、２５℃で中間生成物Ｆ（０．０２５ｍｏｌ）を溶かしたジクロロメタン１００ｍｌをゆっくりと滴下させた。滴下後、１２時間反応させる。その後、ジクロロメタンを除去し得られた固形物を、精製することで、下記に示す構造を有するＣ成分（以降、ＴＸ１と略記することがある。）、（分子量：５１６）を得た。ＴＸ１の構造はＮＭＲ、ＩＲにより確認した。
【０２４３】
【化４７】
【０２４４】
＜多層フィルム用材料の製造＞
（１）Ｃ１：ステレオコンプレックスポリ乳酸（ＴＸ１含有）；
ＳＣＰＬＡ１、１００重量部、ＴＸ１、１．０重量部、シプロ化成（株）製の商品名「シーソーブ１０７」である紫外線吸収剤２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２．５重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化して組成物（Ｃ１）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５６℃、結晶化温度は１１５℃、融点は２１５℃であった。
【０２４５】
（２）Ｃ２：ステレオコンプレックスポリ乳酸とＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）とを含む組成物（ＴＸ１含有）；
上記操作で得られたＳＣＰＬＡ１、７０重量部、三菱レイヨン（株）製のポリメチルメタクリレート、商品名「アクリペットＶＨ００１」３０重量部、ＴＸ１、１．０重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してブレンド組成物（Ｃ２）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は６５℃、結晶化温度は１２７℃、融点は２１６℃であった。
【０２４６】
（３）Ｃ３：ステレオコンプレックスポリ乳酸、ＰＭＭＡ、紫外線吸収剤とを含む組成物（ＴＸ１含有）；
上記操作で得られたＳＣＰＬＡ１、７０重量部、三菱レイヨン（株）製のポリメチルメタクリレート、商品名「アクリペットＶＨ００１」３０重量部、ＴＸ１、１．０重量部、商品名「シーソーブ１０７」３重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化してブレンド組成物（Ｃ３）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は６４℃、結晶化温度は１２９℃、融点は２１１℃であった。
【０２４７】
（４）Ｃ４：ポリ乳酸；
上記操作で得られたＰＬＬＡ１と同じである。
【０２４８】
（５）Ｃ５：ステレオコンプレックスポリ乳酸（線状ポリカルボジイミド含有）；
ｓｃＰＬＡ１、１００重量部、日清紡ケミカル（株）製「カルボジライト」ＬＡ−１、１．０重量部をブレンダーで混合、１１０℃、５時間真空乾燥した後、混練機の第一供給口より供給し、シリンダー温度２３０℃、ベント圧１３．３Ｐａで真空排気しながら溶融混練し、水槽中にストランド押し出し、チップカッターにてチップ化して組成物（Ｃ５）を得た。ガラス転移点温度（Ｔｇ）は５６℃、結晶化温度は１３５℃、融点は１６８℃であった。
【０２４９】
（６）Ｃ６：ポリメチルメタクリレート；
（株）クラレ製「パラペットＧＦ」を８０℃で５時間乾燥し、Ｃ６を得た。ガラス転移点温度は１０５℃であった。
【０２５０】
（７）Ｃ７：ＭＳ樹脂
電気化学工業（株）製のＰＭＭＡとポリスチレンの共重合樹脂（ＭＳ樹脂）である「ＫＴ−８０」を８０℃５時間乾燥し、Ｃ７を得た。ガラス転移点温度は１１０℃であった。
なお、上記Ｃ１〜Ｃ５を溶融押出してフィルム化し、Ｔｇ＋１０℃にて縦一軸延伸した場合、延伸方向に屈折率が大きくなり、一方、Ｃ６、Ｃ７材料については、同条件で評価すると、延伸方向に垂直な方向に面内の屈折率が大きくなることを確認した。したがって、Ｃ１〜Ｃ５についてはＰ層材料として適当であり、一方、Ｃ６、Ｃ７はＮ層材料として適している。
【０２５１】
＜多層フィルムの製造＞
以下に記す多層フィルムの評価結果は表１に記す。
［実施例１］
樹脂Ｃ１を１００℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。三層の厚みの比はほぼ１：１：１であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１２０℃にて熱固定を実施し、Ｐ層の結晶化を略完了することにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ１）を得た。なお、Ｐ層の結晶化完了はＤＳＣにおける結晶化ピーク消失により確認した。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。
このフィルムは樹脂Ｃ１がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｎ／Ｐ／Ｎの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５２】
［実施例２］
樹脂Ｃ２を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。３層の厚みの比はほぼ０．７：１：０．７であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了することにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ１がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｎ／Ｐ／Ｎの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５３】
［実施例３］
樹脂Ｃ３を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。三層の厚みの比はほぼ０．７：１：０．７であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了させることにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ１がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｎ／Ｐ／Ｎの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。また、紫外線吸収剤のブリードアウトも当該耐久テスト実施後に確認したが、見られなかった。
【０２５４】
［実施例４］
樹脂Ｃ２を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ａのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ｂのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、４５℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。三層の厚みの比はほぼ０．３：１：０．３であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１０５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１０７℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了させることにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ２がＰ層、樹脂Ｃ６がＮ層であり、Ｐ／Ｎ／Ｐの３層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５５】
［実施例５］
樹脂Ｃ２を９０℃で５時間乾燥させた後、２種２層押出機の押出機Ｂのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ７は押出機Ａのホッパーに投入して、２３０℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、６０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生はなく作業環境に優れるものであった。当該２種２層押出機は押出機Ａが冷却ドラム側の１層、押出機Ｂがその反対側の１層となるように設定されている。膜厚は１００μｍであった。２層の厚みの比はほぼ１：１であった。その後、この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて１１０℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度１１１℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１３０℃にて熱固定を実施しＰ層の結晶化を略完了させることにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ２）を得た。Ｐ層のステレオコンプレックス結晶化度Ｓ＝１００％であった。このフィルムは樹脂Ｃ２がＰ層、樹脂Ｃ７がＮ層であり、Ｎ／Ｐの２層構成からなる。層構成および初期光学特性を表１に記載する。
このフィルムに対して、８０℃１０００時間、６０℃９０％ＲＨ１０００時間の耐久試験を実施し、位相差値、ヘーズ、機械強度の変化を評価したが、ほとんど変化がなかった。
【０２５６】
［実施例６］
厚さ８０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、５重量％（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム＝１／１０）の３０℃のヨウ素溶液中で１分間染色した。次いで、３重量％のホウ酸および２重量％の３０℃のヨウ化カリウムを含む水溶液中に１分間浸漬し、さらに４重量％のホウ酸および３重量％のヨウ化カリウムを含む６０℃の水溶液中で１分間浸漬しながら６倍まで延伸した後、３０℃の５重量％のヨウ化カリウム水溶液に１分間浸漬した。その後、８０℃のオーブンで３分間乾燥を行い、厚さ３０μｍの偏光膜を得た。
次に実施例２で作製した多層フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いるために、片面の表面処理は紫外線オゾン処理を実施した。紫外線オゾン処理はアイグラフィックス（株）製の商品名『アイオゾン洗浄装置ＯＣ−２５０６』を用い、処理時間は３０秒とした。
偏光膜と保護フィルムとの接着は、硬化前には液状の紫外線硬化型接着剤を用いることとし、保護フィルムの紫外線オゾン処理をした面にバーコーターで塗布し、偏光膜とラミネートさせた後、保護フィルム側から低圧水銀ランプを用いて紫外線硬化させて接着させた。紫外線硬化型接着剤としては、２−ヒドロキシプロピルアクリレートを主成分とする共栄社化学（株）製の商品名『ライトエステルＨＯＰ−Ａ』１００重量部と光開始剤としてチバガイギー社製の商品名『イルガキュア１８４』１重量部を混合させたものを用いた。
得られた偏光板の全光線透過率は４２％、偏光度は９９．９％であった。
【０２５７】
［比較例１］
樹脂Ｃ４を１００℃で５時間乾燥させた後、単層押出機のホッパーに投入し１９０℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、４０℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。膜厚は１００μｍであった。この未延伸フィルムを縦一軸延伸機にて８５℃にて１．３倍延伸後、テンター横一軸延伸機により延伸温度９０℃、倍率１．２倍にて延伸した後、同設備にて１４０℃にて熱固定を実施することにより、厚み７０μｍのフィルム（Ｆ１）を得た。表１から分かるように、ヘーズが高く、また、位相差も大きくかつテンター横一軸延伸機におけるボーイング現象等によりフィルム面内の位相差値ばらつきも大きいため、光学フィルムとしては不適であることがわかった。
【０２５８】
［比較例２］
樹脂Ｃ５を９０℃で５時間乾燥させた後、２種３層押出機の押出機Ａのホッパーに投入し２２５℃で溶融押出した。一方、樹脂Ｃ６は押出機Ｂのホッパーに投入して、２２９℃で溶融押出し、ダイ温度２２５℃でＴダイよりフィルム状に溶融押し出し、４５℃の冷却ドラム表面に密着、固化させ未延伸フィルムを得た。当該２種３層押出機は押出機Ａが外側の２層、押出機Ｂが内側の１層となるように設定されている。溶融押出工程においてイソシアネート由来の悪臭発生があり、作業環境が悪化したため、これ以降のテストを中止した。
【０２５９】
【表１】
【符号の説明】
【０２６０】
１ Ｎ層
２ Ｐ層
３ Ｎ層
４ 本発明の多層フィルム
５ Ｐ層
６ Ｎ層
７ 本発明の多層フィルム
８ 本発明の多層フィルム
９ 偏光膜
１０ 本発明の多層フィルム
１１ 本発明の偏光板
１２ 本発明の多層フィルム
１３ 偏光膜
１４ 保護フィルム（本発明の多層フィルム以外のフィルム）
１５ 本発明の偏光板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である層（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）からなる層（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である、多層フィルム。
｛ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（△Ｈｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（△Ｈｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求める。
（Ｓ）＝〔△Ｈｍｓｃ ／ （△Ｈｍｈ ＋△Ｈｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）｝
【請求項２】
Ｐ層が、さらにアクリル系樹脂（Ｂ成分）を含む、請求項１記載の多層フィルム。
【請求項３】
Ｃ成分が下記式（１）で表される請求項１または２記載の多層フィルム。
【化１】
（式中、Ｑは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２〜４価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
【請求項４】
Ｑは、下記式（１−１）、（１−２）または（１−３）で表される２〜４価の結合基である請求項３記載の多層フィルム。
【化２】
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基である。Ｒ１およびＲ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基またはこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基の組み合わせである。Ｘ１およびＸ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。ｓは０〜１０の整数である。ｋは０〜１０の整数である。なお、ｓまたはｋが２以上であるとき、繰り返し単位としてのＸ１、あるいはＸ２が、他のＸ１、あるいはＸ２と異なっていてもよい。Ｘ３は、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。但し、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はヘテロ原子を含有していてもよい、また、Ｑが２価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は全て２価の基である。Ｑが３価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが３価の基である。Ｑが４価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
【請求項５】
Ｃ成分が、下記式（２）で表される請求項３記載の多層フィルム。
【化３】
（式中、Ｑａは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
【請求項６】
Ｑａは、下記式（２−１）、（２−２）または（２−３）で表される２価の結合基である請求項５記載の多層フィルム。
【化４】
（式中、Ａｒａ１、Ａｒａ２、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｘａ１、Ｘａ２、Ｘａ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）中のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。）
【請求項７】
Ｃ成分が、下記式（３）で表される請求項３記載の多層フィルム。
【化５】
（式中、Ｑｂは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである３価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Ｙは、環状構造を担持する担体である。）
【請求項８】
Ｑｂは、下記式（３−１）、（３−２）または（３−３）で表される３価の結合基である請求項７記載の多層フィルム。
【化６】
（式中、Ａｒｂ１、Ａｒｂ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｘｂ１、Ｘｂ２、Ｘｂ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但しこれらの内の一つは３価の基である。）
【請求項９】
Ｙは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである請求項７または８記載の多層フィルム。
【請求項１０】
Ｃ成分が、下記式（４）で表される請求項３記載の多層フィルム。
【化７】
（式中、Ｑｃは、脂肪族基、芳香族基、脂環族基またはこれらの組み合わせである４価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。Ｚ１およびＺ２は、環状構造を担持する担体である。）
【請求項１１】
Ｑｃは、下記式（４−１）、（４−２）または（４−３）で表される４価の結合基である請求項１０記載の多層フィルム。
【化８】
（式中、Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２、Ｘｃ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）の、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、これらの内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
【請求項１２】
Ｚ１およびＺ２は各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである請求項１０または１１記載の多層フィルム。
【請求項１３】
Ｄ成分がポリメチルメタクリレートまたはポリメチルメタクリレート／ポリスチレン共重合体を含む、請求項１〜１２のいずれか記載の多層フィルム。
【請求項１４】
多層フィルムの積層構成がＰ層／Ｎ層／Ｐ層またはＮ層／Ｐ層／Ｎ層の３層構成である、請求項１〜１３のいずれか記載の多層フィルム。
【請求項１５】
３層構成における中間層が紫外線吸収剤を含有する、請求項１４記載の多層フィルム。
【請求項１６】
略光学等方である、請求項１〜１５のいずれか記載の多層フィルム。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか記載の多層フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
【請求項１】
ポリ乳酸（Ａ成分）とカルボジイミド基を１個有しその第一窒素と第二窒素とが結合基により結合されている環状構造を少なくとも含む化合物（Ｃ成分）とを含む光学的に正である層（Ｐ層）と、光学的に負である樹脂（Ｄ成分）からなる層（Ｎ層）を少なくともそれぞれ１層ずつ含み、当該ポリ乳酸（Ａ成分）が、ポリＤ−乳酸成分及びポリＬ−乳酸成分を含むポリ乳酸であり、且つステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）が９０％以上である、多層フィルム。
｛ステレオコンプレックス結晶化度（Ｓ）は示差走査熱量計（ＤＳＣ）測定で、１９０℃未満に観測されるポリ乳酸ホモ結晶融解熱（△Ｈｍｈ）、１９０℃以上に観測されるポリ乳酸ステレオコンプレックス結晶融解熱（△Ｈｍｓｃ）より次式（Ｉ）により求める。
（Ｓ）＝〔△Ｈｍｓｃ ／ （△Ｈｍｈ ＋△Ｈｍｓｃ）〕×１００ （Ｉ）｝
【請求項２】
Ｐ層が、さらにアクリル系樹脂（Ｂ成分）を含む、請求項１記載の多層フィルム。
【請求項３】
Ｃ成分が下記式（１）で表される請求項１または２記載の多層フィルム。
【化１】
（式中、Ｑは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２〜４価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
【請求項４】
Ｑは、下記式（１−１）、（１−２）または（１−３）で表される２〜４価の結合基である請求項３記載の多層フィルム。
【化２】
（式中、Ａｒ１およびＡｒ２は各々独立に、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基である。Ｒ１およびＲ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基またはこれらの組み合わせ、またはこれら脂肪族基、脂環族基と２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基の組み合わせである。Ｘ１およびＸ２は各々独立に、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。ｓは０〜１０の整数である。ｋは０〜１０の整数である。なお、ｓまたはｋが２以上であるとき、繰り返し単位としてのＸ１、あるいはＸ２が、他のＸ１、あるいはＸ２と異なっていてもよい。Ｘ３は、２〜４価の炭素数１〜２０の脂肪族基、２〜４価の炭素数３〜２０の脂環族基、２〜４価の炭素数５〜１５の芳香族基、またはこれらの組み合わせである。但し、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３はヘテロ原子を含有していてもよい、また、Ｑが２価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は全て２価の基である。Ｑが３価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが３価の基である。Ｑが４価の結合基であるときは、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３の内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
【請求項５】
Ｃ成分が、下記式（２）で表される請求項３記載の多層フィルム。
【化３】
（式中、Ｑａは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである２価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。）
【請求項６】
Ｑａは、下記式（２−１）、（２−２）または（２−３）で表される２価の結合基である請求項５記載の多層フィルム。
【化４】
（式中、Ａｒａ１、Ａｒａ２、Ｒａ１、Ｒａ２、Ｘａ１、Ｘａ２、Ｘａ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）中のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。）
【請求項７】
Ｃ成分が、下記式（３）で表される請求項３記載の多層フィルム。
【化５】
（式中、Ｑｂは、脂肪族基、脂環族基、芳香族基またはこれらの組み合わせである３価の結合基であり、ヘテロ原子を含有していてもよい。Ｙは、環状構造を担持する担体である。）
【請求項８】
Ｑｂは、下記式（３−１）、（３−２）または（３−３）で表される３価の結合基である請求項７記載の多層フィルム。
【化６】
（式中、Ａｒｂ１、Ａｒｂ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｘｂ１、Ｘｂ２、Ｘｂ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）のＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但しこれらの内の一つは３価の基である。）
【請求項９】
Ｙは、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである請求項７または８記載の多層フィルム。
【請求項１０】
Ｃ成分が、下記式（４）で表される請求項３記載の多層フィルム。
【化７】
（式中、Ｑｃは、脂肪族基、芳香族基、脂環族基またはこれらの組み合わせである４価の結合基であり、ヘテロ原子を保有していてもよい。Ｚ１およびＺ２は、環状構造を担持する担体である。）
【請求項１１】
Ｑｃは、下記式（４−１）、（４−２）または（４−３）で表される４価の結合基である請求項１０記載の多層フィルム。
【化８】
（式中、Ａｒｃ１、Ａｒｃ２、Ｒｃ１、Ｒｃ２、Ｘｃ１、Ｘｃ２、Ｘｃ３、ｓおよびｋは、各々式（１−１）〜（１−３）の、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、ｓおよびｋと同じである。但し、これらの内の一つが４価の基であるか、二つが３価の基である。）
【請求項１２】
Ｚ１およびＺ２は各々独立に、単結合、二重結合、原子、原子団またはポリマーである請求項１０または１１記載の多層フィルム。
【請求項１３】
Ｄ成分がポリメチルメタクリレートまたはポリメチルメタクリレート／ポリスチレン共重合体を含む、請求項１〜１２のいずれか記載の多層フィルム。
【請求項１４】
多層フィルムの積層構成がＰ層／Ｎ層／Ｐ層またはＮ層／Ｐ層／Ｎ層の３層構成である、請求項１〜１３のいずれか記載の多層フィルム。
【請求項１５】
３層構成における中間層が紫外線吸収剤を含有する、請求項１４記載の多層フィルム。
【請求項１６】
略光学等方である、請求項１〜１５のいずれか記載の多層フィルム。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか記載の多層フィルムを用いたことを特徴とする偏光板。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−２４５７８８（Ｐ２０１１−２４５７８８Ａ）
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１２２７５１（Ｐ２０１０−１２２７５１）
【出願日】平成２２年５月２８日（２０１０．５．２８）
【出願人】（０００００３００１）帝人株式会社 (1,209)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１２月８日（２０１１．１２．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年５月２８日（２０１０．５．２８）
【出願人】（０００００３００１）帝人株式会社 (1,209)
【Ｆターム（参考）】
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