微細凹凸構造体、ディスプレイ及び微細凹凸構造体の製造方法
【課題】付着した指紋汚れによる外観低下を防止できる微細凹凸構造体を提供する。
【解決手段】露出面に微細凹凸構造１５が形成された表層１２を有する微細凹凸構造体１０において、人工指紋液を付着させて２４時間経過後における前記露出面の反射率と、前記人工指紋液を付着させる前の前記露出面の反射率との差が１．０％以下であることよりなる。前記表層１２は、特定のモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
【解決手段】露出面に微細凹凸構造１５が形成された表層１２を有する微細凹凸構造体１０において、人工指紋液を付着させて２４時間経過後における前記露出面の反射率と、前記人工指紋液を付着させる前の前記露出面の反射率との差が１．０％以下であることよりなる。前記表層１２は、特定のモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細凹凸構造体、ディスプレイ及び微細凹凸構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表面に、例えば、ナノサイズの凹凸が規則的に配置された微細凹凸構造を有する微細凹凸構造体は、連続的に屈折率を変化させ反射防止性能を発現することが知られている。微細凹凸構造体が良好な反射防止性能を発現するには、隣り合う凸部又は凹部の間隔が可視光の波長以下のサイズである必要がある。また、微細凹凸構造体は、ロータス効果により超撥水性能を発現することも可能である。
【０００３】
微細凹凸構造を形成する方法としては、例えば、微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパを用いて射出成形やプレス成形する方法、スタンパと透明基材との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下「樹脂組成物」ともいう。）を配し、活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化させて、スタンパの凹凸形状を転写した後にスタンパを剥離する方法、樹脂組成物にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後に活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化する方法等が提案されている。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度を考慮すると、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化させて、微細凹凸構造を転写する方法が好適である。この方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。
【０００４】
このような微細凹凸構造体は、良好な反射防止性能を有するものの、表面に付着した指紋汚れを除去しにくいことが知られている。
加えて、微細凹凸構造体は、同じ樹脂組成物を用いて製造した平滑な表面の成形体に比べて耐擦傷性に劣るため、耐久性に問題がある。また、微細凹凸構造体は、樹脂組成物が十分に堅牢でない場合、凸部同士が寄り添って、透明性が低下して、外観が損なわれやすいものになる。このため、微細凹凸構造に付着した汚れを強い力で擦り取ることができない。
こうした問題に対し、親水性の樹脂により微細凹凸構造が形成された透明成形体の発明が提案されている（例えば、特許文献１）。特許文献１に記載された発明によれば、樹脂が水と馴染みやすいため、水拭き等により、凹凸構造に付着した汚れと、樹脂との間に水を浸透させて、汚れを浮かせて除去することができる。
【０００５】
また、例えば、疎水親油組成の樹脂を用いたコーティング剤が開示されている（例えば、特許文献２、３）。特許文献２〜３の発明によれば、樹脂を親油性にすることで、コーティングと指紋汚れとが馴染みやすくなり、拭き取りによってコーティング表面に指紋汚れが薄く延ばされることで、汚れを目立たなくさせている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開ＷＯ０８−０９６８７２号
【特許文献２】特開２００４−３５９８３４号公報
【特許文献３】特開２０１０−２４２８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術のように水を用いる汚れの除去方法が前提であると、水分を嫌う精密機器用の微細凹凸構造体に適用するのに不都合がある。
加えて、本発明者らが親油性の樹脂を微細凹凸構造体に適用したところ、微細凹凸構造に付着させた指紋汚れは、拭き取りによって延ばされることなく、目立ったままであり、微細凹凸構造体の外観を低下させた。これは、指紋汚れが微細凹凸構造の中へ入り込んだ部分で、当初の反射防止性能が損なわれて、反射防止性能を維持している周辺部との差が際立っためである。
そこで、本発明は、付着した指紋汚れによる外観低下を防止できる微細凹凸構造体を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の微細凹凸構造体は、露出面に微細凹凸構造が形成された表層を有する微細凹凸構造体において、人工指紋液を付着させて２４時間経過後における前記露出面の反射率と、前記人工指紋液を付着させる前の前記露出面の反射率との差が１．０％以下であることを特徴とする。
前記表層は、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましく、前記露出面における水に対する接触角は４５°以下であることが好ましく、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、０．４４モル／１００ｇ以上の重合性官能基を有することが好ましい。
【０００９】
本発明のディスプレイは、本発明の前記微細凹凸構造体を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の微細凹凸構造体の製造方法は、微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に、重合性官能基を３つ以上有し１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を配し、該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化した後、前記スタンパを剥離し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり微細凹凸構造が形成された表層を前記基材上に設けることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の微細凹凸構造体によれば、付着した指紋汚れによる外観低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る微細凹凸構造体の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る微細凹凸構造体の断面図である。
【図３】実施例に用いたスタンパの製造方法を説明する工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（微細凹凸構造体）
本発明の微細凹凸構造体の一実施形態について、図１を用いて説明する。
図１の微細凹凸構造体１０は、基材１１上に表層１２が積層されたものであり、表層１２の露出面（表層露出面）には、微細凹凸構造１５が形成されている。微細凹凸構造１５は、凸部１３と凹部１４とが交互に形成されたものである。
本実施形態の凸部１３の形状は、頂部１３ａから基材１１に向かい漸次拡径する略円錐状とされている。
【００１４】
凹部１４の幅、即ち、隣接する頂部１３ａ同士の間隔ｗ１は、可視光の波長（３８０〜７８０ｎｍ）以下、即ち、３８０ｎｍ以下とされ、３００ｎｍ以下が好ましく、２５０ｎｍ以下がより好ましい。上記上限値以下であれば、可視光の散乱を抑制でき、反射防止膜として光学機器に好適に使用できる。間隔ｗ１の下限値は特に限定されないが、凸部１３を形成しやすい点で２５ｎｍ以上が好ましい。
【００１５】
また、凹部１４の底部１４ａから、頂部１３ａを連ねた面までの距離、即ち凸部１３の高さｄ１は、波長により反射率が変動するのを抑制できる高さ、即ち、６０ｎｍ以上が好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましく、１８０ｎｍ以上が特に好ましい。上記下限値未満であると、特定の波長の光に対し反射率が上昇したりして、微細凹凸構造体１０の反射防止性能が低下するおそれがある。高さｄ１が１５０ｎｍ近傍では、人が一番認識しやすい５５０ｎｍの波長域光の反射率を最も低くすることができ、高さｄ１が１５０ｎｍ以上になると、凸部１３の高さが高いほど、可視光域における最高反射率と最低反射率との差が小さくなる。このため、凸部１３の高さｄ１が１５０ｎｍ以上になれば、反射光の波長依存性が小さくなり、色味の相違は視認されなくなる。
ここで、頂部１３ａ同士の間隔ｗ１及び凸部１３の高さｄ１は、電界放出形走査電子顕微鏡（ＪＳＭ−７４００Ｆ：日本電子株式会社製）により加速電圧３．００ｋＶの画像における測定により得られる測定値の算術平均値を採用することができる。
【００１６】
基材１１の厚みは、特に限定されず、微細凹凸構造体１０の用途等を勘案して、適宜決定される。
【００１７】
基材１１としては、表層１２を支持可能なものであれば、用途を勘案して決定でき、例えば、微細凹凸構造体１０をディスプレイ部材に適用する場合、透明基材、即ち光を透過するものが好ましい。透明基材を構成する材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等の合成高分子、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等の半合成高分子、ポリエチレンテレフタラート、ポリ乳酸等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、それら高分子の複合物（ポリメチルメタクリレートとポリ乳酸の複合物、ポリメチルメタクリレートとポリ塩化ビニルの複合物等）、ガラスが挙げられる。
基材１１の形状はシート状、フィルム状等のいずれであってもよい。基材１１としては、例えば、射出成形、押し出し成形、キャスト成形等、いずれの製法により製造されたものを使用してもよい。さらに、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、基材１１の表面には、コーティングやコロナ処理が施されていてもよい。
【００１８】
表層１２は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、単に樹脂組成物ということがある）を重合させ、硬化させて得られる硬化物である。樹脂組成物としては、例えば、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）と、ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）とを含有するものが挙げられる。
【００１９】
＜モノマー（Ａ）＞
モノマー（Ａ）は、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマーであり、表層１２の機械特性、特に耐擦傷性を良好に維持すると共に、指紋汚れとよく馴染むものである。モノマー（Ａ）を含有することにより、得られる硬化物の架橋点間分子量が小さくなり、架橋密度を高くして、表層１２の弾性率や硬度を高くし、表層１２を耐擦傷性に優れたものにできる。
【００２０】
モノマー（Ａ）は、オレイン酸と同質量で混合した際に、均一に混合されるものが好ましい。同質量のオレイン酸と均一に混合されるとは、モノマー（Ａ）１質量部とオレイン酸１質量部とをスターラー等の弱い攪拌力で攪拌した後、１０分間放置後に目視で分離が認められないことを意味する。
例えば、ウレタン結合を有するような、極性の高い化合物はオレイン酸と均一に混合されないものが多い。また、カルボキシル基やエステル結合を多量に有する化合物も、オレイン酸と均一に混合されにくい。
【００２１】
モノマー（Ａ）は、重合性官能基を３つ以上有するものであり、モノマー（Ａ）の重合性官能基数は、３〜９が好ましく、３〜６がより好ましい。重合性官能基数が上記下限値未満では、表層１２の弾性率や硬度が不十分になるおそれがある。上記上限値超では、指紋汚れによる外観低下を十分に防止できない場合がある。
モノマー（Ａ）における重合性官能基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基等のラジカル重合性官能基が挙げられる。
【００２２】
モノマー（Ａ）は、その分子量を重合性官能基数で除した値（分子量／重合性官能基数。以下、分子量／官能基比ということがある）が、好ましくは１３５〜２５０であり、より好ましくは１３５〜２００であり、さらに好ましくは１３５〜１８０である。分子量／官能基比が上記下限値以上であれば、指紋汚れが表層１２により容易に吸収され、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止でき、上記上限値以下であれば、表層１２の弾性率や硬度を高いレベルで維持でき、表層露出面における耐擦傷性を確保できる。
例えば、代表的な３官能モノマーであるトリメチロールプロパントリアクリレートの場合、その分子量は２９６であり、ラジカル重合性官能基の数は３である。従って、分子量／官能基比＝９８．７となる。また、例えば、分子量が８００を超える４官能モノマーや分子量が１２００を超える６官能モノマーは、分子量／官能基比＞２００となる。
【００２３】
このようなモノマー（Ａ）としては、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート誘導体のエトキシ変性物又はプロポキシ変性物等が挙げられる。モノマー（Ａ）としては、新中村化学工業株式会社製の「ＮＫエステル（商標）」シリーズのＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ（エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、分子量／官能基比＝２３１）、東亞合成株式会社製の「アロニックス（商標）」シリーズのＭ−３０５、ダイセル・サイテック社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）４０」等の市販品を用いてもよい。
これらのモノマー（Ａ）は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
【００２４】
樹脂組成物において、モノマー（Ａ）と後述するモノマー（Ｂ）との合計量（以下、Ａ・Ｂ合計量ということがある）中のモノマー（Ａ）の含有量は、表層１２に求める強度等を勘案して決定でき、６０〜８３質量％が好ましく、６５〜８０質量％がより好ましく、７０〜８０質量％がさらに好ましい。上記下限値以上であれば、得られる表層１２の弾性率、硬度がより適切なものとなり、耐擦傷性がより高まる。上記上限値以下であれば指紋汚れが表層１２に容易に吸収され、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止できる。
また、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量は、モノマー（Ａ）の分子量／官能基比を勘案して決定してもよく、例えば、モノマー（Ａ）の分子量／官能基比が１５０以下の場合、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量は、７５質量％以下が好ましい。また、例えば、モノマー（Ａ）の分子量／官能基比が１５０超の場合、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量は、７０質量％以上が好ましい。
微細凹凸構造１５を形成する場合、凸部１３が細長い形状、即ち高さｄ１／間隔ｗ１で表される凸部１３のアスペクト比が大きいほど、高さｄ１が高いほど、その形状を維持することが難しく、高硬度の樹脂組成物が要求される。例えば、突起高さが１８０ｎｍを超える場合でも、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量が、上記範囲であれば、微細凹凸構造１５が良好に維持される。
【００２５】
＜モノマー（Ｂ）＞
モノマー（Ｂ）は、ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種である。モノマー（Ｂ）を含有することで、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みやすくなり、指紋汚れを吸収しやすく、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止できる。
【００２６】
ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及びこれらの末端をアルキル化したもの等が挙げられ、中でも、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートやポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートが好ましい。ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートにおけるアルキレングリコールの繰り返し数は、特に限定されないが、例えば、３〜２３が好ましく、３〜１３がより好ましい。上記下限値未満では、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みにくく、指紋汚れを吸収しにくくなるおそれがある。上記上限値超では、調製時における樹脂組成物のハンドリングが悪くなるおそれがある。
【００２７】
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及びこれらの末端をアルキル化したもの等が挙げられる。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートにおけるアルキレングリコールの繰り返し数は、特に限定されないが、例えば、３〜２３が好ましく、７〜１３がより好ましい。上記下限値未満では、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みにくくなり、指紋汚れを吸収しにくくなるおそれがある。上記上限値超では、調製時における樹脂組成物のハンドリングが悪くなるおそれがある。
【００２８】
モノマー（Ｂ）の分子量は、特に限定されないが、例えば、２００〜１２００が好ましく、２００〜９００がより好ましい。上記下限値未満では、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みにくくなり、指紋汚れを吸収しにくくなるおそれがある。上記上限値超では、調製時における樹脂組成物のハンドリングが悪くなるおそれがある。
【００２９】
Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ｂ）の含有量は、１７〜４０質量％が好ましく、２０〜３５質量％がより好ましく、２０〜３０質量％がさらに好ましい。上記下限値以上であれば、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みやすくなり、指紋汚れをより容易に吸収し、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止できる。上記上限値以下であれば樹脂組成物を効率的に硬化でき、残存モノマーが可塑剤として作用して、表層１２の弾性率や耐擦傷性が低下するのを良好に抑制できる。
【００３０】
＜任意成分＞
樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー（Ａ）及びモノマー（Ｂ）以外の任意成分を含有してもよい。任意成分としては、モノマー（Ａ）及びモノマー（Ｂ）以外のモノマー（以下、モノマー（Ｃ）ということがある）、スリップ剤、活性エネルギー線重合開始剤、活性エネルギー線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填材、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤等が挙げられる。
【００３１】
モノマー（Ｃ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のアミノ基を有する（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体；２−ビニルピリジン；４−ビニルピリジン；Ｎ−ビニルピロリドン；Ｎ−ビニルホルムアミド；酢酸ビニル等の単官能モノマーが挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートが、嵩高くなく、樹脂組成物の重合反応性を促進させ得ることから、好ましい。また、基材１１として、アクリル系フィルムを用いる場合には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートが好ましい。
また、例えば、モノマー（Ｃ）として、エトキシ化、ビスフェノールＡジアクリレートのようなアルコキシ化されたもの、１，９−ノナンジオールジアクリレートのようなアルキルジアクリレート等の２官能モノマーが挙げられる。ただし、硬化物の架橋密度が高くなりすぎると、指紋汚れが吸収されるのを阻害することになるため、モノマー（Ｃ）は、分子量／官能基比２００超であることが好ましい。
これらのモノマー（Ｃ）は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
【００３２】
樹脂組成物中のモノマー（Ｃ）の含有量は、Ａ・Ｂ合計量を勘案して決定でき、例えば、Ａ・Ｂ合計量１００質量部に対し、０〜２０質量部が好ましく、０〜１０質量部がより好ましく、１〜１０質量部がさらに好ましく、３〜８質量部が特に好ましい。モノマー（Ｃ）の含有量が上記上限値以下であれば、樹脂組成物を効率よく硬化させ、残存モノマーが可塑剤として作用して、表層１２の弾性率や耐擦傷性が低下するのを良好に抑制できる。
【００３３】
本実施形態の樹脂組成物は、スリップ剤を含むことが好ましい。スリップ剤は表層１２の表面に存在し、表面における摩擦を低減し、耐擦傷性を向上させる。
スリップ剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング株式会社製「ＳＨ３７４６ＦＬＵＩＤ」「ＦＺ−７７」、信越化学工業株式会社製「ＫＦ−３５５Ａ」、「ＫＦ−６０１１」等が挙げられる。これらのスリップ剤は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
スリップ剤の含有量は、樹脂組成物中のモノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）及びモノマー（Ｃ）の含有量の合計（以下、全モノマー量ということがある）１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．１〜２質量部がより好ましい。上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化性、表層１２の機械特性、特に耐擦傷性を向上させることができ、上記上限値以下であれば、残存するスリップ剤による表層１２の弾性率及び耐擦傷性の低下や、表層１２の着色を抑制できる。
【００３４】
樹脂組成物は、活性エネルギー線重合開始剤を含むことが好ましい。活性エネルギー線重合開始剤は、活性エネルギー線の照射によって開裂し、重合反応を開始させるラジカルを発生する化合物である。ここで「活性エネルギー線」とは、例えば、電子線、紫外線、可視光線、プラズマ、赤外線等の熱線等を意味する。微細凹凸構造体１０の製造には、装置コストや生産性の観点から、紫外線を用いることが好ましい。
活性エネルギー線重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン；２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン類；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。
これらの活性エネルギー線重合開始剤は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。特に吸収波長の異なる２種以上を併用することが好ましい。
また、必要に応じて、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩、ベンゾイルパーオキシド等の過酸化物、アゾ系開始剤等の熱重合開始剤を併用してもよい。
【００３５】
樹脂組成物中の活性エネルギー線重合開始剤の含有量は、全モノマー量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．１〜５質量部がより好ましく、０．２〜３質量部がさらに好ましい。上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化性、表層１２の機械特性、特に耐擦傷性を向上させることができ、上記上限値以下であれば、表層１２内に残存する重合開始剤による表層１２の弾性率及び耐擦傷性の低下や、表層１２の着色を抑制できる。
【００３６】
樹脂組成物は、活性エネルギー線吸収剤及び／又は酸化防止剤を含んでいてもよい。活性エネルギー線吸収剤は、樹脂組成物の硬化の際に照射される活性エネルギー線を吸収し、表層１２の劣化を抑制できるものが好ましい。活性エネルギー線吸収剤としては、例えばベンゾフェノン系の紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、ベンゾエート系の紫外線吸収剤等が挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン（登録商標）」シリーズの４００や４７９、共同薬品株式会社製の「Ｖｉｏｓｏｒｂ（登録商標）」シリーズの１１０を挙げることができる。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系の酸化防止剤、リン系の酸化防止剤、イオウ系の酸化防止剤、ヒンダードアミン系の酸化防止剤が挙げられ、市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製の「ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）」シリーズ等が挙げられる。これら活性エネルギー線吸収剤、酸化防止剤は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
【００３７】
活性エネルギー線吸収剤及び／又は酸化防止剤の含有量は、全モノマー量１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０１〜１質量部がより好ましく、０．０１〜０．５質量部がさらに好ましい。活性エネルギー線吸収剤及び／又は酸化防止剤の含有量が、上記下限値以上であれば、得られる表層１２の黄色化やヘイズ上昇を抑制することができ、耐候性を高められる。上記上限値以下であれば、樹脂組成物の硬化性や、得られる表層１２の耐擦傷性が低下するのを抑制でき、表層１２の基材１１との密着性の低下を抑制できる。
【００３８】
樹脂組成物は、溶剤を含んでいてもよいが、含まない方が好ましい。溶剤を含まない場合、例えば、樹脂組成物を鋳型に流し込んだ状態で活性エネルギー線を照射して、樹脂組成物を重合・硬化させ、その後離型するプロセスにおいて、溶剤が表層１２中に残る心配がない。また、製造工程を考慮した場合、溶剤を用いると溶剤除去のための設備投資が必要であり、コストアップにつながるため好ましくない。
【００３９】
樹脂組成物の粘度は、微細凹凸構造体１０の製造方法等を勘案して決定できる。例えば、スタンパにより微細凹凸構造１５を形成する場合、２５℃における回転式Ｂ型粘度計で測定される樹脂組成物の粘度は、１００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、５０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。なお、樹脂組成物の粘度が１００００ｍＰａ・ｓ以上であっても、加温により上記範囲の粘度の樹脂組成物を適用できる場合は作業性を損なうことがないため、２５℃における上記粘度を有するものでなくてもよい。また、７０℃における回転式Ｂ型粘度計で測定される樹脂組成物の粘度は、５０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
また、微細凹凸構造１５の反転構造を有するベルト状やロール状のスタンパを用いて連続的に順次硬化させる場合、２５℃における回転式Ｂ型粘度計で測定される樹脂組成物粘度は、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１５０ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、２００ｍＰａ・ｓ以上がさらに好ましい。樹脂組成物の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上であれば、樹脂組成物のスタンパからの漏洩を抑制し、表層１２の厚みを容易に調整できる。
樹脂組成物の粘度は、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）の種類や含有量を調節することで調整できる。例えば、水素結合等の分子間相互作用を有する官能基や化学構造を含むモノマーを多く用いると、樹脂組成物の粘度は高くなる。また、分子間相互作用のない低分子量のモノマーを多く用いると、樹脂組成物の粘度は低くなる。
【００４０】
樹脂組成物１００ｇあたりの重合性官能基のモル数（以下、単位官能基モル数ということがある）は、０．４４モル／１００ｇ以上が好ましく、０．４４〜０．８モル／１００ｇがより好ましく、０．４６〜０．７モル／１００ｇがさらに好ましい。
単位官能基モル数は、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）の配合割合と、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）の分子量を各々の重合性官能基数で除した値（分子量／官能基比）とから計算できる。
例えば、モノマー（Ａ）として、新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ（エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、分子量／官能基比＝１４３）７０質量部、モノマー（Ｂ）として新中村化学社製ＮＫエステルＡＰＧ−４００（ポリプロピレングリコールジアクリレート、分子量／官能基比＝２７４）３０質量部の計１００質量部の樹脂組成物の場合、単位官能基モル数は下記（１）式のように算出される。
７０÷１４３＋３０÷２７４＝０．６０（モル／１００ｇ）・・・（１）
単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ以上であれば、得られる表層１２は適切な弾性率、硬度、耐擦傷性を有するものとなる。また、微細凹凸構造１５を形成する場合、凸部１３のアスペクト比が大きいほど、その形状を維持しにくい。このため、細長く、高い形状の凸部１３を形成する場合、高硬度の樹脂が要求される。単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ以上であれば、例えば、凸部１３の高さが１８０ｎｍを超える場合でも、微細凹凸構造１５の形状を良好に維持し、凸部１３同士が寄り添って、外観が低下するのを防止できる。
【００４１】
微細凹凸構造体１０は、人工指紋液を付着させて２４時間経過後における表層露出面の反射率と、人工指紋液を付着させる前の表層露出面の反射率との差の絶対値（以下、反射率差ということがある）が１．０％以下であり、好ましくは０．２％以下とされる。反射率差が１．０％以下であれば、表層露出面に指紋汚れが付着しても、この指紋汚れが目立たなくなり、微細凹凸構造体１０の外観低下を防止できる。
人工指紋液を付着させた直後では、人工指紋液を付着させた領域の反射率が上昇する。このため、人工指紋液が付着した部分は、指紋汚れとして容易に視認される。微細凹凸構造体１０では、室温（２０℃）で２４時間放置すると、付着した人工指紋液が表層露出面に広がると共に、表層１２内に吸収され、指紋汚れとして視認できなくなる。犯罪捜査等に適用される法科学鑑定の様々な技法によれば、完全に指紋の痕跡をなくすことは極めて難しいとされるものの、本発明においては、ディスプレイ表面等、光学機器の実用に際して問題のないレベルにまで、指紋汚れが見えなくなればよい。このため、反射率差が１．０％以下であれば、光学機器の実用に際して問題のないレベルにまで、指紋汚れを消失できる。
【００４２】
反射率とは、表層露出面に照射した光が表層１２内に入らず、表層露出面で反射した度合いを示すものである。具体的には、株式会社日立製作所製の分光光度計「Ｕ−４１００」等を用いて、入射角５°の条件で波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの間で測定された相対反射率である。反射率の測定には、人間が最も敏感に感じるとされる５５０ｎｍの光を用いることが好ましい。
人工指紋液は、ＪＩＳ Ｋ２２４６：２００７の記載に準じて調製されたものである。
人工指紋液を付着させる際の押圧力は特に限定されず、例えば、１００ｇ／ｃｍ２とされる。
人工指紋液を付着させるには、人工指紋液を付着させた手指を表層露出面に押圧してもよいし、ゴム等の樹脂製のスタンプに人工指紋液を付着させ、このスタンプを表層露出面に押圧してもよい。
【００４３】
表層露出面における水に対する接触角は、４５°以下が好ましく、３５°以下がより好ましい。接触角とは、表層露出面に液滴を落とし、表層露出面と液滴と気相の３種が交わる点における液滴の接線の角度を指す。水に対する接触角が４５°以下であることは、表層露出面が、親水性であることを示す。表層露出面の濡れやすさは、表層露出面を構成する物質の極性とは必ずしも相関せず、表面自由エネルギーによって表される。水接触角が４５°以下になる面の場合、油脂に対しても濡れやすい面となる。水との接触角が４５°以下になる面は、付着した指紋汚れが濡れ広がりやすい面である。指紋汚れが判別できなくなるには、指紋汚れが樹脂へと吸収されることが必要となる。表層１２と指紋汚れとの接触面積が増えることで、指紋汚れが表層１２により速やかに吸収されることになる。即ち、表層露出面における水との接触角を４５°以下にすることで、付着した指紋汚れの濡れ広がりと、表層１２への指紋汚れの吸収との両方の現象が並行して起こるため、付着した指紋汚れをより速やかに視認できない状態にできる。
【００４４】
（製造方法）
微細凹凸構造体１０の製造方法としては、例えば、（１）微細凹凸構造１５の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に樹脂組成物を配し、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化して、スタンパの凹凸形状を転写し、その後スタンパを剥離する方法、（２）樹脂組成物にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化する方法等が挙げられる。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度の点から、（１）の方法が好ましい。
（１）の方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。
スタンパに微細凹凸構造１５の反転構造を形成する方法は、特に限定されず、電子ビームリソグラフィー法、レーザー光干渉法等が挙げられる。例えば、適当な支持基板上に適当なフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、Ｘ線等の光で露光し、現像して微細凹凸構造１５の反転構造を形成した型を得て、この型をそのままスタンパとして使用する方法が挙げられる。また、フォトレジスト層を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングして、レジスト層を除去することで支持基板に、微細凹凸構造１５の反転構造を形成してもよい。
また、陽極酸化ポーラスアルミナを、スタンパとして用いてもよい。例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化することにより２０〜２００ｎｍの細孔構造を形成し、これをスタンパとして用いてもよい。この方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成できる。さらに、二回目に陽極酸化する工程で、陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型である微細凹凸構造の反転構造を形成できる。また、陽極酸化処理と孔径拡大処理の時間や条件を適宜調節することで、細孔最奥部の角度を鋭くすることも可能である。
さらに、微細凹凸構造１５を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをスタンパとして使用してもよい。
スタンパの形状は特に限定されず、例えば、平板状、ベルト状、ロール状のいずれでもよい。特に、ベルト状やロール状にすれば、連続的に微細凹凸構造１５を転写でき、生産性をより高めることができる。
【００４５】
得られたスタンパの反転構造が臨む側にシート状又はフィルム状の基材１１を配し、スタンパと基材１１との間に樹脂組成物を配する。スタンパと基材１１と間に樹脂組成物を配する方法としては、スタンパと基材１１との間に樹脂組成物を配置した状態で、スタンパを基材に押圧することで、スタンパに形成された反転構造に樹脂組成物を充填する方法が挙げられる。
次いで、樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、樹脂組成物を重合して硬化させる。樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して硬化する方法としては、樹脂組成物中のモノマーの種類等を勘案して決定でき、例えば、電子線、紫外線、可視光線、プラズマ、赤外線等を照射する方法が挙げられ、中でも紫外線を照射する方法が好ましい。紫外線を照射する方法としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、フュージョンランプを用いる方法等が挙げられる。
紫外線の照射量は、重合開始剤の吸収波長や含有量に応じて決定すればよい。通常、その積算光量は、４００〜４０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、４００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、樹脂組成物を十分硬化させて硬化不足による耐擦傷性低下を抑制することができる。また。積算光量が４０００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、表層１２の着色や基材１１の劣化を防止しやすい。
照射強度は、基材１１の劣化等を招かない程度の出力に抑えることが好ましい。
樹脂組成物を硬化した後、スタンパを剥離することで、微細凹凸構造１５が形成された表層１２を有する微細凹凸構造体１０が得られる。
【００４６】
あるいは、基材１１がシート状及びフィルム状以外の形状（以下、立体形状ということがある）の成形体等の場合は、スタンパにおける反転構造が形成された面に樹脂組成物を配し、これに活性エネルギー線を照射して硬化して表層１２を成形した後、表層１２をスタンパから剥離し、別途成形した立体形状の基材１１に貼り付けてもよい。
【００４７】
また、例えば、樹脂組成物を半硬化させた後、半硬化させた樹脂組成物に、スタンパにおける反転構造が形成された面を押し当て、微細凹凸構造１５を転写し、その後、活性エネルギー線を樹脂組成物に照射して、樹脂組成物を硬化する方法が挙げられる。
樹脂組成物を半硬化させる方法としては、樹脂組成物の組成等を勘案して決定でき、例えば、加熱する方法等が挙げられる。
【００４８】
上述した微細凹凸構造体は、表層露出面の反射率差が１．０％以下であるため、付着した指紋汚れが速やかに表層１２に吸収され、指紋汚れによる外観低下を防止できる。
加えて、本実施形態の微細凹凸構造体は、上述した樹脂組成物の硬化物により表層が形成されることで、より確実に反射率差が１．０％以下となり、指紋汚れによる外観低下をより好適に防止できる。
【００４９】
本実施形態の微細凹凸構造体は、表層露出面における水に対する接触角を４５°以下とすることで、より速やかに指紋汚れを視認できなくできる。
本実施形態の微細凹凸構造体は、表層を形成する樹脂組成物が０．４４モル／１００ｇ以上の重合性官能基を有することで、機械強度が高まり、凸部同士が寄り添うことに起因する外観低下を防止できる。
【００５０】
本実施形態の微細凹凸構造体は、反射防止膜（反射防止フィルムを含む）、反射防止体等の反射防止物品として、例えば、コンピュータ、テレビ、携帯電話等の液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置のようなディスプレイ、レンズ、ショーウィンドウ、自動車メーターカバー、眼鏡レンズ等の対象物品の表面、もしくはこれらの前面板に貼り付けられて用いられてもよいし、微細凹凸構造体を前記の前面板としてもよい。中でも、本実施形態の微細凹凸構造体は、ディスプレイ用の反射防止物品として好適に用いられる。
加えて、本実施形態の微細凹凸構造体は、例えば、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子等の光学用途や、細胞培養シートの用途にも適用できる。
【００５１】
反射防止物品が立体形状である場合には、予め用途に応じた形状の透明基材を用いて透明成形体を製造し、これを上記対象物品の表面を構成する部材としてもよい。
【００５２】
（その他の実施形態）
本発明の微細凹凸構造体は、上述の実施形態に限定されるものではない。
上述の実施形態では、基材の一方の面にのみ表層が設けられているが、本発明の微細凹凸構造体は、これに限定されず、例えば、基材の両面に表層が設けられ、両面に微細凹凸構造が形成されていてもよい。
【００５３】
上述の実施形態では、表層露出面の全体に微細凹凸構造が形成されているが、本発明はこれに限定されず、例えば、表層露出面の一部にのみに微細凹凸構造が形成されていてもよい。
【００５４】
上述の実施形態では、凸部が略円錐状とされているが、本発明はこれに限定されず、例えば、図２に示す微細凹凸構造体１１０の凸部１１３のように、頂部１１３ａが突出方向に膨出する曲面とされた釣鐘状であってもよく、その他、頂部から基材に向かって、漸次拡径する形状を採用することができ。中でも、凸部の形状としては、略円錐状が好ましい。略円錐状であれば、屈折率を連続的に増大させることができ、波長による反射率の変動（波長依存性）を抑制し、可視光の散乱を抑制して低反射率にできる。加えて、凸部の先端が細いほど、表層露出面における撥水性を高められる。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明について実施例を示して説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
（使用原料）
各例の微細凹凸構造体の製造に用いた原料は以下の通りのものであり、各モノマーの官能基数、分子量、分子量／官能基比は、表１に示すものである。
＜モノマー（Ａ）＞
ＴＭＰＴ−３ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＴＭＰＴ−３ＥＯ）
ＴＭＰＴ−６ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（共栄社化学工業株式会社製、商品名；ライトアクリレートＡ−ＴＭＰ−６ＥＯ）
ＴＭＰＴ−９ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＴＭＰＴ−９ＥＯ）
【００５６】
＜モノマー（Ｂ）＞
ＡＭ３０Ｇ：末端メチル化ポリエチレングリコール（繰り返し数＝３）モノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＭ３０Ｇ）
ＡＭ９０Ｇ：末端メチル化ポリエチレングリコール（繰り返し数＝９）モノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＭ９０Ｇ）
ＡＭ１３０Ｇ：末端メチル化ポリエチレングリコール（繰り返し数＝１３）モノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＭ１３０Ｇ）
ＡＰ４００：ポリプロピレングリコール（繰り返し数＝７）モノアクリレート（日油株式会社製、商品名；ブレンマーＡＰ４００）
ＡＰＧ−４００：ポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＡＰＧ−４００）
ＡＰＧ−７００：ポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＡＰＧ−７００）
【００５７】
＜モノマー（Ｃ）＞
ＡＴＭ−４Ｅ：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ）
ＳＡ：ステアリルアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ブレンマーＳＡ）
ＡＡｃ：アクリル酸
【００５８】
＜離型剤＞
ＩＮＴ ＡＭ１２１：内部離型剤（アクセルプラスチック株式会社製、商品名；モールドウィズＩＮＴ ＡＭ−１２１）
＜活性エネルギー線重合開始剤＞
ＤＡＲ ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド（日本チバガイギー株式会社製、商品名；ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ）
【００５９】
【表１】
【００６０】
（測定方法、評価方法）
＜反射率差の測定方法＞
各例の微細凹凸構造体の裏面（基材の露出面）をサンドペーパー（ＧＲＩＴ Ｎｏ．５００）で粗面化した後、微細凹凸構造体の裏面に黒色の塗料を塗工した。
直径１０ｍｍの円柱状のスタンプ（ゴム製）の一端面に、１μＬの人工指紋液を付着させ、スタンプの一端面を表層露出面に１００ｇ／ｃｍ２の圧力で３秒間押し付けて、人工指紋液を表層露出面に付着させた。その後、微細凹凸構造体を２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間保管した。分光光度計（Ｕ−４１００、株式会社日立製作所製）を用いて、表層露出面に入射角５°で波長５５０ｎｍの相対反射率（反射率α）を測定した。予め、人工指紋液を塗布する前の相対反射率（反射率β）を測定し、下記（２）式により反射率差を求めた。
反射率差（％）＝｜反射率α―反射率β｜ ・・・（２）
なお、人工指紋液は、精製水５００ｍＬとメタノール５００ｍＬとの混合液に、塩化ナトリウム７ｇ、尿素１ｇ及び乳酸４ｇを溶解して調製したものである。
【００６１】
＜水との接触角の測定方法＞
微細凹凸構造が形成された面に５μＬのイオン交換水を滴下し、自動接触角測定器（ＫＲＵＳＳ社製）を用いて、θ／２法にて接触角を算出した。
【００６２】
＜外観１：指紋汚れの防止＞
微細凹凸構造が形成された面に、人差し指を１００ｇ／ｃｍ２の圧力で３秒間押し付けて、指紋汚れを表層露出面に付着させた。その後、拭き取り用の紙（ケイドライ、日本製紙クレシア株式会社製）で、指紋汚れを軽く拭き取り、２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間保管した。保管後の微細凹凸構造体について、下記評価基準に従い評価した。
【００６３】
≪評価基準≫
○：指紋汚れを視認できない。
△：視認できるが、付着直後に比べ指紋汚れが薄くかつ小さくなっており、許容できるレベルである。
×：付着直後と同等の濃さ又は同等の大きさの指紋汚れを視認できる。
【００６４】
＜外観２：透明性＞
微細凹凸構造が形成された面を目視で観察し、下記評価基準に従い評価した。
【００６５】
≪評価基準≫
○：濁りがなく、透明である。
△：部分的に濁りが見られる。
×：全体に濁っている。
【００６６】
（製造例１：スタンパの製造）
図３の工程図に従い、各例の微細凹凸構造体の製造に用いたスタンパ（細孔の深さ１８０ｎｍ）を以下のように製造した。
純度９９.９９％のアルミニウム板３０を、羽布研磨及び過塩素酸／エタノール混合溶液（１／４体積比）中で電解研磨し鏡面化した。
（ａ）工程
０.３Ｍシュウ酸水溶液中で直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で、アルミニウム板３０に３０分間陽極酸化を施し、形成された酸化皮膜３２に亀裂３１を生じさせた（図３（ａ））。
（ｂ）工程
６質量％リン酸／１.８質量％クロム酸混合水溶液にアルミニウム板３０を６時間浸漬して、酸化皮膜３２を除去し、亀裂３１に対応する周期的な窪み３３を露出させた（図３（ｂ））。
（ｃ）工程
酸化皮膜３２が除去されたアルミニウム板３０について、０.３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を施し、酸化皮膜３４を形成した。酸化皮膜３４をアルミニウム板３０の表面形状に沿って形成することにより、細孔３５を形成した（図３（ｃ））。
（ｄ）工程
３２℃の５質量％リン酸に酸化皮膜３４が形成されたアルミニウム板３０を８分間浸漬して、細孔３５の径拡大処理を施した（図３（ｄ））。
（ｅ）工程
前記（ｃ）工程及び（ｄ）工程を合計で５回繰り返し（図３（ｅ））、周期１００ｎｍ、深さ１８０ｎｍの略円錐形状の細孔３５を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。得られた陽極酸化ポーラスアルミナを脱イオン水で洗浄し、表面の水分をエアーブローで除去し、表面防汚コーティング剤（ダイキン工業株式会社製、商品名：オプツールＤＳＸ）を固形分０.１質量％になるように希釈剤（株式会社ハーベス製、商品名：ＨＤ−ＺＶ）で希釈した溶液に１０分間浸漬し、２０時間風乾してスタンパ２０を得た（図３（ｆ））。
なお、スタンパ２０の細孔３５の深さ及び周期は、スタンパ２０の縦断面に１分間Ｐｔ蒸着して試験体とし、この試験体について電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、商品名：ＪＳＭ−７４００Ｆ）により観察（加速電圧：３．００ｋＶ）して測定されたものであり、各１０点の測定結果の平均である。
【００６７】
（実施例１〜１６、比較例１〜９）
表２〜３の組成に従い、各原料を混合して樹脂組成物を調製した。得られた樹脂組成物を製造例１で製造したスタンパの細孔が形成された面に流し込み、その上に基材（厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、三菱樹脂株式会社製、商品名：ＷＥ９７Ａ）を押し広げながら被覆した。その後、基材側からフュージョンランプを用いて積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射して、樹脂組成物を硬化させた。次いで、スタンパから基材を剥離して、図１の微細凹凸構造体１０と同様の微細凹凸構造体を得た。得られた微細凹凸構造体の表面には、スタンパの微細凹凸構造が転写されており、図１に示す間隔ｗ１が１００ｎｍ、高さｄ１が１８０ｎｍの略円錐状の凸部１３が形成されていた。得られた微細凹凸構造体について、反射率差及び水との接触角を測定し、外観１及び外観２を評価し、その結果を表２〜３に示す。
なお、間隔ｗ１及び高さｄ１は、微細凹凸構造体の縦断面を１０分間Ｐｔ蒸着して試験体とし、この試験体についてスタンパ２０の細孔３５の深さ及び周期と同様にして測定されたものである。
【００６８】
【表２】
【００６９】
【表３】
【００７０】
表２〜３に示すように、本発明を適用した実施例１〜１６は、外観１の評価が「△」又は「○」であり、指紋汚れによる外観低下を防止できていた。
これに対し、反射率差が１．０％超である比較例１〜９は、いずれも外観１が「×」であった。
これらの結果から、本発明を適用することで、指紋汚れによる外観低下を防止できることが判った。
【００７１】
加えて、モノマー（Ａ）を含有する樹脂組成物を用いた実施例１〜１４は、実施例１５〜１６に比べて、指紋汚れの防止効果により優れるものであった。
実施例１〜１４の内、単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ以上の実施例１〜１０は、単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ未満の実施例１１〜１４よりも外観２に優れるものであった。これは、実施例１〜１０の表層の機械強度が、実施例１１〜１４の表層の機械強度よりも高いため、凸部同士が寄り添うことなく、透明性を維持できたためである。
【符号の説明】
【００７２】
１０、１１０ 微細凹凸構造体
１１ 基材
１２ 表層
１３、１１３ 凸部
１４ 凹部
１５ 微細凹凸構造
２０ スタンパ
３５ 細孔
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細凹凸構造体、ディスプレイ及び微細凹凸構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表面に、例えば、ナノサイズの凹凸が規則的に配置された微細凹凸構造を有する微細凹凸構造体は、連続的に屈折率を変化させ反射防止性能を発現することが知られている。微細凹凸構造体が良好な反射防止性能を発現するには、隣り合う凸部又は凹部の間隔が可視光の波長以下のサイズである必要がある。また、微細凹凸構造体は、ロータス効果により超撥水性能を発現することも可能である。
【０００３】
微細凹凸構造を形成する方法としては、例えば、微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパを用いて射出成形やプレス成形する方法、スタンパと透明基材との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下「樹脂組成物」ともいう。）を配し、活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化させて、スタンパの凹凸形状を転写した後にスタンパを剥離する方法、樹脂組成物にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後に活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化する方法等が提案されている。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度を考慮すると、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化させて、微細凹凸構造を転写する方法が好適である。この方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。
【０００４】
このような微細凹凸構造体は、良好な反射防止性能を有するものの、表面に付着した指紋汚れを除去しにくいことが知られている。
加えて、微細凹凸構造体は、同じ樹脂組成物を用いて製造した平滑な表面の成形体に比べて耐擦傷性に劣るため、耐久性に問題がある。また、微細凹凸構造体は、樹脂組成物が十分に堅牢でない場合、凸部同士が寄り添って、透明性が低下して、外観が損なわれやすいものになる。このため、微細凹凸構造に付着した汚れを強い力で擦り取ることができない。
こうした問題に対し、親水性の樹脂により微細凹凸構造が形成された透明成形体の発明が提案されている（例えば、特許文献１）。特許文献１に記載された発明によれば、樹脂が水と馴染みやすいため、水拭き等により、凹凸構造に付着した汚れと、樹脂との間に水を浸透させて、汚れを浮かせて除去することができる。
【０００５】
また、例えば、疎水親油組成の樹脂を用いたコーティング剤が開示されている（例えば、特許文献２、３）。特許文献２〜３の発明によれば、樹脂を親油性にすることで、コーティングと指紋汚れとが馴染みやすくなり、拭き取りによってコーティング表面に指紋汚れが薄く延ばされることで、汚れを目立たなくさせている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開ＷＯ０８−０９６８７２号
【特許文献２】特開２００４−３５９８３４号公報
【特許文献３】特開２０１０−２４２８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術のように水を用いる汚れの除去方法が前提であると、水分を嫌う精密機器用の微細凹凸構造体に適用するのに不都合がある。
加えて、本発明者らが親油性の樹脂を微細凹凸構造体に適用したところ、微細凹凸構造に付着させた指紋汚れは、拭き取りによって延ばされることなく、目立ったままであり、微細凹凸構造体の外観を低下させた。これは、指紋汚れが微細凹凸構造の中へ入り込んだ部分で、当初の反射防止性能が損なわれて、反射防止性能を維持している周辺部との差が際立っためである。
そこで、本発明は、付着した指紋汚れによる外観低下を防止できる微細凹凸構造体を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の微細凹凸構造体は、露出面に微細凹凸構造が形成された表層を有する微細凹凸構造体において、人工指紋液を付着させて２４時間経過後における前記露出面の反射率と、前記人工指紋液を付着させる前の前記露出面の反射率との差が１．０％以下であることを特徴とする。
前記表層は、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物であることが好ましく、前記露出面における水に対する接触角は４５°以下であることが好ましく、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、０．４４モル／１００ｇ以上の重合性官能基を有することが好ましい。
【０００９】
本発明のディスプレイは、本発明の前記微細凹凸構造体を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の微細凹凸構造体の製造方法は、微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に、重合性官能基を３つ以上有し１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を配し、該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化した後、前記スタンパを剥離し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり微細凹凸構造が形成された表層を前記基材上に設けることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の微細凹凸構造体によれば、付着した指紋汚れによる外観低下を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る微細凹凸構造体の断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る微細凹凸構造体の断面図である。
【図３】実施例に用いたスタンパの製造方法を説明する工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（微細凹凸構造体）
本発明の微細凹凸構造体の一実施形態について、図１を用いて説明する。
図１の微細凹凸構造体１０は、基材１１上に表層１２が積層されたものであり、表層１２の露出面（表層露出面）には、微細凹凸構造１５が形成されている。微細凹凸構造１５は、凸部１３と凹部１４とが交互に形成されたものである。
本実施形態の凸部１３の形状は、頂部１３ａから基材１１に向かい漸次拡径する略円錐状とされている。
【００１４】
凹部１４の幅、即ち、隣接する頂部１３ａ同士の間隔ｗ１は、可視光の波長（３８０〜７８０ｎｍ）以下、即ち、３８０ｎｍ以下とされ、３００ｎｍ以下が好ましく、２５０ｎｍ以下がより好ましい。上記上限値以下であれば、可視光の散乱を抑制でき、反射防止膜として光学機器に好適に使用できる。間隔ｗ１の下限値は特に限定されないが、凸部１３を形成しやすい点で２５ｎｍ以上が好ましい。
【００１５】
また、凹部１４の底部１４ａから、頂部１３ａを連ねた面までの距離、即ち凸部１３の高さｄ１は、波長により反射率が変動するのを抑制できる高さ、即ち、６０ｎｍ以上が好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましく、１８０ｎｍ以上が特に好ましい。上記下限値未満であると、特定の波長の光に対し反射率が上昇したりして、微細凹凸構造体１０の反射防止性能が低下するおそれがある。高さｄ１が１５０ｎｍ近傍では、人が一番認識しやすい５５０ｎｍの波長域光の反射率を最も低くすることができ、高さｄ１が１５０ｎｍ以上になると、凸部１３の高さが高いほど、可視光域における最高反射率と最低反射率との差が小さくなる。このため、凸部１３の高さｄ１が１５０ｎｍ以上になれば、反射光の波長依存性が小さくなり、色味の相違は視認されなくなる。
ここで、頂部１３ａ同士の間隔ｗ１及び凸部１３の高さｄ１は、電界放出形走査電子顕微鏡（ＪＳＭ−７４００Ｆ：日本電子株式会社製）により加速電圧３．００ｋＶの画像における測定により得られる測定値の算術平均値を採用することができる。
【００１６】
基材１１の厚みは、特に限定されず、微細凹凸構造体１０の用途等を勘案して、適宜決定される。
【００１７】
基材１１としては、表層１２を支持可能なものであれば、用途を勘案して決定でき、例えば、微細凹凸構造体１０をディスプレイ部材に適用する場合、透明基材、即ち光を透過するものが好ましい。透明基材を構成する材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等の合成高分子、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等の半合成高分子、ポリエチレンテレフタラート、ポリ乳酸等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、それら高分子の複合物（ポリメチルメタクリレートとポリ乳酸の複合物、ポリメチルメタクリレートとポリ塩化ビニルの複合物等）、ガラスが挙げられる。
基材１１の形状はシート状、フィルム状等のいずれであってもよい。基材１１としては、例えば、射出成形、押し出し成形、キャスト成形等、いずれの製法により製造されたものを使用してもよい。さらに、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、基材１１の表面には、コーティングやコロナ処理が施されていてもよい。
【００１８】
表層１２は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、単に樹脂組成物ということがある）を重合させ、硬化させて得られる硬化物である。樹脂組成物としては、例えば、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）と、ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）とを含有するものが挙げられる。
【００１９】
＜モノマー（Ａ）＞
モノマー（Ａ）は、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマーであり、表層１２の機械特性、特に耐擦傷性を良好に維持すると共に、指紋汚れとよく馴染むものである。モノマー（Ａ）を含有することにより、得られる硬化物の架橋点間分子量が小さくなり、架橋密度を高くして、表層１２の弾性率や硬度を高くし、表層１２を耐擦傷性に優れたものにできる。
【００２０】
モノマー（Ａ）は、オレイン酸と同質量で混合した際に、均一に混合されるものが好ましい。同質量のオレイン酸と均一に混合されるとは、モノマー（Ａ）１質量部とオレイン酸１質量部とをスターラー等の弱い攪拌力で攪拌した後、１０分間放置後に目視で分離が認められないことを意味する。
例えば、ウレタン結合を有するような、極性の高い化合物はオレイン酸と均一に混合されないものが多い。また、カルボキシル基やエステル結合を多量に有する化合物も、オレイン酸と均一に混合されにくい。
【００２１】
モノマー（Ａ）は、重合性官能基を３つ以上有するものであり、モノマー（Ａ）の重合性官能基数は、３〜９が好ましく、３〜６がより好ましい。重合性官能基数が上記下限値未満では、表層１２の弾性率や硬度が不十分になるおそれがある。上記上限値超では、指紋汚れによる外観低下を十分に防止できない場合がある。
モノマー（Ａ）における重合性官能基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基等のラジカル重合性官能基が挙げられる。
【００２２】
モノマー（Ａ）は、その分子量を重合性官能基数で除した値（分子量／重合性官能基数。以下、分子量／官能基比ということがある）が、好ましくは１３５〜２５０であり、より好ましくは１３５〜２００であり、さらに好ましくは１３５〜１８０である。分子量／官能基比が上記下限値以上であれば、指紋汚れが表層１２により容易に吸収され、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止でき、上記上限値以下であれば、表層１２の弾性率や硬度を高いレベルで維持でき、表層露出面における耐擦傷性を確保できる。
例えば、代表的な３官能モノマーであるトリメチロールプロパントリアクリレートの場合、その分子量は２９６であり、ラジカル重合性官能基の数は３である。従って、分子量／官能基比＝９８．７となる。また、例えば、分子量が８００を超える４官能モノマーや分子量が１２００を超える６官能モノマーは、分子量／官能基比＞２００となる。
【００２３】
このようなモノマー（Ａ）としては、例えば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート誘導体のエトキシ変性物又はプロポキシ変性物等が挙げられる。モノマー（Ａ）としては、新中村化学工業株式会社製の「ＮＫエステル（商標）」シリーズのＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ（エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、分子量／官能基比＝２３１）、東亞合成株式会社製の「アロニックス（商標）」シリーズのＭ−３０５、ダイセル・サイテック社製の「ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）４０」等の市販品を用いてもよい。
これらのモノマー（Ａ）は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
【００２４】
樹脂組成物において、モノマー（Ａ）と後述するモノマー（Ｂ）との合計量（以下、Ａ・Ｂ合計量ということがある）中のモノマー（Ａ）の含有量は、表層１２に求める強度等を勘案して決定でき、６０〜８３質量％が好ましく、６５〜８０質量％がより好ましく、７０〜８０質量％がさらに好ましい。上記下限値以上であれば、得られる表層１２の弾性率、硬度がより適切なものとなり、耐擦傷性がより高まる。上記上限値以下であれば指紋汚れが表層１２に容易に吸収され、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止できる。
また、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量は、モノマー（Ａ）の分子量／官能基比を勘案して決定してもよく、例えば、モノマー（Ａ）の分子量／官能基比が１５０以下の場合、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量は、７５質量％以下が好ましい。また、例えば、モノマー（Ａ）の分子量／官能基比が１５０超の場合、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量は、７０質量％以上が好ましい。
微細凹凸構造１５を形成する場合、凸部１３が細長い形状、即ち高さｄ１／間隔ｗ１で表される凸部１３のアスペクト比が大きいほど、高さｄ１が高いほど、その形状を維持することが難しく、高硬度の樹脂組成物が要求される。例えば、突起高さが１８０ｎｍを超える場合でも、Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ａ）の含有量が、上記範囲であれば、微細凹凸構造１５が良好に維持される。
【００２５】
＜モノマー（Ｂ）＞
モノマー（Ｂ）は、ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種である。モノマー（Ｂ）を含有することで、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みやすくなり、指紋汚れを吸収しやすく、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止できる。
【００２６】
ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及びこれらの末端をアルキル化したもの等が挙げられ、中でも、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートやポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートが好ましい。ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートにおけるアルキレングリコールの繰り返し数は、特に限定されないが、例えば、３〜２３が好ましく、３〜１３がより好ましい。上記下限値未満では、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みにくく、指紋汚れを吸収しにくくなるおそれがある。上記上限値超では、調製時における樹脂組成物のハンドリングが悪くなるおそれがある。
【００２７】
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及びこれらの末端をアルキル化したもの等が挙げられる。ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートにおけるアルキレングリコールの繰り返し数は、特に限定されないが、例えば、３〜２３が好ましく、７〜１３がより好ましい。上記下限値未満では、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みにくくなり、指紋汚れを吸収しにくくなるおそれがある。上記上限値超では、調製時における樹脂組成物のハンドリングが悪くなるおそれがある。
【００２８】
モノマー（Ｂ）の分子量は、特に限定されないが、例えば、２００〜１２００が好ましく、２００〜９００がより好ましい。上記下限値未満では、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みにくくなり、指紋汚れを吸収しにくくなるおそれがある。上記上限値超では、調製時における樹脂組成物のハンドリングが悪くなるおそれがある。
【００２９】
Ａ・Ｂ合計量中のモノマー（Ｂ）の含有量は、１７〜４０質量％が好ましく、２０〜３５質量％がより好ましく、２０〜３０質量％がさらに好ましい。上記下限値以上であれば、表層１２が指紋汚れ中の有機成分と馴染みやすくなり、指紋汚れをより容易に吸収し、指紋汚れによる外観低下をより良好に防止できる。上記上限値以下であれば樹脂組成物を効率的に硬化でき、残存モノマーが可塑剤として作用して、表層１２の弾性率や耐擦傷性が低下するのを良好に抑制できる。
【００３０】
＜任意成分＞
樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、モノマー（Ａ）及びモノマー（Ｂ）以外の任意成分を含有してもよい。任意成分としては、モノマー（Ａ）及びモノマー（Ｂ）以外のモノマー（以下、モノマー（Ｃ）ということがある）、スリップ剤、活性エネルギー線重合開始剤、活性エネルギー線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填材、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤等が挙げられる。
【００３１】
モノマー（Ｃ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等のアミノ基を有する（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリルアミド誘導体；２−ビニルピリジン；４−ビニルピリジン；Ｎ−ビニルピロリドン；Ｎ−ビニルホルムアミド；酢酸ビニル等の単官能モノマーが挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートが、嵩高くなく、樹脂組成物の重合反応性を促進させ得ることから、好ましい。また、基材１１として、アクリル系フィルムを用いる場合には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレートが好ましい。
また、例えば、モノマー（Ｃ）として、エトキシ化、ビスフェノールＡジアクリレートのようなアルコキシ化されたもの、１，９−ノナンジオールジアクリレートのようなアルキルジアクリレート等の２官能モノマーが挙げられる。ただし、硬化物の架橋密度が高くなりすぎると、指紋汚れが吸収されるのを阻害することになるため、モノマー（Ｃ）は、分子量／官能基比２００超であることが好ましい。
これらのモノマー（Ｃ）は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
【００３２】
樹脂組成物中のモノマー（Ｃ）の含有量は、Ａ・Ｂ合計量を勘案して決定でき、例えば、Ａ・Ｂ合計量１００質量部に対し、０〜２０質量部が好ましく、０〜１０質量部がより好ましく、１〜１０質量部がさらに好ましく、３〜８質量部が特に好ましい。モノマー（Ｃ）の含有量が上記上限値以下であれば、樹脂組成物を効率よく硬化させ、残存モノマーが可塑剤として作用して、表層１２の弾性率や耐擦傷性が低下するのを良好に抑制できる。
【００３３】
本実施形態の樹脂組成物は、スリップ剤を含むことが好ましい。スリップ剤は表層１２の表面に存在し、表面における摩擦を低減し、耐擦傷性を向上させる。
スリップ剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング株式会社製「ＳＨ３７４６ＦＬＵＩＤ」「ＦＺ−７７」、信越化学工業株式会社製「ＫＦ−３５５Ａ」、「ＫＦ−６０１１」等が挙げられる。これらのスリップ剤は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
スリップ剤の含有量は、樹脂組成物中のモノマー（Ａ）、モノマー（Ｂ）及びモノマー（Ｃ）の含有量の合計（以下、全モノマー量ということがある）１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．１〜２質量部がより好ましい。上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化性、表層１２の機械特性、特に耐擦傷性を向上させることができ、上記上限値以下であれば、残存するスリップ剤による表層１２の弾性率及び耐擦傷性の低下や、表層１２の着色を抑制できる。
【００３４】
樹脂組成物は、活性エネルギー線重合開始剤を含むことが好ましい。活性エネルギー線重合開始剤は、活性エネルギー線の照射によって開裂し、重合反応を開始させるラジカルを発生する化合物である。ここで「活性エネルギー線」とは、例えば、電子線、紫外線、可視光線、プラズマ、赤外線等の熱線等を意味する。微細凹凸構造体１０の製造には、装置コストや生産性の観点から、紫外線を用いることが好ましい。
活性エネルギー線重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン；２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン類；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジン等が挙げられる。
これらの活性エネルギー線重合開始剤は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。特に吸収波長の異なる２種以上を併用することが好ましい。
また、必要に応じて、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩、ベンゾイルパーオキシド等の過酸化物、アゾ系開始剤等の熱重合開始剤を併用してもよい。
【００３５】
樹脂組成物中の活性エネルギー線重合開始剤の含有量は、全モノマー量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部が好ましく、０．１〜５質量部がより好ましく、０．２〜３質量部がさらに好ましい。上記下限値以上であれば、樹脂組成物の硬化性、表層１２の機械特性、特に耐擦傷性を向上させることができ、上記上限値以下であれば、表層１２内に残存する重合開始剤による表層１２の弾性率及び耐擦傷性の低下や、表層１２の着色を抑制できる。
【００３６】
樹脂組成物は、活性エネルギー線吸収剤及び／又は酸化防止剤を含んでいてもよい。活性エネルギー線吸収剤は、樹脂組成物の硬化の際に照射される活性エネルギー線を吸収し、表層１２の劣化を抑制できるものが好ましい。活性エネルギー線吸収剤としては、例えばベンゾフェノン系の紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、ベンゾエート系の紫外線吸収剤等が挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン（登録商標）」シリーズの４００や４７９、共同薬品株式会社製の「Ｖｉｏｓｏｒｂ（登録商標）」シリーズの１１０を挙げることができる。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系の酸化防止剤、リン系の酸化防止剤、イオウ系の酸化防止剤、ヒンダードアミン系の酸化防止剤が挙げられ、市販品としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製の「ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）」シリーズ等が挙げられる。これら活性エネルギー線吸収剤、酸化防止剤は、１種単独で用いられてもよいし、２種以上が組み合わされて用いられてもよい。
【００３７】
活性エネルギー線吸収剤及び／又は酸化防止剤の含有量は、全モノマー量１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０１〜１質量部がより好ましく、０．０１〜０．５質量部がさらに好ましい。活性エネルギー線吸収剤及び／又は酸化防止剤の含有量が、上記下限値以上であれば、得られる表層１２の黄色化やヘイズ上昇を抑制することができ、耐候性を高められる。上記上限値以下であれば、樹脂組成物の硬化性や、得られる表層１２の耐擦傷性が低下するのを抑制でき、表層１２の基材１１との密着性の低下を抑制できる。
【００３８】
樹脂組成物は、溶剤を含んでいてもよいが、含まない方が好ましい。溶剤を含まない場合、例えば、樹脂組成物を鋳型に流し込んだ状態で活性エネルギー線を照射して、樹脂組成物を重合・硬化させ、その後離型するプロセスにおいて、溶剤が表層１２中に残る心配がない。また、製造工程を考慮した場合、溶剤を用いると溶剤除去のための設備投資が必要であり、コストアップにつながるため好ましくない。
【００３９】
樹脂組成物の粘度は、微細凹凸構造体１０の製造方法等を勘案して決定できる。例えば、スタンパにより微細凹凸構造１５を形成する場合、２５℃における回転式Ｂ型粘度計で測定される樹脂組成物の粘度は、１００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、５０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。なお、樹脂組成物の粘度が１００００ｍＰａ・ｓ以上であっても、加温により上記範囲の粘度の樹脂組成物を適用できる場合は作業性を損なうことがないため、２５℃における上記粘度を有するものでなくてもよい。また、７０℃における回転式Ｂ型粘度計で測定される樹脂組成物の粘度は、５０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
また、微細凹凸構造１５の反転構造を有するベルト状やロール状のスタンパを用いて連続的に順次硬化させる場合、２５℃における回転式Ｂ型粘度計で測定される樹脂組成物粘度は、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１５０ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、２００ｍＰａ・ｓ以上がさらに好ましい。樹脂組成物の粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上であれば、樹脂組成物のスタンパからの漏洩を抑制し、表層１２の厚みを容易に調整できる。
樹脂組成物の粘度は、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）の種類や含有量を調節することで調整できる。例えば、水素結合等の分子間相互作用を有する官能基や化学構造を含むモノマーを多く用いると、樹脂組成物の粘度は高くなる。また、分子間相互作用のない低分子量のモノマーを多く用いると、樹脂組成物の粘度は低くなる。
【００４０】
樹脂組成物１００ｇあたりの重合性官能基のモル数（以下、単位官能基モル数ということがある）は、０．４４モル／１００ｇ以上が好ましく、０．４４〜０．８モル／１００ｇがより好ましく、０．４６〜０．７モル／１００ｇがさらに好ましい。
単位官能基モル数は、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）の配合割合と、モノマー（Ａ）〜（Ｃ）の分子量を各々の重合性官能基数で除した値（分子量／官能基比）とから計算できる。
例えば、モノマー（Ａ）として、新中村化学工業株式会社製のＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ（エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、分子量／官能基比＝１４３）７０質量部、モノマー（Ｂ）として新中村化学社製ＮＫエステルＡＰＧ−４００（ポリプロピレングリコールジアクリレート、分子量／官能基比＝２７４）３０質量部の計１００質量部の樹脂組成物の場合、単位官能基モル数は下記（１）式のように算出される。
７０÷１４３＋３０÷２７４＝０．６０（モル／１００ｇ）・・・（１）
単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ以上であれば、得られる表層１２は適切な弾性率、硬度、耐擦傷性を有するものとなる。また、微細凹凸構造１５を形成する場合、凸部１３のアスペクト比が大きいほど、その形状を維持しにくい。このため、細長く、高い形状の凸部１３を形成する場合、高硬度の樹脂が要求される。単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ以上であれば、例えば、凸部１３の高さが１８０ｎｍを超える場合でも、微細凹凸構造１５の形状を良好に維持し、凸部１３同士が寄り添って、外観が低下するのを防止できる。
【００４１】
微細凹凸構造体１０は、人工指紋液を付着させて２４時間経過後における表層露出面の反射率と、人工指紋液を付着させる前の表層露出面の反射率との差の絶対値（以下、反射率差ということがある）が１．０％以下であり、好ましくは０．２％以下とされる。反射率差が１．０％以下であれば、表層露出面に指紋汚れが付着しても、この指紋汚れが目立たなくなり、微細凹凸構造体１０の外観低下を防止できる。
人工指紋液を付着させた直後では、人工指紋液を付着させた領域の反射率が上昇する。このため、人工指紋液が付着した部分は、指紋汚れとして容易に視認される。微細凹凸構造体１０では、室温（２０℃）で２４時間放置すると、付着した人工指紋液が表層露出面に広がると共に、表層１２内に吸収され、指紋汚れとして視認できなくなる。犯罪捜査等に適用される法科学鑑定の様々な技法によれば、完全に指紋の痕跡をなくすことは極めて難しいとされるものの、本発明においては、ディスプレイ表面等、光学機器の実用に際して問題のないレベルにまで、指紋汚れが見えなくなればよい。このため、反射率差が１．０％以下であれば、光学機器の実用に際して問題のないレベルにまで、指紋汚れを消失できる。
【００４２】
反射率とは、表層露出面に照射した光が表層１２内に入らず、表層露出面で反射した度合いを示すものである。具体的には、株式会社日立製作所製の分光光度計「Ｕ−４１００」等を用いて、入射角５°の条件で波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの間で測定された相対反射率である。反射率の測定には、人間が最も敏感に感じるとされる５５０ｎｍの光を用いることが好ましい。
人工指紋液は、ＪＩＳ Ｋ２２４６：２００７の記載に準じて調製されたものである。
人工指紋液を付着させる際の押圧力は特に限定されず、例えば、１００ｇ／ｃｍ２とされる。
人工指紋液を付着させるには、人工指紋液を付着させた手指を表層露出面に押圧してもよいし、ゴム等の樹脂製のスタンプに人工指紋液を付着させ、このスタンプを表層露出面に押圧してもよい。
【００４３】
表層露出面における水に対する接触角は、４５°以下が好ましく、３５°以下がより好ましい。接触角とは、表層露出面に液滴を落とし、表層露出面と液滴と気相の３種が交わる点における液滴の接線の角度を指す。水に対する接触角が４５°以下であることは、表層露出面が、親水性であることを示す。表層露出面の濡れやすさは、表層露出面を構成する物質の極性とは必ずしも相関せず、表面自由エネルギーによって表される。水接触角が４５°以下になる面の場合、油脂に対しても濡れやすい面となる。水との接触角が４５°以下になる面は、付着した指紋汚れが濡れ広がりやすい面である。指紋汚れが判別できなくなるには、指紋汚れが樹脂へと吸収されることが必要となる。表層１２と指紋汚れとの接触面積が増えることで、指紋汚れが表層１２により速やかに吸収されることになる。即ち、表層露出面における水との接触角を４５°以下にすることで、付着した指紋汚れの濡れ広がりと、表層１２への指紋汚れの吸収との両方の現象が並行して起こるため、付着した指紋汚れをより速やかに視認できない状態にできる。
【００４４】
（製造方法）
微細凹凸構造体１０の製造方法としては、例えば、（１）微細凹凸構造１５の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に樹脂組成物を配し、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化して、スタンパの凹凸形状を転写し、その後スタンパを剥離する方法、（２）樹脂組成物にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化する方法等が挙げられる。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度の点から、（１）の方法が好ましい。
（１）の方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。
スタンパに微細凹凸構造１５の反転構造を形成する方法は、特に限定されず、電子ビームリソグラフィー法、レーザー光干渉法等が挙げられる。例えば、適当な支持基板上に適当なフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、Ｘ線等の光で露光し、現像して微細凹凸構造１５の反転構造を形成した型を得て、この型をそのままスタンパとして使用する方法が挙げられる。また、フォトレジスト層を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングして、レジスト層を除去することで支持基板に、微細凹凸構造１５の反転構造を形成してもよい。
また、陽極酸化ポーラスアルミナを、スタンパとして用いてもよい。例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化することにより２０〜２００ｎｍの細孔構造を形成し、これをスタンパとして用いてもよい。この方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成できる。さらに、二回目に陽極酸化する工程で、陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型である微細凹凸構造の反転構造を形成できる。また、陽極酸化処理と孔径拡大処理の時間や条件を適宜調節することで、細孔最奥部の角度を鋭くすることも可能である。
さらに、微細凹凸構造１５を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをスタンパとして使用してもよい。
スタンパの形状は特に限定されず、例えば、平板状、ベルト状、ロール状のいずれでもよい。特に、ベルト状やロール状にすれば、連続的に微細凹凸構造１５を転写でき、生産性をより高めることができる。
【００４５】
得られたスタンパの反転構造が臨む側にシート状又はフィルム状の基材１１を配し、スタンパと基材１１との間に樹脂組成物を配する。スタンパと基材１１と間に樹脂組成物を配する方法としては、スタンパと基材１１との間に樹脂組成物を配置した状態で、スタンパを基材に押圧することで、スタンパに形成された反転構造に樹脂組成物を充填する方法が挙げられる。
次いで、樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、樹脂組成物を重合して硬化させる。樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して硬化する方法としては、樹脂組成物中のモノマーの種類等を勘案して決定でき、例えば、電子線、紫外線、可視光線、プラズマ、赤外線等を照射する方法が挙げられ、中でも紫外線を照射する方法が好ましい。紫外線を照射する方法としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、フュージョンランプを用いる方法等が挙げられる。
紫外線の照射量は、重合開始剤の吸収波長や含有量に応じて決定すればよい。通常、その積算光量は、４００〜４０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、４００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ２以上であれば、樹脂組成物を十分硬化させて硬化不足による耐擦傷性低下を抑制することができる。また。積算光量が４０００ｍＪ／ｃｍ２以下であれば、表層１２の着色や基材１１の劣化を防止しやすい。
照射強度は、基材１１の劣化等を招かない程度の出力に抑えることが好ましい。
樹脂組成物を硬化した後、スタンパを剥離することで、微細凹凸構造１５が形成された表層１２を有する微細凹凸構造体１０が得られる。
【００４６】
あるいは、基材１１がシート状及びフィルム状以外の形状（以下、立体形状ということがある）の成形体等の場合は、スタンパにおける反転構造が形成された面に樹脂組成物を配し、これに活性エネルギー線を照射して硬化して表層１２を成形した後、表層１２をスタンパから剥離し、別途成形した立体形状の基材１１に貼り付けてもよい。
【００４７】
また、例えば、樹脂組成物を半硬化させた後、半硬化させた樹脂組成物に、スタンパにおける反転構造が形成された面を押し当て、微細凹凸構造１５を転写し、その後、活性エネルギー線を樹脂組成物に照射して、樹脂組成物を硬化する方法が挙げられる。
樹脂組成物を半硬化させる方法としては、樹脂組成物の組成等を勘案して決定でき、例えば、加熱する方法等が挙げられる。
【００４８】
上述した微細凹凸構造体は、表層露出面の反射率差が１．０％以下であるため、付着した指紋汚れが速やかに表層１２に吸収され、指紋汚れによる外観低下を防止できる。
加えて、本実施形態の微細凹凸構造体は、上述した樹脂組成物の硬化物により表層が形成されることで、より確実に反射率差が１．０％以下となり、指紋汚れによる外観低下をより好適に防止できる。
【００４９】
本実施形態の微細凹凸構造体は、表層露出面における水に対する接触角を４５°以下とすることで、より速やかに指紋汚れを視認できなくできる。
本実施形態の微細凹凸構造体は、表層を形成する樹脂組成物が０．４４モル／１００ｇ以上の重合性官能基を有することで、機械強度が高まり、凸部同士が寄り添うことに起因する外観低下を防止できる。
【００５０】
本実施形態の微細凹凸構造体は、反射防止膜（反射防止フィルムを含む）、反射防止体等の反射防止物品として、例えば、コンピュータ、テレビ、携帯電話等の液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置のようなディスプレイ、レンズ、ショーウィンドウ、自動車メーターカバー、眼鏡レンズ等の対象物品の表面、もしくはこれらの前面板に貼り付けられて用いられてもよいし、微細凹凸構造体を前記の前面板としてもよい。中でも、本実施形態の微細凹凸構造体は、ディスプレイ用の反射防止物品として好適に用いられる。
加えて、本実施形態の微細凹凸構造体は、例えば、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子等の光学用途や、細胞培養シートの用途にも適用できる。
【００５１】
反射防止物品が立体形状である場合には、予め用途に応じた形状の透明基材を用いて透明成形体を製造し、これを上記対象物品の表面を構成する部材としてもよい。
【００５２】
（その他の実施形態）
本発明の微細凹凸構造体は、上述の実施形態に限定されるものではない。
上述の実施形態では、基材の一方の面にのみ表層が設けられているが、本発明の微細凹凸構造体は、これに限定されず、例えば、基材の両面に表層が設けられ、両面に微細凹凸構造が形成されていてもよい。
【００５３】
上述の実施形態では、表層露出面の全体に微細凹凸構造が形成されているが、本発明はこれに限定されず、例えば、表層露出面の一部にのみに微細凹凸構造が形成されていてもよい。
【００５４】
上述の実施形態では、凸部が略円錐状とされているが、本発明はこれに限定されず、例えば、図２に示す微細凹凸構造体１１０の凸部１１３のように、頂部１１３ａが突出方向に膨出する曲面とされた釣鐘状であってもよく、その他、頂部から基材に向かって、漸次拡径する形状を採用することができ。中でも、凸部の形状としては、略円錐状が好ましい。略円錐状であれば、屈折率を連続的に増大させることができ、波長による反射率の変動（波長依存性）を抑制し、可視光の散乱を抑制して低反射率にできる。加えて、凸部の先端が細いほど、表層露出面における撥水性を高められる。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明について実施例を示して説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
（使用原料）
各例の微細凹凸構造体の製造に用いた原料は以下の通りのものであり、各モノマーの官能基数、分子量、分子量／官能基比は、表１に示すものである。
＜モノマー（Ａ）＞
ＴＭＰＴ−３ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＴＭＰＴ−３ＥＯ）
ＴＭＰＴ−６ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（共栄社化学工業株式会社製、商品名；ライトアクリレートＡ−ＴＭＰ−６ＥＯ）
ＴＭＰＴ−９ＥＯ：エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＴＭＰＴ−９ＥＯ）
【００５６】
＜モノマー（Ｂ）＞
ＡＭ３０Ｇ：末端メチル化ポリエチレングリコール（繰り返し数＝３）モノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＭ３０Ｇ）
ＡＭ９０Ｇ：末端メチル化ポリエチレングリコール（繰り返し数＝９）モノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＭ９０Ｇ）
ＡＭ１３０Ｇ：末端メチル化ポリエチレングリコール（繰り返し数＝１３）モノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＭ１３０Ｇ）
ＡＰ４００：ポリプロピレングリコール（繰り返し数＝７）モノアクリレート（日油株式会社製、商品名；ブレンマーＡＰ４００）
ＡＰＧ−４００：ポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＡＰＧ−４００）
ＡＰＧ−７００：ポリプロピレングリコールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＡＰＧ−７００）
【００５７】
＜モノマー（Ｃ）＞
ＡＴＭ−４Ｅ：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ＮＫエステルＡＴＭ−４Ｅ）
ＳＡ：ステアリルアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名；ブレンマーＳＡ）
ＡＡｃ：アクリル酸
【００５８】
＜離型剤＞
ＩＮＴ ＡＭ１２１：内部離型剤（アクセルプラスチック株式会社製、商品名；モールドウィズＩＮＴ ＡＭ−１２１）
＜活性エネルギー線重合開始剤＞
ＤＡＲ ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド（日本チバガイギー株式会社製、商品名；ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ）
【００５９】
【表１】
【００６０】
（測定方法、評価方法）
＜反射率差の測定方法＞
各例の微細凹凸構造体の裏面（基材の露出面）をサンドペーパー（ＧＲＩＴ Ｎｏ．５００）で粗面化した後、微細凹凸構造体の裏面に黒色の塗料を塗工した。
直径１０ｍｍの円柱状のスタンプ（ゴム製）の一端面に、１μＬの人工指紋液を付着させ、スタンプの一端面を表層露出面に１００ｇ／ｃｍ２の圧力で３秒間押し付けて、人工指紋液を表層露出面に付着させた。その後、微細凹凸構造体を２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間保管した。分光光度計（Ｕ−４１００、株式会社日立製作所製）を用いて、表層露出面に入射角５°で波長５５０ｎｍの相対反射率（反射率α）を測定した。予め、人工指紋液を塗布する前の相対反射率（反射率β）を測定し、下記（２）式により反射率差を求めた。
反射率差（％）＝｜反射率α―反射率β｜ ・・・（２）
なお、人工指紋液は、精製水５００ｍＬとメタノール５００ｍＬとの混合液に、塩化ナトリウム７ｇ、尿素１ｇ及び乳酸４ｇを溶解して調製したものである。
【００６１】
＜水との接触角の測定方法＞
微細凹凸構造が形成された面に５μＬのイオン交換水を滴下し、自動接触角測定器（ＫＲＵＳＳ社製）を用いて、θ／２法にて接触角を算出した。
【００６２】
＜外観１：指紋汚れの防止＞
微細凹凸構造が形成された面に、人差し指を１００ｇ／ｃｍ２の圧力で３秒間押し付けて、指紋汚れを表層露出面に付着させた。その後、拭き取り用の紙（ケイドライ、日本製紙クレシア株式会社製）で、指紋汚れを軽く拭き取り、２３℃、５０％ＲＨの環境下で２４時間保管した。保管後の微細凹凸構造体について、下記評価基準に従い評価した。
【００６３】
≪評価基準≫
○：指紋汚れを視認できない。
△：視認できるが、付着直後に比べ指紋汚れが薄くかつ小さくなっており、許容できるレベルである。
×：付着直後と同等の濃さ又は同等の大きさの指紋汚れを視認できる。
【００６４】
＜外観２：透明性＞
微細凹凸構造が形成された面を目視で観察し、下記評価基準に従い評価した。
【００６５】
≪評価基準≫
○：濁りがなく、透明である。
△：部分的に濁りが見られる。
×：全体に濁っている。
【００６６】
（製造例１：スタンパの製造）
図３の工程図に従い、各例の微細凹凸構造体の製造に用いたスタンパ（細孔の深さ１８０ｎｍ）を以下のように製造した。
純度９９.９９％のアルミニウム板３０を、羽布研磨及び過塩素酸／エタノール混合溶液（１／４体積比）中で電解研磨し鏡面化した。
（ａ）工程
０.３Ｍシュウ酸水溶液中で直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で、アルミニウム板３０に３０分間陽極酸化を施し、形成された酸化皮膜３２に亀裂３１を生じさせた（図３（ａ））。
（ｂ）工程
６質量％リン酸／１.８質量％クロム酸混合水溶液にアルミニウム板３０を６時間浸漬して、酸化皮膜３２を除去し、亀裂３１に対応する周期的な窪み３３を露出させた（図３（ｂ））。
（ｃ）工程
酸化皮膜３２が除去されたアルミニウム板３０について、０.３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で３０秒間陽極酸化を施し、酸化皮膜３４を形成した。酸化皮膜３４をアルミニウム板３０の表面形状に沿って形成することにより、細孔３５を形成した（図３（ｃ））。
（ｄ）工程
３２℃の５質量％リン酸に酸化皮膜３４が形成されたアルミニウム板３０を８分間浸漬して、細孔３５の径拡大処理を施した（図３（ｄ））。
（ｅ）工程
前記（ｃ）工程及び（ｄ）工程を合計で５回繰り返し（図３（ｅ））、周期１００ｎｍ、深さ１８０ｎｍの略円錐形状の細孔３５を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。得られた陽極酸化ポーラスアルミナを脱イオン水で洗浄し、表面の水分をエアーブローで除去し、表面防汚コーティング剤（ダイキン工業株式会社製、商品名：オプツールＤＳＸ）を固形分０.１質量％になるように希釈剤（株式会社ハーベス製、商品名：ＨＤ−ＺＶ）で希釈した溶液に１０分間浸漬し、２０時間風乾してスタンパ２０を得た（図３（ｆ））。
なお、スタンパ２０の細孔３５の深さ及び周期は、スタンパ２０の縦断面に１分間Ｐｔ蒸着して試験体とし、この試験体について電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、商品名：ＪＳＭ−７４００Ｆ）により観察（加速電圧：３．００ｋＶ）して測定されたものであり、各１０点の測定結果の平均である。
【００６７】
（実施例１〜１６、比較例１〜９）
表２〜３の組成に従い、各原料を混合して樹脂組成物を調製した。得られた樹脂組成物を製造例１で製造したスタンパの細孔が形成された面に流し込み、その上に基材（厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、三菱樹脂株式会社製、商品名：ＷＥ９７Ａ）を押し広げながら被覆した。その後、基材側からフュージョンランプを用いて積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線を照射して、樹脂組成物を硬化させた。次いで、スタンパから基材を剥離して、図１の微細凹凸構造体１０と同様の微細凹凸構造体を得た。得られた微細凹凸構造体の表面には、スタンパの微細凹凸構造が転写されており、図１に示す間隔ｗ１が１００ｎｍ、高さｄ１が１８０ｎｍの略円錐状の凸部１３が形成されていた。得られた微細凹凸構造体について、反射率差及び水との接触角を測定し、外観１及び外観２を評価し、その結果を表２〜３に示す。
なお、間隔ｗ１及び高さｄ１は、微細凹凸構造体の縦断面を１０分間Ｐｔ蒸着して試験体とし、この試験体についてスタンパ２０の細孔３５の深さ及び周期と同様にして測定されたものである。
【００６８】
【表２】
【００６９】
【表３】
【００７０】
表２〜３に示すように、本発明を適用した実施例１〜１６は、外観１の評価が「△」又は「○」であり、指紋汚れによる外観低下を防止できていた。
これに対し、反射率差が１．０％超である比較例１〜９は、いずれも外観１が「×」であった。
これらの結果から、本発明を適用することで、指紋汚れによる外観低下を防止できることが判った。
【００７１】
加えて、モノマー（Ａ）を含有する樹脂組成物を用いた実施例１〜１４は、実施例１５〜１６に比べて、指紋汚れの防止効果により優れるものであった。
実施例１〜１４の内、単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ以上の実施例１〜１０は、単位官能基モル数が０．４４モル／１００ｇ未満の実施例１１〜１４よりも外観２に優れるものであった。これは、実施例１〜１０の表層の機械強度が、実施例１１〜１４の表層の機械強度よりも高いため、凸部同士が寄り添うことなく、透明性を維持できたためである。
【符号の説明】
【００７２】
１０、１１０ 微細凹凸構造体
１１ 基材
１２ 表層
１３、１１３ 凸部
１４ 凹部
１５ 微細凹凸構造
２０ スタンパ
３５ 細孔
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露出面に微細凹凸構造が形成された表層を有する微細凹凸構造体において、
人工指紋液を付着させて２４時間経過後における前記露出面の反射率と、前記人工指紋液を付着させる前の前記露出面の反射率との差が１．０％以下である微細凹凸構造体。
【請求項２】
前記表層は、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物である、請求項１に記載の微細凹凸構造体。
【請求項３】
前記露出面における水に対する接触角は４５°以下である、請求項１又は２に記載の微細凹凸構造体。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、０．４４モル／１００ｇ以上の重合性官能基を有する、請求項２に記載の微細凹凸構造体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の微細凹凸構造体を備えたディスプレイ。
【請求項６】
微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に、重合性官能基を３つ以上有し１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を配し、該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化した後、前記スタンパを剥離し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり微細凹凸構造が形成された表層を前記基材上に設ける、微細凹凸構造体の製造方法。
【請求項１】
露出面に微細凹凸構造が形成された表層を有する微細凹凸構造体において、
人工指紋液を付着させて２４時間経過後における前記露出面の反射率と、前記人工指紋液を付着させる前の前記露出面の反射率との差が１．０％以下である微細凹凸構造体。
【請求項２】
前記表層は、重合性官能基を３つ以上有し、１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物である、請求項１に記載の微細凹凸構造体。
【請求項３】
前記露出面における水に対する接触角は４５°以下である、請求項１又は２に記載の微細凹凸構造体。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、０．４４モル／１００ｇ以上の重合性官能基を有する、請求項２に記載の微細凹凸構造体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の微細凹凸構造体を備えたディスプレイ。
【請求項６】
微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に、重合性官能基を３つ以上有し１分子中の重合性官能基数で分子量を除した値が１３５〜２５０であるモノマー（Ａ）６０〜８３質量％、ならびにポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート及びポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種のモノマー（Ｂ）１７〜４０質量％（ただし、モノマー（Ａ）とモノマー（Ｂ）との合計を１００質量％とする）を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を配し、該活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化した後、前記スタンパを剥離し、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり微細凹凸構造が形成された表層を前記基材上に設ける、微細凹凸構造体の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１３−９７３０６（Ｐ２０１３−９７３０６Ａ）
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２４２３２８（Ｐ２０１１−２４２３２８）
【出願日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【出願人】（０００００６０３５）三菱レイヨン株式会社 (2,875)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１１月４日（２０１１．１１．４）
【出願人】（０００００６０３５）三菱レイヨン株式会社 (2,875)
【Ｆターム（参考）】
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