金属錯体ならびにそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法およびα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法
【課題】分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体等の製造用の高活性触媒成分およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表される金属錯体、およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法。
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、炭素数１〜２０の炭化水素基等を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０の炭化水素基等を表し、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２、Ｒ１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜３０の炭化水素基等を表す。］
【解決手段】下記一般式（Ａ）で表される金属錯体、およびそれを用いたα−オレフィン重合体等の製造方法。
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、炭素数１〜２０の炭化水素基等を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０の炭化水素基等を表し、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２、Ｒ１３は、それぞれ独立に、炭素数１〜３０の炭化水素基等を表す。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−オレフィンの重合体、α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体の製造に有用な反応生成物及び金属錯体ならびにそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法およびα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エチレンと極性基含有ビニルモノマーである酢酸ビニルや（メタ）アクリル酸エステルとを高温高圧のラジカル重合で共重合する方法はよく知られている。しかしながら、この方法では、多数の分岐生成により結晶性の低い共重合体となるため、得られた共重合体の強度が低いという欠点がある。
また、Ｂｒｏｏｋｈａｒｔらは、α−ジイミン配位子を用いたパラジウム錯体を触媒として、エチレンとアクリル酸エステルの共重合体が製造できることを報告している。
しかしながら、得られた共重合体は、分岐構造に富むものであり、分岐は、メチル基、エチル基をはじめ、種々の炭素数であって、かつ、分岐の数も非常に多く、結果として、得られた共重合体は、結晶性の低いものであった（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００３】
リンと酸素を配位原子として有するリガンドを用いたニッケル触媒で、いわゆるＳＨＯＰ系触媒と呼ばれる触媒を用いると、極性溶媒中でエチレン重合が可能であり、分岐の少ない直鎖状重合体が得られることが知られている。ＳＨＯＰ系触媒のこうした極性基耐性に期待し、ＳＨＯＰ系触媒を用いたエチレンと極性モノマーの共重合が試みられている。
しかしながら、エチレンとの共重合が進行するのは、極性モノマー中の極性基がオレフィンから離れている場合に限られることが報告されており、極性基がオレフィンに直接結合している（メタ）アクリル酸エステルとα−オレフィンとの共重合例は、報告されていない（例えば、非特許文献２および特許文献１参照。）。
なお、例外的に、Ｇｉｂｓｏｎらは、ＳＨＯＰ系のニッケル錯体を用いて、エチレンとメタクリル酸メチルの共重合を行っているが（例えば、非特許文献８参照。）、触媒構成成分として、ビスシクロオクタジエンニッケル（Ｎｉ（ＣＯＤ）２）がフォスフィンスカベンジャーとして必要であり、かつ、メタクリル酸メチルは、重合体の末端のみに存在し、末端以外の主鎖中には取り込まれていない。
【０００４】
一方、同様のＳＨＯＰ系のニッケル（０価）キレート錯体とアルミノキサンの組み合わせからなる触媒で、エチレンと不飽和カルボン酸エステルの共重合を行う方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。該特許文献２の実施例においては、エチレンとアクリル酸メチルの共重合例が記載されているが、非晶性重合体が副生するため、該非晶性重合体をアセトン抽出にて、除去する必要があった。また、得られた共重合体については、アクリル酸メチル含量に関する記載があるのみで、その他、構造に関する記載はない。
また、Ｐｕｇｈら（例えば、非特許文献５参照。）、野崎ら（例えば、非特許文献６参照。）、Ｇｏｏｄａｌｌら（例えば、特許文献３参照。）は、ホスフィノスルホン酸配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いることにより、エチレンとアクリル酸メチルの共重合体が得られることを報告している。
しかしながら、これらの公知文献で用いられている触媒は、希少な資源であり、かつ、高価なパラジウムを用いているため、工業的な応用には問題が大きい。
【０００５】
上述のように、オレフィンとアクリル酸エステルを共重合する有用な遷移金属触媒技術の開発が求められているが、一般に、シングルサイト触媒でオレフィンを重合する場合、従来のチーグラーナッタ触媒に比較して、分子量が上がりにくい傾向がある。
このため、オレフィン重合体やオレフィン・アクリル酸エステル共重合体の分子量を向上させ、また、活性も比較的高い触媒に係る技術についても、開発が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第４，６９８，４０３号明細書
【特許文献２】特開昭６４−１４２１７号公報
【特許文献３】米国特許出願公開第２００７／００４９７１２号明細書
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｓ．Ｍｅｃｋｉｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９８，１２０，８８８．
【非特許文献２】Ｓ．Ｄ．Ｉｔｔｅｌ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，２０００，１００，１１６９．
【非特許文献３】Ｐ．Ｂｒａｕｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，１９８９，３６７，１１７．
【非特許文献４】Ｓ．Ｅ．Ｂａｕａｏｕｄ ｅｔ ａｌ．，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８６，２５，３７６５．
【非特許文献５】Ｅ．Ｄｒｅｎｔ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２００２，７４４．
【非特許文献６】Ｔ．Ｋｏｃｈｉ ｅｔ ａｌ．，Ｄａｌｔｏｎ Ｔｒａｎｓ．，２００６，２５．
【非特許文献７】Ｕ．Ｋｌａｂｕｎｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．：Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，１９８７，２５，１９８９．
【非特許文献８】Ｖ．Ｃ．Ｇｉｂｓｏｎ，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２００１，１９６４．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点に鑑み、分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体またはα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体、特に分子量の比較的高い重合体の製造用の高活性触媒成分およびそれを用いたα−オレフィン重合体またはα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、上記課題を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、アリール基を母核とするリガンドであって、該アリール基に結合したリン、砒素またはアンチモン（本発明ではＥ１と記載）上の２個の置換基Ｒ４、Ｒ５の少なくとも一方がヘテロ原子含有基を２個以上含有するアリール基であり、かつ、Ｒ４とＲ５が非等価であるような特定の構造を有する遷移金属錯体を触媒成分に用いて、α−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合を行うと、格段に高い重合活性で分子量の高い重合体を得ることができることを見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の第１の発明によれば、下記一般式（Ａ）で表される金属錯体が提供される。
【００１１】
【化１】
【００１２】
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基を表し、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウムを表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２またはＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環または酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【００１３】
また、本発明の第２の発明によれば、第１の発明において、一般式（Ａ）中、Ｒ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表すことを特徴とする金属錯体が提供される。
さらに、本発明の第３の発明によれば、第１又は２の発明において、一般式（Ａ）中、Ｒ４及びＲ５は、いずれもヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基であることを特徴とする金属錯体が提供される。
【００１４】
また、本発明の第４の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明において、一般式（Ａ）中、Ｍは、ニッケル、パラジウム、白金、コバルトまたはロジウムであることを特徴とする金属錯体が提供される。
さらに、本発明の第５の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明において、一般式（Ａ）中、Ｍは、周期律表第１０族に属する遷移金属であることを特徴とする金属錯体が提供される。
【００１５】
一方、本発明の第６の発明によれば、下記一般式（Ｂ）又は（Ｃ）で表される化合物と、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを接触させることにより得られることを特徴とする第１〜３のいずれかの発明に係る金属錯体の製造方法が提供される。
【００１６】
【化２】
【００１７】
［式（Ｂ）又は（Ｃ）中、Ｚは、水素原子または脱離基を表し、ｍは、Ｚの価数を表す。Ｘ１、Ｅ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、第１の発明に前記した通りである。］
【００１８】
また、本発明の第７の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明に係る金属錯体の存在下、α−オレフィンを重合することを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法が提供される。
さらに、本発明の第８の発明によれば、第７の発明において、有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法が提供される。
【００１９】
また、本発明の第９の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明に係る金属錯体の存在下、α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合することを特徴とするα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法が提供される。
さらに、本発明の第１０の発明によれば、第９の発明において、有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とするα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の金属錯体を重合用触媒として用いることにより、工業的に容易に、（メタ）アクリル酸エステルとα−オレフィンとの共重合体が製造可能となり、かつ、得られた共重合体の分子量も高い。共重合体だけでなく、α−オレフィン重合体においても、高い分子量の重合体が得られる。一般にポリマーの物性において分子量は、支配的要因の一つであり、分子量を上げることによって、ポリマー鎖間の相互作用が強まるため、本発明で得られた重合体や共重合体は、機械的・熱的物性に優れ、有用な成形体として応用可能である。さらに、本発明においては、希少かつ高価なパラジウムの代わりに、ニッケルを金属中心とした触媒を使用することができる。このように、本発明は、かかるα−オレフィン重合体やα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造法を提供するものであり、工業的な観点から、非常に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明は、一般式（Ｂ）又は（Ｃ）で表される化合物と、ニッケル、パラジウム、コバルト、銅またはロジウム等の周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを接触させることにより得られる反応生成物、すなわち、一般式（Ａ）で表される金属錯体（以下、金属錯体（Ａ）と称することもある。）、並びにそれを触媒成分とし、その触媒成分の存在下に行うα−オレフィンの重合体の製造方法およびα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合するα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法である。
以下、重合体の構成モノマー、触媒成分、製造方法等について詳細に説明する。
なお、以下の説明において、「重合」という用語は、１種類のモノマーの単独重合と複数種のモノマーの共重合を総称するものであり、特に両者を区別する必要がない場合には、総称して単に「重合」と記載する。
【００２２】
１．重合体の構成モノマー
（ａ）α−オレフィン
本発明における成分（ａ）は、一般式：ＣＨ２＝ＣＨＲ７で表されるα−オレフィンである。ここで、Ｒ７は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり、分岐、環、および／または不飽和結合を有していてもよい。Ｒ７の炭素数が２０より大きいと、十分な重合活性が発現しない傾向がある。このため、なかでも、好ましい（ａ）成分としては、Ｒ７が水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基であるα−オレフィンが挙げられる。
さらに好ましい（ａ）成分としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、３−メチル−１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキセン、スチレンが挙げられる。なお、単独の（ａ）成分を使用してもよいし、複数の（ａ）成分を併用してもよい。
【００２３】
（ｂ）（メタ）アクリル酸エステル
本発明における成分（ｂ）は、一般式：ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ８）ＣＯ２（Ｒ９）で表される（メタ）アクリル酸エステルである。ここで、Ｒ８は、水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基であり、分岐、環、および／または不飽和結合を有していてもよい。Ｒ９は、炭素数１〜３０の炭化水素基であり、分岐、環、および／または不飽和結合を有していてもよい。さらに、Ｒ９内の任意の位置にヘテロ原子を含有していてもよい。
Ｒ８の炭素数が１１以上であると、十分な重合活性が発現しない傾向がある。したがって、Ｒ８は、水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基であるが、好ましい（ｂ）成分としては、Ｒ８が水素原子または炭素数１〜５の炭化水素基である（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。より好ましい（ｂ）成分としては、Ｒ８がメチル基であるメタクリル酸エステルまたはＲ８が水素原子であるアクリル酸エステルが挙げられる。同様に、Ｒ９の炭素数が３０を超えると、重合活性が低下する傾向がある。よって、Ｒ９の炭素数は１〜３０であるが、Ｒ９は、好ましくは炭素数１〜１２であり、さらに好ましくは炭素数１〜８である。
また、Ｒ９内に含まれていても良いヘテロ原子としては、酸素、硫黄、セレン、リン、窒素、ケイ素、フッ素、ホウ素等が挙げられる。これらのヘテロ原子のうち、酸素、ケイ素、フッ素が好ましく、酸素が更に好ましい。また、Ｒ９は、ヘテロ原子を含まないものも好ましい。
【００２４】
さらに好ましい（ｂ）成分としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸トルイル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸−２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸エチレンオキサイド、（メタ）アクリル酸トリフルオロメチル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチルエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロエチル、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルジメチルアミド、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル等が挙げられる。なお、単独の（ｂ）成分を使用してもよいし、複数の（ｂ）成分を併用してもよい。
【００２５】
２．金属錯体
本発明の反応生成物、すなわち金属錯体は、下記一般式（Ａ）で表される。
【００２６】
【化３】
【００２７】
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基を表し、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウムを表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２またはＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環または酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【００２８】
本発明において、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属であるが、好ましくは、１０族のニッケル、パラジウム、白金、９族のコバルト、ロジウムおよび１１族の銅であり、さらに好ましくは、１０族のニッケル、パラジウム、白金であり、最も好ましくは、１０族のニッケルまたはパラジウムである。
Ｍの価数については、２価が好ましい。ここでＭの価数とは、有機金属化学で用いられる形式酸化数（ｆｏｒｍａｌ ｏｘｉｄａｔｉｏｎ ｎｕｍｂｅｒ）を意味する。すなわち、ある元素が関与する結合中の電子対を電気陰性度の大きい元素に割り当てたとき、その元素の原子上に残る電荷の数を指す。例えば、本発明の一般式（Ａ）において、Ｅ１がリン、Ｘ１が酸素、Ｍがニッケル、Ｒ３がフェニル基、Ｌ１がピリジンであり、ニッケルがリン、酸素、フェニル基の炭素、ピリジンの窒素と結合を形成している場合、ニッケルの形式酸化数、すなわちニッケルの価数は２価となる。なぜならば、上述の定義に基づき、これらの結合において、電子対は、ニッケルよりも電気陰性度の大きいリン、酸素、炭素、窒素に割り当てられ、電荷は、リンが０、酸素が−１、フェニル基が−１、ピリジンが０で、錯体は、全体として電気的に中性であるため、ニッケル上に残る電荷は＋２となるからである。
２価の遷移金属としては、例えば、ニッケル（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）、白金（ＩＩ）、コバルト（ＩＩ）が好ましく、２価以外では、銅（Ｉ）またはロジウム（ＩＩＩ）も好ましい。
【００２９】
本発明においてＲ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。本発明における重合または共重合反応は、ＭとＲ３の結合に本発明における（ａ）成分または（ｂ）成分が挿入することによって、開始されると考えられる。したがって、Ｒ３の炭素数が過度に多いと、この開始反応が阻害される傾向にある。このため、好ましいＲ３としては、炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１０である。
Ｒ３の具体的な例としては、ヒドリド基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等を挙げることができる。
【００３０】
本発明において、Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。本発明におけるリガンドＬ１は、配位結合可能な原子として、酸素、窒素、硫黄を有する炭素数１〜２０の炭化水素化合物である。また、Ｌ１として、遷移金属に配位可能な炭素−炭素不飽和結合を有する炭化水素化合物（ヘテロ原子を含有していてもよい）も使用することができる。好ましくは、Ｌ１の炭素数は、１〜１６であり、さらに好ましくは１〜１０である。また一般式（Ａ）中のＭと配位結合するＬ１としては、電荷を持たない化合物が好ましい。
Ｌ１は、Ｍと配位結合を形成するが、本発明においては、（ａ）成分の重合や（ａ）成分と（ｂ）成分の共重合を進行させるために、Ｌ１をＭから取り除く化合物（スカベンジャー）を使用する必要がない。
【００３１】
なお、いわゆるＳＨＯＰ系金属錯体においては、本発明におけるＬ１の代わりに、フォスフィン、たとえば、トリメチルフォスフィンやトリフェニルフォスフィンを用いても、本発明と類似の錯体を合成することができる。しかしながら、こうしたリガンドを用いた場合には、該リガンドをＭから取り除くスカベンジャーを併用することが、オレフィンの重合能発現のために必須であることが知られている（例えば、前記非特許文献７参照。）。このような目的のために用いられるスカベンジャーとしては、Ｎｉ（ＣＯＤ）２（ＣＯＤ：シクロオクタジエン）、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３、アルミノキサン類、ロジウム錯体などが知られている。
【００３２】
本発明における好ましいＬ１としては、ピリジン類、ピペリジン類、アルキルエーテル類、アリールエーテル類、アルキルアリールエーテル類、環状エーテル類、アルキルニトリル誘導体、アリールニトリル誘導体、アルコール類、アミド類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、アミン類、環状不飽和炭化水素類などを挙げることができる。さらに好ましいＬ１としては、ピリジン類、環状エーテル類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、環状オレフィン類が挙げられ、特に好ましいＬ１として、ピリジン、ルチジン（ジメチルピリジン）、ピコリン（メチルピリジン）、Ｒ１ＣＯ２Ｒ２（Ｒ１およびＲ２の定義は、前記の通り）を挙げることができる。
【００３３】
なお、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。そのような例として、シクロオクタ−１−エニル基を挙げることができ、これも本発明における好ましい様態である。
【００３４】
本発明において、Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。これらのうち、酸素が好ましい。また、本発明において、Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。これらのうち、リンが好ましい。
【００３５】
本発明において、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４とＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ４とＲ５は、金属Ｍの近傍にあって、立体的および／または電子的に、Ｍに相互作用を及ぼす。こうした効果を及ぼすためには、Ｒ４とＲ５は、かさ高い方が好ましい。Ｒ４、Ｒ５の好ましい炭素数は、６〜４０、さらに好ましくは８〜４０である。
Ｒ４、Ｒ５において、ヘテロ原子含有基中に含まれるヘテロ原子としては、酸素、窒素、リン、硫黄、セレン、ケイ素、フッ素、ホウ素が挙げられる。これらのヘテロ原子のうち、酸素、硫黄、窒素、リン、ケイ素が好ましい。また、これらのヘテロ原子を含むヘテロ原子含有基としては、酸素含有基として、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アロイル基、カルボキシレート基が挙げられ、窒素含有基としては、アミノ基、イミノ基、アミド基が挙げられ、硫黄含有基としては、チオアルコキシ基やチオアリーロキシが挙げられ、リン含有置換基としては、フォスファノ基が挙げられ、ケイ素含有基としては、トリアルキルシリル基、ジアルキルアリールシリル基、アルキルジアリールシリル基が挙げられる。これらのヘテロ原子含有基のうち、もっとも好ましいのは、アミノ基、アルコキシ基、またはアリーロキシ基である。
【００３６】
前記したヘテロ原子含有基としては、電子供与性で、かつ遷移金属に配位可能なものが好ましい。こうしたヘテロ原子含有基の具体的な例としては、以下のようなものが挙げられる。
すなわち、酸素含有基として、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、アセトキシ基、エチルカルボキシレート基、ｔ−ブチルカルボキシレート基、フェニルカルボキシレート基などを挙げることができる。また、窒素含有基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基などを挙げることができる。また、硫黄含有基としては、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオ−ｎ−プロポキシ基、チオイソプロポキシ基、チオ−ｎ−ブトキシ基、チオ−ｔ−ブトキシ基、チオフェノキシ基、ｐ−メチルチオフェノキシ基、ｐ−メトキシチオフェノキシ基などを挙げることができる。さらに、リン含有置換基としては、ジメチルフォスフィノ基、ジエチルフォスフィノ基、ジ−ｎ−プロピルフォスフィノ基、シクロヘキシルフォスフィノ基などを挙げることができる。
【００３７】
Ｒ４，Ｒ５においては、少なくともＲ４またはＲ５のいずれか一方が２個以上のヘテロ原子含有基を有していればよいが、Ｒ４およびＲ５が共に２個以上のヘテロ原子含有基を含有しているものが特に好ましい。
【００３８】
本発明において、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であるが、より具体的には、ヘテロ原子を含有していてもよい分岐鎖状炭化水素基、ヘテロ原子を含有していてもよい脂肪環式炭化水素基、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基が挙げられる。前記したように、Ｒ４およびＲ５は、かさ高い方が好ましい。したがって、これらのうち、ヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、または、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基が好ましく、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基がもっとも好ましい。こうしたアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスラセニル基などを挙げることができる。
【００３９】
本発明のＲ４およびＲ５において、これらアリール基の芳香族骨格に前記したヘテロ原子含有基が結合する場合、結合様式としては、ヘテロ原子含有基が芳香族骨格に直接結合してもよいし、メチレン基のようなスペーサーを介して、芳香族骨格に結合してもよい。なお、メチレン基を介してヘテロ原子含有基が芳香族骨格に結合する場合、メチレン基の数は、１個が好ましい。また、置換位置としては、Ｒ４およびＲ５中の芳香族骨格のうち、Ｅ１に結合した炭素に対してオルト位が好ましい。このようにすることによって、Ｒ４およびＲ５中のヘテロ原子がＭと相互作用を持つように空間的配置をとることができる。
【００４０】
好ましいＲ４およびＲ５の具体的な例示として、２，６−ジメトキシフェニル基、２，４，６−トリメトキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジメトキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジメトキシフェニル基、１，３−ジメトキシ−２−ナフチル基、２，６−ジエトキシフェニル基、２，４，６−トリエトキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジエトキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジエトキシフェニル基、１，３−ジエトキシ−２−ナフチル基、２，６−ジフェノキシフェニル基、２，４，６−トリフェノキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジフェノキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジフェノキシフェニル基、１，３−ジフェノキシ−２−ナフチル基、２，６−ジメトキシメチルフェニル基、２，４，６−トリメトキシメチルフェニル基、４−メチル−２，６−ジメトキシメチルフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジメトキシメチルフェニル基、１，３−ジメトキシメチル−２−ナフチル基、２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、２，４，６−トリフェノキシメチルフェニル基、４−メチル−２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、１，３−ジフェノキシメチル−２−ナフチル基、２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、２，４，６−トリ（２−メトキシエチル）フェニル基、４−メチル−２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、１，３−ジ（２−メトキエチル）−２−ナフチル基、２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、２，４，６−トリ（２−フェノキシエチル）フェニル基、４−メチル−２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、１，３−ジ（２−フェノキシエチル）−２−ナフチル基、２−メトキシ−６−フェノキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２−メトキシ−６−フェノキシフェニル基、１−メトキシ−３−フェノキシ−２−ナフチル基、３−メトキシ−１−フェノキシ−２−ナフチル基、２−エトキシ−６−フェノキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２−エトキシ−６−フェノキシフェニル基、１−エトキシ−３−フェノキシ−２−ナフチル基、３−エトキシ−１−フェノキシ−２−ナフチル基などを挙げることができる。
【００４１】
本発明において、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２，ＣＯ２Ｍ’，Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２，ＳＯ２Ｒ２，ＳＯＲ２，ＣＮ，ＮＯ２，ＳＯ３Ｍ’，ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を示す。Ｒ１３は、金属Ｍの近傍にあって、立体的および／または電子的に、Ｍに相互作用を及ぼす。こうした効果を及ぼすためには、Ｒ１３は、かさ高い方が好ましい。Ｒ１３の好ましい炭素数は、３〜３０である。かつ、Ｒ１３は、母核であるアリール基に対して、電子求引性の置換基であることが好ましい。
【００４２】
Ｒ１３の例を具体的に挙げると、ハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素、沃素を挙げることができ、ヘテロ原子含有炭化水素基として、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロフェニル基、パーフルオロナフチル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シアノフェニル基、アンスラセニル基、ピリジル基、ピロリル基、カルバゾリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、あるいはそれらの異性体などを挙げることができる。これらのうち、特に好ましいＲ１３として、パーフルオロイソプロピル基、パーフルオロ−ｔ−ブチル基、パーフルオロフェニル基、９−カルバゾリル基が挙げられる。
前記したように、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１３は、いずれも、かさ高い方が好ましいが、その全てが同時に過度にかさ高くなると、錯体の安定性やモノマーの反応性に不利益となるおそれがある。Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１３の組み合わせにおいて、特に好ましいものを表１に示す。
【００４３】
【表１−１】
【表１−２】
【００４４】
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２については、前記した通りであるが、これらのうち、Ｒ１１については、母核であるアリール基に対して電子求引性の置換基である方が、高活性の重合触媒を与える傾向にあり、好ましい。Ｒ１１の例を具体的に挙げると、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基であり、ハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素、沃素、ヘテロ原子含有炭化水素基として、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロフェニル基、パーフルオロナフチル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シアノフェニル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、あるいはそれらの異性体、などを挙げることができる。
これらのうち、特に好ましいＲ１１として、フッ素、パーフルオロメチル基、パーフルオロフェニル基、ＣＮが挙げられる。
【００４５】
以下、本発明の金属錯体（Ａ）を下記に例示するが、下記例示に限定されるものではない。なお、下記例示において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、ｉＰｒはイソプロピル基を、ｔＢｕはターシャリーブチル基を、Ｃｙはシクロヘキシル基を、Ｐｈはフェニル基を示す。
【００４６】
【化４】
【００４７】
なお、リガンドの構造や錯体形成条件によっては、一般式（Ａ）で示した錯体の立体異性体が形成されることもある。さらに、Ｍが４以外の配位数をとることも、ありうる。これも一種の異性体である。本発明の錯体は、こうした異性体であってもよく、また、こうした異性体の混合物であってもよい。以下、Ｍが配位数５をとる場合について、一例を示した。
【００４８】
【化５】
【００４９】
３．金属錯体の製造方法
本発明の錯体は、下記一般式（Ｂ）および／または（Ｃ）で表される化合物と、９族、１０族または１１族の遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを、接触させることにより得ることができる。
【００５０】
【化６】
【００５１】
［式（Ｂ）又は（Ｃ）中、Ｚは、水素原子または脱離基を表し、ｍは、Ｚの価数を表す。Ｘ１、Ｅ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、前記した通りである。］
【００５２】
Ｚは、水素原子または脱離基であるが、具体的には、水素原子、Ｒ１ＳＯ２基（ここでＲ１は、前記したとおりである）、ＣＦ３ＳＯ２基などを挙げることができる。
【００５３】
一般式（Ｃ）は、アニオンの形で表されているが、そのカウンターカチオンは、本発明の遷移金属錯体（Ｄ）との反応を阻害しない限りにおいて、任意のものを用いることができる。
カウンターカチオンとしては、具体的には、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウム、周期律表１族〜１４族の金属イオンを挙げることができる。これらのうち好ましくは、ＮＨ４＋、Ｒ１４Ｎ＋（ここでＲ１は、前記したとおりであり、４つのＲ１は、同じでも異なっていてもよい）、Ｒ１４Ｐ＋（ここでＲ１は、前記したとおりであり、４つのＲ１は、同じでも異なっていてもよい）、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ａｌ３＋であり、さらに好ましくは、Ｒ１４Ｎ＋（ここでＲ１は、前記したとおりであり、４つのＲ１は、同じでも異なっていてもよい）、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋である。
【００５４】
一般式（Ｂ）、（Ｃ）で示される物質については、公知の合成法に基づいて合成することができる。一般式（Ａ）で表される金属錯体は、前記一般式（Ｂ）または（Ｃ）で表される化合物と、本発明に係る金属Ｍを含む遷移金属錯体成分（Ｄ）との反応生成物に含まれる。
【００５５】
本発明で用いられる遷移金属錯体成分（Ｄ）については、一般式（Ｂ）または（Ｃ）で示される化合物と反応して、重合能を有する錯体を形成可能なものが使用される。これらは、プリカーサー（前駆体）とも呼ばれることがある。
例えば、ニッケルを含む遷移金属錯体（Ｄ）としては、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、一般式：（ＣＨ２ＣＲ１ＣＨ２）２Ｎｉで表される錯体（ここでＲ１は、前記した通りである。）、ビス（シクロペンタジエニル）ニッケル（ＩＩ）、一般式：Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＲ１３）２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）、一般式：ＮｉＲ１２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）等を使用することができる。
【００５６】
また、９族、１０族または１１族の遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）については、一般式：ＭＲ１ｐＬ１ｑ（ここで、Ｍは、９族、１０族または１１族の遷移金属であり、Ｒ１およびＬ１は、本明細書に記載した通りであり、ｐおよびｑは、Ｍの価数を満たす０以上の整数である。）を使用することができる。
【００５７】
これらの遷移金属のうち、好ましく用いられるものは、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、一般式：（ＣＨ２ＣＲ１ＣＨ２）２Ｎｉで表される錯体（ここでＲ１は、本明細書に記載した通りである。）、一般式：Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＲ１３）２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）、一般式：ＮｉＲ１２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）、Ｐｄ（ｄｂａ）２、Ｐｄ２（ｄｂａ）３、Ｐｄ３（ｄｂａ）４（ここで、ｄｂａは、ジベンジリデンアセトンを表す。）、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｄ（メチル）（クロリド）である。
特に好ましくは、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、（ＣＨ２ＣＨＣＨ２）２Ｎｉ、（ＣＨ２ＣＭｅＣＨ２）２Ｎｉ、Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＭｅ３）２（Ｐｙ）２（以下Ｐｙは、ピリジンを表す。）、Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＭｅ３）２（Ｌｕｔ）２（以下Ｌｕｔは、２，６−ルチジンを表す。）、ＮｉＰｈ２（Ｐｙ）２、Ｎｉ（Ｐｈ）２（Ｌｕｔ）２，Ｐｄ（ｄｂａ）２、Ｐｄ２（ｄｂａ）３、Ｐｄ３（ｄｂａ）４（ここで、ｄｂａは、ジベンジリデンアセトンを表す。）、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｄ（メチル）（クロリド）である。
【００５８】
本発明の反応生成物は、前述の一般式（Ｂ）または（Ｃ）で表される化合物と前述の遷移金属錯体（Ｄ）とを、例えば（Ｂ）＋（Ｃ）：（Ｄ）＝１：９９〜９９：１（モル比）を、０〜１００℃のトルエン等の有機溶媒中で、減圧〜加圧下で１〜８６４００秒間接触させることにより、得ることができる。（Ｄ）として、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）（Ｎｉ（ＣＯＤ）２）のトルエン溶液を用いる場合には、溶液の色が黄色から、例えば赤色に変化することにより、反応生成物の生成が確認できる。
【００５９】
本反応後、（Ｄ）を構成している成分であって、（Ｄ）の遷移金属以外の成分は、（Ｂ）成分のＺを除いた部分や（Ｃ）成分によって置換されて、本発明の一般式（Ａ）で表される金属錯体が生成する。この置換反応は、定量的に進行するほうが好ましいが、場合によっては完全に進行しなくてもよい。反応終了後、一般式（Ａ）で表される錯体以外に、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）由来の他の成分が共存するが、本発明の重合反応または共重合反応を行う際に、これらの他の成分は、除去してもよいし、除去しなくてもよい。一般的には、これらの他の成分は、除去した方が、高活性が得られるので好ましい。
なお、反応を行う際に、本発明に係るＬ１を共存させてもよい。本発明に係るＭとして、ニッケルやパラジウムを用いた場合には、ルイス塩基性のＬ１を系内に共存させることによって、精製した錯体（Ａ）の安定性が増す場合があり、このような場合には、Ｌ１が本発明の重合反応または共重合反応を阻害しない限りにおいて、Ｌ１を共存させることが好ましい。
【００６０】
本発明において、反応をα−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に使用する反応器とは別の容器で、予め行ったうえで、得られた錯体（Ａ）をα−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に供してもよいし、反応をこれらのモノマーの存在下に行ってもよい。また、反応を、α−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に使用する反応器の中で行ってもよい。この際に、これらのモノマーは、存在していてもよいし、存在していなくてもよい。また、一般式（Ｂ）〜（Ｃ）で示される成分については、それぞれ単独の成分を用いてもよいし、それぞれ複数種の成分を併用してもよい。特に、分子量分布やコモノマー含量分布を広げる目的には、こうした複数種の併用が有用である。
【００６１】
以下、本発明で使用可能な（Ｂ）を例示するが、下記例示に限定されるものではない。なお、下記例示において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、ｉＰｒはイソプロピル基を、Ｐｈはフェニル基を、Ｃｙはシクロヘキシル基を、ｔＢｕはターシャリーブチル基を示す。
【００６２】
【化７】
【００６３】
４．重合反応
本発明において、一般式（Ａ）で表される金属錯体を、重合または共重合の触媒成分として使用することができる。前記したように、一般式（Ａ）で表される金属錯体は、一般式（Ｂ）または（Ｃ）と遷移金属錯体成分（Ｄ）との反応によって、形成させることができる。一般式（Ａ）で表される金属錯体を触媒成分に用いる場合、単離したものを用いてもよいし、担体に担持したものを用いてもよい。こうした担持をα−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に使用する反応器中で、これらのモノマーの存在下または非存在下で行ってもよいし、該反応器とは別の容器中で行ってもよい。
【００６４】
使用可能な担体としては、本発明の主旨をそこなわない限りにおいて、任意の担体を用いることができる。一般に、無機酸化物やポリマー担体が好適に使用できる。具体的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ２等またはこれらの混合物が挙げられ、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、ＳｉＯ２−ＭｇＯ、ＳｉＯ２−Ｃｒ２Ｏ３等の混合酸化物も使用することができ、無機ケイ酸塩、ポリエチレン担体、ポリプロピレン担体、ポリスチレン担体、ポリアクリル酸担体、ポリメタクリル酸担体、ポリアクリル酸エステル担体、ポリエステル担体、ポリアミド担体、ポリイミド担体などが使用可能である。これらの担体については、粒径、粒径分布、細孔容積、比表面積などに特に制限はなく、任意のものが使用可能である。
【００６５】
無機ケイ酸塩としては、粘土、粘土鉱物、ゼオライト、珪藻土等が使用可能である。これらは、合成品を用いてもよいし、天然に産出する鉱物を用いてもよい。粘土、粘土鉱物の具体例としては、アロフェン等のアロフェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイト等のカオリン族、メタハロイサイト、ハロイサイト等のハロイサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石等の雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオライト、パイゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョクデイ石群等が挙げられる。これらは混合層を形成していてもよい。人工合成物としては、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライト等が挙げられる。
これら具体例のうち好ましくは、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイト等のカオリン族、メタハロサイト、ハロサイト等のハロサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ソーコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石等の雲母鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられ、特に好ましくはモンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられる。
【００６６】
これらの担体は、そのまま用いてもよいが、塩酸、硝酸、硫酸等による酸処理および／または、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、ＣａＣｌ２、ＭｇＣｌ２、Ｌｉ２ＳＯ４、ＭｇＳＯ４、ＺｎＳＯ４、Ｔｉ（ＳＯ４）２、Ｚｒ（ＳＯ４）２、Ａｌ２（ＳＯ４）３等の塩類処理を行ってもよい。該処理において、対応する酸と塩基を混合して反応系内で塩を生成させて処理を行ってもよい。また、粉砕や造粒等の形状制御や乾燥処理を行ってもよい。
【００６７】
本発明における重合反応は、プロパン、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素溶媒や液化α−オレフィン等の液体、また、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、安息香酸メチル、アセトン、メチルエチルケトン、ホルミアミド、アセトニトリル、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のような極性溶媒の存在下あるいは非存在下に行われる。また、ここで記載した液体化合物の混合物を溶媒として使用してもよい。さらに、イオン液体も、溶媒として使用可能である。なお、高い重合活性や高い分子量を得るうえでは、上述の炭化水素溶媒やイオン液体がより好ましい。
【００６８】
本発明では、公知の添加剤の存在下または非存在下で重合反応を行うことができる。添加剤としては、ラジカル重合を禁止する重合禁止剤や、生成共重合体を安定化する作用を有する添加剤が好ましい。例えば、キノン誘導体やヒンダードフェノール誘導体などが好ましい添加剤の例として挙げられる。
具体的には、モノメチルエーテルハイドロキノンや、２，６−ジ−ｔ−ブチル４−メチルフェノール（ＢＨＴ）、トリメチルアルミニウムとＢＨＴとの反応生成物、４価チタンのアルコキサイドとＢＨＴとの反応生成物などが使用可能である。
また、添加剤として、無機およびまたは有機フィラーを使用し、これらのフィラーの存在下で、重合を行っても良い。さらに、本発明に係るＬ１やイオン液体を添加剤として用いてもよい。
【００６９】
本発明における好ましい添加剤として、ルイス塩基が挙げられる。適切なルイス塩基を選択することにより、活性、分子量、アクリル酸エステルの共重合性を改良することができる。ルイス塩基の量としては、重合系内に存在する触媒成分中の遷移金属Ｍに対して、０．０００１当量〜１０００当量、好ましくは０．１当量〜１００当量、さらに好ましくは０．３当量〜３０当量である。ルイス塩基を重合系に添加する方法については、特に制限はなく、任意の手法を用いることができる。例えば、本発明の触媒成分と混合して添加してもよいし、モノマーと混合して添加してもよいし、触媒成分やモノマーとは独立に重合系に添加してもよい。また、複数のルイス塩基を併用してもよい。また、本発明に係るＬ１と同じルイス塩基を用いてもよいし、異なっていてもよい。
【００７０】
ルイス塩基としては、芳香族アミン類、脂肪族アミン類、アルキルエーテル類、アリールエーテル類、アルキルアリールエーテル類、環状エーテル類、アルキルニトリル類、アリールニトリル類、アルコール類、アミド類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、フォスフェート類、フォスファイト類、チオフェン類、チアンスレン類、チアゾール類、オキサゾール類、モルフォリン類、環状不飽和炭化水素類などを挙げることができる。
これらのうち、特に好ましいルイス塩基は、芳香族アミン類、脂肪族アミン類、環状エーテル類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類であり、なかでも好ましいルイス塩基は、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピペリジン誘導体、イミダゾール誘導体、アニリン誘導体、ピペリジン誘導体、トリアジン誘導体、ピロール誘導体、フラン誘導体である。
【００７１】
具体的なルイス塩基化合物としては、ピリジン、ペンタフルオロピリジン、２，６−ルチジン、２，４−ルチジン、３，５−ルチジン、ピリミジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、２，２′−ビピリジン、アニリン、ピペリジン、１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ピリジル）−ｓ−トリアジン、キノリン、８−メチルキノリン、フェナジン、１，１０−フェナンスロリン、Ｎ−メチルピロール、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−ウンデカ−７−エン、１，４−ジアザビシクロ−［２，２，２］−オクタン、トリエチルアミン、ベンゾニトリル、ピコリン、トリフェニルアミン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、４−メチルモルフォリン、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、フラン、２，５−ジメチルフラン、ジベンゾフラン、キサンテン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサン、ジベンゾチオフェン、チアンスレン、トリフェニルフォスフォニウムシクロペンタジエニド、トリフェニルフォスファイト、トリフェニルフォスフェート、トリピロリジノフォスフィン、トリス（ピロリジノ）ボランなどを挙げることができる。
【００７２】
本発明において、重合形式に特に制限はない。媒体中で少なくとも一部の生成重合体がスラリーとなるスラリー重合、液化したモノマー自身を媒体とするバルク重合、気化したモノマー中で行う気相重合、または、高温高圧で液化したモノマーに生成重合体の少なくとも一部が溶解する高圧イオン重合などが好ましく用いられる。また、バッチ重合、セミバッチ重合、連続重合のいずれの形式でもよい。また、リビング重合であってもよいし、連鎖移動を併発しながら重合を行ってもよい。さらに、いわゆるｃｈａｉｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ａｇｅｎｔ（ＣＳＡ）を併用し、ｃｈａｉｎ ｓｈｕｔｔｌｉｎｇや、ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｖｅ ｃｈａｉｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＣＣＴＰ）を行ってもよい。
【００７３】
未反応モノマーや媒体は、生成共重合体から分離し、リサイクルして使用してもよい。リサイクルの際、これらのモノマーや媒体は、精製して再使用してもよいし、精製せずに再使用してもよい。生成共重合体と未反応モノマーおよび媒体との分離には、従来公知の方法が使用できる。例えば、濾過、遠心分離、溶媒抽出、貧溶媒を使用した再沈などの方法が使用できる。
【００７４】
重合温度、重合圧力および重合時間に、特に制限はないが、通常は、以下の範囲から生産性やプロセスの能力を考慮して、最適な設定を行うことができる。すなわち、重合温度は、通常−２０℃〜２９０℃、好ましくは０℃〜２５０℃、共重合圧力は、０．１ＭＰａ〜３００ＭＰａ、好ましくは０．３ＭＰａ〜２００ＭＰａ、重合時間は、０．１分〜１０時間、好ましくは０．５分〜７時間、さらに好ましくは１分〜６時間の範囲から選ぶことができる。
【００７５】
本発明において、重合は、一般に不活性ガス雰囲気下で行われる。例えば、窒素、アルゴン、二酸化炭素雰囲気が使用でき、窒素雰囲気が好ましく使用される。なお、少量の酸素や空気の混入があってもよい。
重合反応器への触媒とモノマーの供給に関しても、特に制限はなく、目的に応じて、さまざまな供給法をとることができる。たとえばバッチ重合の場合、あらかじめ所定量のモノマーを重合反応器に供給しておき、そこに触媒を供給する手法をとることが可能である。この場合、追加のモノマーや追加の触媒を重合反応器に供給してもよい。また、連続重合の場合、所定量のモノマーと触媒を重合反応器に連続的に、または間歇的に供給し、重合反応を連続的に行う手法をとることができる。
【００７６】
共重合体の組成の制御に関しては、複数のモノマーを反応器に供給し、その供給比率を変えることによって制御する方法を一般に用いることができる。その他、触媒の構造の違いによるモノマー反応性比の違いを利用して共重合組成を制御する方法や、モノマー反応性比の重合温度依存性を利用して共重合組成を制御する方法が挙げられる。
【００７７】
重合体の分子量制御には、従来公知の方法を使用することができる。すなわち、重合温度を制御して分子量を制御する方法、モノマー濃度を制御して分子量を制御する方法、連鎖移動剤を使用して分子量を制御する方法、遷移金属錯体中のリガンド構造の制御により分子量を制御する等が挙げられる。連鎖移動剤を使用する場合には、従来公知の連鎖移動剤を用いることができる。例えば、水素、メタルアルキルなどを使用することができる。
また、（ｂ）成分自身が一種の連鎖移動剤となる場合には、（ｂ）成分の（ａ）成分に対する比率や、（ｂ）成分の濃度を制御することによっても、分子量調節が可能である。遷移金属錯体中のリガンド構造を制御して分子量調節を行う場合には、前記したＲ４中のヘテロ原子含有基の種類、数、配置を制御したり、金属Ｍのまわりに、かさ高い置換基を配置したり、前記したＲ１０〜Ｒ１３中にヘテロ原子を導入したりすることによって、一般に分子量が向上する傾向を利用することができる。なお、金属Ｍに対して、アリール基やヘテロ原子含有置換基などの電子供与性基が相互作用可能となるように電子供与性基を配置することが好ましい。こうした電子供与性基が金属Ｍと相互作用可能であるかどうかは、一般に、分子模型や分子軌道計算で電子供与性基と金属Ｍとの距離を測定することによって判断できる。
【００７８】
本発明の共重合体は、共重合体の極性基にもとづく効果により、良好な塗装性、印刷性、帯電防止性、無機フィラー分散性、他樹脂との接着性、他樹脂との相溶化能などが発現する。こうした性質を利用して、本発明の共重合体は、さまざまな用途に使用することができる。例えば、フィルム、シート、接着性樹脂、バインダー、相溶化剤、ワックスなどとして使用可能である。
【実施例】
【００７９】
以下の実施例および比較例において、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、実施例、比較例で用いた評価方法は、以下の通りである。また、接触生成物に用いるリガンドおよび比較例で用いる錯体の製造法を合成例に示す。
以下の合成例で、とくに断りのない限り、操作は精製窒素雰囲気下で行い、溶媒は脱水・脱酸素したものを用いた。
【００８０】
１．評価法
（１）Ｔｍ、Ｔｃ：
以下のＤＳＣ測定により求めた。
Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＰＹＲＩＳ Ｄｉａｍｏｎｄ ＤＳＣ示差走査熱量測定装置を使用して、試料（約５ｍｇ）を２１０℃で５分間融解後、１０℃／分の速度で−２０℃まで降温し、−２０℃で５分保持した後に、１０℃／分の速度で２１０℃まで昇温することにより融解曲線を得た。降温段階における主発熱ピークのピークトップ温度を結晶化温度Ｔｃとした。また、融解曲線を得るために行った最後の昇温段階における主吸熱ピークのピークトップ温度を融点Ｔｍとした。
【００８１】
（２）重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎおよび分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ：
以下のＧＰＣ測定により求めた。
はじめに、試料約２０（ｍｇ）をポリマーラボラトリー社製高温ＧＰＣ用前処理装置ＰＬ−ＳＰ２６０ＶＳ用のバイアル瓶に採取し、安定剤としてＢＨＴを含有するｏ−ジクロロベンゼン（ＢＨＴ濃度＝０．５ｇ／Ｌ）を加え、ポリマー濃度が０．１（重量％）になるように調整した。ポリマーを上記高温ＧＰＣ用前処理装置ＰＬ−ＳＰ２６０ＶＳ中で１３５℃に加熱して溶解させ、グラスフィルターにて濾過して試料を調製した。
なお、本発明におけるＧＰＣ測定において、グラスフィルターに捕捉されたポリマーはなかった。
次に、カラムとして、東ソー社製ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨ−ＨＴ（３０ｃｍ×４本）およびＲＩ検出器を装着したウォーターズ社製ＧＰＣＶ２０００を使用してＧＰＣ測定を行った。測定条件としては、試料溶液注入量：５２４．５（μｌ）、カラム温度：１３５℃、溶媒：ｏ−ジクロロベンゼン、流量：１．０（ｍｌ／ｍｉｎ）を採用した。分子量の算出は、以下のように行った。すなわち、標準試料として市販の単分散のポリスチレンを使用し、該ポリスチレン標準試料およびエチレン系重合体の粘度式から、保持時間と分子量に関する校正曲線を作成し、該校正曲線に基づいて分子量の算出を行った。
なお、粘度式としては、［η］＝Ｋ×Ｍαを使用し、ポリスチレンに対しては、Ｋ＝１．３８Ｅ−４、α＝０．７０を使用し、エチレン系重合体に対しては、Ｋ＝４．７７Ｅ−４、α＝０．７０を使用した。
【００８２】
２．リガンド合成
［合成例１］：（リガンドＢ−１１１の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１１を合成した。
【００８３】
【化８】
【００８４】
（ｉ）化合物１（５．２８ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（６０ｍＬ）にイソプロピルマグネシウムクロライド（１０ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。その後、三塩化リン（１．７ｍＬ，２５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温で２時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下にて除去した後、ＴＨＦ（５０ｍＬ）を加え、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（５．２６ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（８ｍＬ，２０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物４を含む溶液を得た。これに前段の化合物２のＴＨＦ溶液を−７８℃にて加え、室温にて３０分攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物６（２．７２ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液を０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（８ｍＬ，２０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を滴下し、室温にて２時間攪拌した。これに前段の化合物５の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加えて水槽を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、生成物７を得た（６．０ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）。
（ｉｖ）化合物７（２．８３ｇ，５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３０ｍＬ）に５０℃で溶解させ、０℃に冷却した後、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２ｍＬ，５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を滴下し、室温で２時間攪拌した。次に、ヘキサフルオロベンゼン（２．３ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥＡ＝１０：１）で精製し、化合物８（０．５ｇ，０．７ｍｍｏｌ）を得た。
（ｖ）化合物８（５．２ｇ，７．３ｍｍｏｌ）に１規定塩酸の酢酸エチル溶液（８０ｍＬ）を０℃にて加え、徐々に室温まで昇温した後、１．５時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、残渣を飽和重曹水溶液にて中和し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧乾燥すると化合物Ｂ−１１１が得られた（４．１ｇ，６．０ｍｍｏｌ）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．６０（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｍ，６Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９８（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｄｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，０．７６Ｈｚ，１Ｈ），６．６３（ｍ，５Ｈ），６．３９（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，３．０Ｈｚ，２Ｈ），３．５８（ｓ，６Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５９．１（ｓ）．
【００８５】
［合成例２］：（リガンドＢ−１１２の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１２を合成した。
【００８６】
【化９】
【００８７】
（ｉ）化合物１（１０ｇ，４０ｍｍｏｌ）、金属マグネシウム（１．１５ｇ，４８ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン数滴にＴＨＦ（９０ｍＬ）を加え、室温で２時間攪拌した。未反応の金属マグネシウムを濾過により除去し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（１０．５６ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍＬ）にイソプロピルマグネシウムクロライド（２０ｍＬ，４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。その後、三塩化リン（３．４ｍＬ，５０ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて２時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下に除去し、５０ｍＬのＴＨＦを新たに加え、化合物４の溶液とした。ここに、前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温で３０分間攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物６（５．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１６ｍＬ，４０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温で２時間攪拌した。これに前段の化合物５の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝３：１）にて精製し、化合物７（６．５ｇ，１３．７ｍｍｏｌ）を得た。
（ｉｖ）化合物７（６．５ｇ，１３．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解し、これに０℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（５．５ｍＬ，１３．７ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を滴下し、室温で２時間攪拌した。ここに−７８℃にてヘキサフルオロベンゼン（６．３ｇ，３４．２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝５０：１）にて精製し、化合物８（６．２ｇ，８．５ｍｍｏｌ）を得た。
（ｖ）化合物８（６．２ｇ，８．５ｍｍｏｌ）に１規定塩酸の酢酸エチル溶液（８０ｍＬ）を０℃にて加え、徐々に室温まで昇温しつつ、１．５時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、残渣を飽和重曹水溶液にて中和し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧下にて除去するとＢ−１１２（５．２ｇ，７．６ｍｍｏｌ）が得られた。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．６９（ｍ，１Ｈ），７．３２（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２０（ｍ，４Ｈ），７．１１（ｍ，２Ｈ），６．７８（ｄｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，５．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），６．５３（ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．８Ｈｚ，２Ｈ），３．６４（ｓ，６Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５１．４（ｓ）．
【００８８】
［合成例３］：（リガンドＢ−１１３の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１３を合成した。
【００８９】
【化１０】
【００９０】
（ｉ）金属マグネシウム（１ｇ，４０ｍｍｏｌ），１，２−ジブロモエタン（０．２ｍＬ），ＴＨＦ（５０ｍＬ）の混合物に、化合物１（７．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）を室温にて滴下し、室温にて３時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（５．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６ｍＬ，４０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌した。ここに三塩化リン（１７．４ｍＬ，２００ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて１時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下に除去し、残渣にＴＨＦ（１００ｍＬ）を加え、化合物４を含む溶液を得た。ここに前段の化合物２を含む溶液を−７８℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物６（１０．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（７０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１６ｍＬ，４０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温して２時間攪拌した。ここに前段の化合物５を含む溶液を−３０℃にて滴下し、室温にて終夜攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を減圧下にて濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝３０：１）にて精製し、化合物７（３．２ｇ，５．９ｍｍｏｌ）を得た。
（ｉｖ）化合物７（３．２ｇ，５．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４ｍＬ，６ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温にて２時間攪拌した。ここにヘキサフルフルオロベンゼンを０℃にて加え、室温にて５時間攪拌した。メタノールを加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝５０：１）にて精製し、化合物８を得た。
（ｖ）化合物８（６．７ｇ，９．５ｍｍｏｌ）に４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１００ｍＬ）を−７８℃にて加えて１５分間攪拌し、徐々に室温まで昇温した後にさらに２時間攪拌した。減圧下にて溶媒を除去し、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え、飽和重曹水溶液（１００ｍＬ）を加えて中和し、水相を分離した。油相を硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝４０：１）にて精製し、化合物Ｂ−１１３（４．５ｇ，６．８ｍｍｏｌ）を得た。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．５８（ｄｔ，Ｊ＝９．８Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２７−７．１０（ｍ，８Ｈ），７．０２（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），６．８６（ｍ，３Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝７．８０Ｈｚ，４Ｈ），６．６２（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２．５Ｈｚ，２Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５２．１（ｓ）．
【００９１】
［合成例４］：（リガンドＢ−１１４の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１４を合成した。
【００９２】
【化１１】
【００９３】
（ｉ）化合物１（２．６２ｇ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（４ｍＬ，１０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）金属マグネシウム（１ｇ，４０ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン（０．２ｍＬ）、ＴＨＦ（５０ｍＬ）の混合物に、化合物３（７．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）を室温にて滴下し、３時間攪拌した。ここに三塩化リン（２．６ｍＬ，３０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）を−７８℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下に除去し、新たにＴＨＦ（５０ｍＬ）を加え、化合物４の溶液を得た。ここに前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて２時間攪拌して、化合物５の溶液とした。
（ｉｉｉ）化合物６（４．２ｇ，３０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１２ｍＬ，３０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温して１時間攪拌した。ここに前段の化合物５の溶液を−３０℃にて滴下し、室温にて終夜攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝５０：１）にて精製し、化合物７（２．０ｇ，３．３ｍｍｏｌ）を得た。
（ｉｖ）化合物７（５．５ｇ，９．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（３．７ｍＬ，９．２ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温で２時間攪拌した。ここにヘキサフルオロベンゼンを０℃にて加え、室温にて１６時間攪拌した。メタノールを加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝１００：１）にて精製し、化合物８（１．６ｇ，２．１ｍｍｏｌ）を得た。
（ｖ）化合物８（６ｇ，７．８ｍｍｏｌ）に４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１００ｍＬ）を０℃にて加え１５分間攪拌し、さらに室温にて２時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチル（５０ｍＬ）を加えた。ここに飽和重曹水溶液（５０ｍＬ）を加えて３０分間攪拌することで酸を中和し、後に水相を分離した。油相を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて溶媒を除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝４０：１）にて精製し、化合物Ｂ−１１４（５．０ｇ，６．９ｍｍｏｌ）を得た。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．６８（ｄｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３０−７．０９（ｍ，１０Ｈ），７．０９−６．９３（ｍ，５Ｈ），６．８９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｍ，１Ｈ），６．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．５Ｈｚ，２Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５２．７（ｓ）．
【００９４】
［合成例５］：（リガンドＢ−１６３の合成）
２−｛［４−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）−２，６−ジフェノキシフェニル］［４−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）−２，６−ジメトキシフェニル］ホスファノ｝−６−（パーフルオロフェニル）フェノール（以下、リガンドＢ−１６３）の合成
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１６３を合成した。
【００９５】
【化１２】
【００９６】
（ｉ）化合物１（５．４ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（６ｍＬ，１５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（３．６ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（６ｍＬ，１５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物４を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物５（４．５ｇ，１５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）に、イソプロピルマグネシウムクロライドのＴＨＦ溶液（７．５ｍＬ，１５ｍｍｏｌ，２．０Ｍ）を−３０℃にて加え、０℃にて２時間攪拌した。当該反応液に三塩化リン（３．９ｍＬ，４５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて１時間攪拌した。過剰の三塩化リンおよび溶媒を減圧下にて除去し、新たにＴＨＦ（３０ｍＬ）を加え、化合物６を含む溶液を得た。当該溶液に前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌し、次いで当該反応液に前段の化合物４の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、残液を酢酸エチルで抽出して水層を分離した。有機層を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、化合物７を得た（２．０ｇ，２．４ｍｍｏｌ）。当工程を繰り返すことで、４．２ｇの化合物７を得た。
（ｉｖ）化合物７（３．２ｇ，３．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６ｍＬ，４．０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を−７８℃にて滴下し、同温度にて１時間攪拌した。当該反応液にヘキサフルオロベンゼン（１．８ｇ，９．５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて滴下し、室温にて１４時間攪拌した。氷水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、残液を酢酸エチルで抽出して水層を分離した。有機層を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、化合物８を得た（１．４ｇ，１．５ｍｍｏｌ）。当工程を繰り返すことで、２．３ｇの化合物８を得た。
（ｖ）化合物８（２．３ｇ，２．５ｍｍｏｌ）の酢酸エチル溶液（１０ｍＬ）に、４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１５ｍＬ）を０℃にて滴下し、室温にて３時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、残渣に飽和重曹水溶液を加えて酸を中和し、さらに酢酸エチルを加えて水層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮することで、化合物Ｂ−１６３を得た（２．０ｇ，２．３ｍｍｏｌ）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．５７（ｄｄ，Ｊ＝１１．２，７．６Ｈｚ、１Ｈ），７．１７（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，４Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，５Ｈ），６．０９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ），５．８３（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，２Ｈ），３．７９（ｄｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．６５（ｄｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．５５（ｓ，６Ｈ），１．２６（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１２Ｈ），１．０９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１２Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−６１．９（ｓ）．
【００９７】
［合成例６］：（リガンドＢ−１６５の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１６５を合成した。
【００９８】
【化１３】
【００９９】
（ｉ）化合物１（１．３ｇ，５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２ｍＬ，５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（１．６ｇ，５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）に、イソプロピルマグネシウムクロライド（２．５ｍＬ，５ｍｍｏｌ）を−３０℃にて加え、室温にて２時間攪拌した。ここに三塩化リン（１．３ｍＬ，１５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて２時間攪拌した。過剰の三塩化リンおよび溶媒を減圧下にて除去し、新たにＴＨＦ（１５ｍＬ）を加え、化合物４を含む溶液を得た。ここに前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．０ｍＬ，５．０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）に、化合物６（２．１ｇ，５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）を−７８℃にて滴下し、同温度で１時間攪拌した。次に−７８℃のまま前段の化合物５の溶液を滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。残渣を石油エーテルと酢酸エチルの混合溶媒中で再結晶精製し、化合物７を得た。
（ｉｖ）化合物７（０．５ｇ，０．６６ｍｍｏｌ）の酢酸エチル溶液（１０ｍＬ）に、４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１０ｍＬ）を０℃にて滴下し、室温にて１．５時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、飽和重曹水溶液を加えて酸を中和し、酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。残渣を石油エーテルと酢酸エチルの混合溶媒中で再結晶精製し、化合物Ｂ−１６５を得た（０．３ｇ，０．４８ｍｍｏｌ）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：８．０８（ｍ，２Ｈ），７．８３（ｄｄ，Ｊ＝７．３，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４０−７．１５（ｍ，１１Ｈ），７．０３（ｑ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，３Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，４Ｈ），６．６１（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，３．０Ｈｚ，２Ｈ），６．４４（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，３．０Ｈｚ，２Ｈ），３．６１（ｓ，６Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５８．４（ｓ）．
【０１００】
［合成例７］：２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェノール配位子（Ｂ−１４）の合成
（１）２，６−ジメトキシヨードベンゼン（Ｂ−１４−２）の合成
脱水ＴＨＦ（５００ｍＬ）に２，６−ジメトキシベンゼン（Ｂ−１４−１，５０ｇ，０．３６ｍｏｌ）を溶解させた。ここに、窒素雰囲気下でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１６６ｍＬ，０．４２ｍｏｌ）を０℃で徐々に加えた。ここで得られた溶液に、脱水ＴＨＦ（２００ｍＬ）に溶解させたヨウ素（９６．５ｇ，０．３８ｍｏｌ）の溶液を０℃で４０分間かけて滴下した。得られた溶液を室温で終夜攪拌した。終了後、メタノール（８０ｍＬ）を滴下し、得られた混合物を減圧下に濃縮し、水（２００ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（３ｘ２５０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３および食塩水で該有機層を洗浄した後、硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。
乾燥後、無機塩を濾別し、減圧下に濃縮を行い、残渣をメタノール（５０ｍＬ）で４回洗浄して乾燥させたところ、２，６−ジメトキシヨードベンゼン（Ｂ−１４−２）が黄色の固体として得られた（６３ｇ，０．２４ｍｏｌ，６６％収率）。
【０１０１】
（２）ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィンクロリド（Ｂ−１４−４）の合成
上記で得られた化合物（Ｂ−１４−２，５ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦに溶解させ、イソプロピルマグネシムクロライドのＴＨＦ溶液（９．５ｍＬ，２．０Ｍ，１９．０ｍｍｏｌ）を−５０℃で徐々に添加し、得られた混合物を室温で１時間攪拌した。
次に、該混合物を−７８℃に冷却し、三塩化リン（１．３ｇ，９．５ｍｍｏｌ）をゆっくり添加した。その後、室温で終夜攪拌し、得られたビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィンクロリド（Ｂ−１４−４）を含む反応中間体は、精製することなく次の反応に使用した。
【０１０２】
（３）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−１４−８）の合成
２−ｔ−ブチルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−１４−５，１．８４ｇ，９．５ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解させ、窒素雰囲気下でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（４．２ｍＬ，１０．５ｍｍｏｌ）を０℃で徐々に加えた。同温度で３０分間攪拌した後、徐々に昇温し、室温で１．５時間攪拌した。
次いで、該溶液に、上記で得られた化合物（Ｂ−１４−４）のＴＨＦ溶液を−７８℃で滴下し、得られた反応混合物を室温で終夜攪拌した。終了後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。無機塩を濾別して有機層を減圧下に濃縮した。
得られた残渣をシリカゲルカラムで精製したところ、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−１４−８，２．５ｇ，５．０ｍｍｏｌ，５３％収率）が得られた。この合成をスケールアップして同様の反応を行い、化合物（Ｂ−１４−８）を１２ｇ得た。
【０１０３】
（４）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェノール配位子（Ｂ−１４）の合成
上記で合成した化合物（Ｂ−１４−８，１２ｇ，２４ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（５０ｍＬ）に溶解させ、塩化水素で飽和させたジエチルエーテル（１００ｍＬ）溶液を−４０℃で添加した。同温度で１時間攪拌した後、室温まで徐々に昇温させ、室温でさらに１時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、Ｂ−１４塩酸塩を灰色がかった白色固体として得た。
ここで得られた塩酸塩をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解させ、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２５０ｍＬ）をゆっくり加えた。室温で３０分間攪拌した後、ジクロロメタン（３ｘ１５０ｍＬ）で抽出を行った。有機層を集めて硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥後、無機塩を濾別し、減圧下に濃縮し、残渣を石油エーテル（５０ｍＬ）で２回洗浄し、目的とする配位子（Ｂ−１４）を灰色がかった白色固体として得た（６．０ｇ，１３．２ｍｍｏｌ，５５％収率）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，δ，ｐｐｍ）：７．３０（ｄｔ，Ｊ＝９．１，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１５（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），６．６５（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄｄ，Ｊ＝８．３，３．０Ｈｚ，４Ｈ），３．５１（ｓ，１２Ｈ），１．３６（ｓ，９Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，δ，ｐｐｍ）−６１．６（ｓ）．
【０１０４】
［合成例８］：２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノール配位子（Ｂ−２７ＤＭ）の合成
（１）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノフェニルメトキシメチルエーテル（（Ｂ−２７ＤＭ−５）の合成
フェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−４，２．８７ｇ，２０．８ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解させ、ｎ−ブチルリチウム（８．３ｍＬ，２０．８ｍｍｏｌ）のｎ−ヘキサン溶液に、０℃で滴下した。得られた混合物を０℃で３０分攪拌した後、室温まで昇温し、室温で２時間攪拌した。この反応溶液に、合成例７（２）と同様に得られた化合物（Ｂ−１４−４）のＴＨＦ溶液（２０．８ｍｍｏｌ，１５０ｍＬ）を０℃で添加し、さらに室温で終夜攪拌を行った。反応液を水でクエンチし、減圧下にＴＨＦを除去した。得られた混合物からジクロロメタンで抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。さらに、有機層に硫酸ナトリウムを加えて脱水し、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を除去して濃縮した。
得られた粗生成物を、ジクロロメタンを展開液としてシリカゲルカラムで精製し、ジクロロメタンを除去して、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−５）の白色固体を得た。
【０１０５】
（２）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−６）の合成
上記で得られた化合物（Ｂ−２７ＤＭ−５，３．２ｇ，７．２ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解させた。この溶液に、ｎ−ブチルリチウム（２．９ｍＬ，７．２ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。得られた反応溶液を攪拌しながら昇温し、室温で２時間攪拌した。
次いで溶液を−７８℃に冷却し、ヘキサフルオロベンゼン（４．２ｍＬ，３６ｍｍｏｌ）をゆっくり加えた。溶液を攪拌しながら室温まで昇温し、室温で終夜攪拌を行った。水を加えて反応をクエンチし、減圧下に溶媒を除去した。固体残渣に対してジクロロメタンで抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
次いで有機層を硫酸ナトリウムで脱水させ、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を除去して濃縮した。粗生成物を、石油エーテル／酢酸エチル（７／１，ｖ／ｖ）の混合溶液を展開液として、シリカゲルカラムで精製することで、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−６）を得た（１．２ｇ，２．０ｍｍｏｌ，２８％収率）。同様な操作を行い、化合物（Ｂ−２７ＤＭ−６）を６．７ｇ得た。
【０１０６】
（３）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノールの塩酸塩（Ｂ−２７ＤＭＨＣｌ）の合成
上記で得られた化合物（Ｂ−２７ＤＭ−６，５．５ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を、塩化水素の酢酸エチル溶液（４Ｍ，１００ｍＬ）に０℃で加えた。得られた混合物を徐々に室温まで昇温し、引き続き室温で１．５時間攪拌を行った。減圧下に酢酸エチルを除去したところ、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノールの塩酸塩（Ｂ−２７ＤＭＨＣｌ）が白色固体として得られた。
【０１０７】
（４）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノール配位子（Ｂ−２７ＤＭ）の合成
塩酸塩（Ｂ−２７ＤＭＨＣｌ，５．０ｇ，７．７ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２００ｍＬ）および酢酸エチル（１００ｍＬ）の混合物を室温、アルゴン雰囲気下で２時間攪拌した。得られた反応混合物より、酢酸エチルで目的化合物を抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで脱水した後、硫酸ナトリウムを濾別し、減圧下に溶媒を除去した。
粗生成物を石油エーテルと酢酸エチルの混合溶媒で洗浄し、目的とする２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノール配位子（Ｂ−２７ＤＭ）を白色固体として得た（２．８ｇ，５．０ｍｍｏｌ，６０％収率）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．７２（ｄｑ，Ｊ＝７．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｂｒ（ｓ），１Ｈ），７．２１（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｄｔ，Ｊ＝７．６，１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４８（ｄｄ，Ｊ＝８．３，３．０Ｈｚ，４Ｈ），３．３６（ｓ，１２Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：−５９．１（ｓ）．
【０１０８】
［合成例９］：２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノール配位子（Ｂ−５６ＤＭ）の合成
（１）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−５６ＤＭ−６）の合成
フェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−５６ＤＭ−４，３．１６ｇ，２２．９ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。０℃でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（９．１ｍＬ，２２．８ｍｍｏｌ）を滴下し、０℃で３０分攪拌した。攪拌しながら室温まで昇温し、室温でさらに２時間攪拌した。０℃に冷却し、トリメチルシリルクロライド（２．９０ｍＬ，２２．８ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で１時間攪拌した。再び０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（９．１ｍＬ，２２．８ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。攪拌しながら室温まで昇温し、室温で２時間攪拌した。再度０℃に冷却し、合成例７（２）と同様に合成した化合物（Ｂ−１４−４）のＴＨＦ溶液（２２．８ｍｍｏｌ，１５０ｍＬ）を０℃で加え、得られた反応混合物を室温で終夜攪拌した。１０％水酸化ナトリウム水溶液で反応をクエンチし、減圧下にＴＨＦを除去した。酢酸エチルを用いて抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで脱水し、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を留去して濃縮した。
粗生成物を、石油エーテル／酢酸エチル（１０／１，ｖ／ｖ）を展開液としてシリカゲルカラムにて精製し、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−５６ＤＭ−６）の白色固体を得た（３．６ｇ，７．０ｍｍｏｌ，３１％収率）。同様な操作を繰返し、化合物（Ｂ−５６ＤＭ−６）を７．４ｇ得た。
【０１０９】
（２）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノールの塩酸塩（Ｂ−５６ＤＭＨＣｌ）の合成
塩化水素の酢酸エチル溶液（２Ｍ，１００ｍＬ）に、化合物（Ｂ−５６ＤＭ−６，７．４ｇ，１４．４ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。得られた混合物を徐々に室温まで昇温し、室温で１．５時間攪拌した。減圧下に酢酸エチルを除去し、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノールの塩酸塩（Ｂ−５６ＤＭＨＣｌ）の白色固体を得た。
【０１１０】
（３）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノール配位子（Ｂ−５６ＤＭ）の合成
上記の塩酸塩（Ｂ−５６ＤＭＨＣｌ，７．２ｇ，１４．２ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２００ｍＬ）、および酢酸エチル（１５０ｍＬ）の混合物をアルゴン雰囲気下で２時間攪拌した。酢酸エチルを用いて抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで脱水し、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を除去して濃縮した。
得られた粗生成物を、さらに減圧下、３時間乾燥させ、目的とする２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノール配位子（Ｂ−５６ＤＭ）を得た（６．３ｇ，１３．４ｍｍｏｌ，９４％収率）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．５４（ｍ，１Ｈ），７．２６（ｄｄ，Ｊ＝７．１，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），６．９６（ｓ（ｂｒ），１Ｈ），６．７５（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），６．４６（ｄｄ，Ｊ＝８．３，３．０Ｈｚ，４Ｈ），３．５２（ｓ，１２Ｈ），０．２４（ｓ，９Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：−６０．４（ｓ）．
【０１１１】
［実施例１〜４］
リガンドＢ−１１１を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
以下の操作は、すべて高純度アルゴン雰囲気下で行った。以下、ビス−１，５−シクロオクタジエンニッケル（０）をＮｉ（ＣＯＤ）２と称する。
初めに４ｍｌのスクリューキャップ付きバイアル瓶に、合成例１で得られたＢ−１１１（３５ｍｇ）を秤り取った。
次に、Ｎｉ（ＣＯＤ）２（２８ｍｇ）を２０ｍｌのバイアル瓶に秤り取り、トルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、１０ｍＭのＮｉ（ＣＯＤ）２トルエン溶液を調製した。得られた溶液は、黄色透明であった。ここで得られたＮｉ（ＣＯＤ）２トルエン溶液（５．０ｍｌ）を、Ｂ−１１１を有するバイアル瓶に加え、スクリューキャップで密閉した後、３０秒間振って攪拌し、溶液を得た。その後、溶液の色が次第に暗黄色から赤色に変化し、沈殿は見られなかった。室温で３時間静置した後、得られた溶液０．５ｍｌを２ｍｌのバイアル瓶に分取し、トルエン（１．５ｍｌ）で希釈し、Ｂ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２の反応生成物の２．５ｍＭ溶液を得た。ここで、反応生成物の濃度は、Ｂ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２が１対１で反応してニッケル錯体を形成しているとして計算した。
【０１１２】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
内容積２Ｌの誘導攪拌式オートクレーブに、乾燥トルエン（１Ｌ）およびコノモノマーとして所定量のアクリル酸エステルを導入した。なお、エチレンのホモ重合を行う場合には、アクリル酸エステルの仕込みは行わなかった。攪拌しながらオートクレーブを所定温度に昇温した後、エチレンをオートクレーブに供給し、温度と圧力が所定の条件になるように調整した。調整終了後、上記（１）で得られた反応生成物を所定量供給し、共重合を開始させた。所定時間重合させた後、エタノールを投入して反応を停止させた。未反応ガスを除去した後、オートクレーブを開放し、濾過、溶媒洗浄、加熱乾燥を行い、共重合体を得た。
共重合に用いたコモノマーの種類と量については、表２に記載した。なお、コモノマーは、Ａｌｄｒｉｃｈ社製のＡｌｄｒｉｃｈＩｎｈｉｂｉｔｏｒＲｅｍｏｖｅｒを充填したカラムを用いて、高純度アルゴン雰囲気下、室温で精製した後に使用した。また、重合に用いたトルエン量、重合温度、重合中のオートクレーブ内圧についても、表２に記載した。
表２において、ｔＢＡはアクリル酸ｔブチルを示す。また、活性Ｖｐは、重合に用いた錯体１ｍｏｌあたり、重合時間１時間あたりの共重合体収量（ｋｇ）を表す。なお、Ｖｐは、Ｂ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２が１対１で反応してニッケル錯体を形成しているとして計算した。得られた重合体に関するＧＰＣおよびＤＳＣ測定結果についても、表２に記載した。
【０１１３】
［実施例５］
リガンドＢ−１１２を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例２で得られたＢ−１１２（３０ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１１４】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１１５】
［実施例６、７］
リガンドＢ−１１３を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例３で得られたＢ−１１３（３３ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして錯体の形成を行った。
【０１１６】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１１７】
［実施例８］
リガンドＢ−１１４を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例４で得られたＢ−１１４（３６ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１１８】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１１９】
［実施例９］
リガンドＢ−１６３を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例５で得られたＢ−１６３（４４ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２０】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１２１】
［実施例１０］
リガンドＢ−１６５を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例６で得られたＢ−１６５（３６ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２２】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１２３】
［比較例１］
Ｂ−１４を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例７で得られたＢ−１４（２３ｍｇ）を使用した以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２４】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にしてエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表３に示す。表３の記載項目については、表２と同様である。
【０１２５】
［比較例２］
Ｂ−２７ＤＭを用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例８で得られたＢ−２７ＤＭ（２８ｍｇ）を使用した以外は、実施例１と同様にして錯体の形成を行った。
【０１２６】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表３に示す。
【０１２７】
［比較例３、４］
Ｂ−５６ＤＭを用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例９で得られたＢ−５６ＤＭ（２４ｍｇ）を使用した以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２８】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表３に示す。
【０１２９】
【表２】
【０１３０】
【表３】
【０１３１】
表２、３により、本発明の一般式（Ａ）で表される金属錯体は、一般式（Ａ）におけるＲ４とＲ５には、互いに異なって、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を有することにより、高活性で、比較的分子量の高い重合体が得られていることがわかる。例えば、リガンドＢ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２との反応生成物のニッケル錯体を用いた実施例１と、リガンドＢ−１４とＮｉ（ＣＯＤ）２との反応生成物のニッケル錯体を用いた比較例１との対比から、リガンドＢ−１４（Ｘ１がＯＨ基、Ｒ１３がｔＢｕ基）でのＲ４とＲ５が同一である比較例１に比べて、実施例１は、リガンドＢ−１１１（Ｘ１がＯＨ基、Ｒ１３がＣ６Ｆ６基）でのＲ４とＲ５が互いに異なっているヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を有することにより、高活性で、Ｍｗが高い重合体が得られていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
本発明の金属錯体からなる重合触媒は、希少かつ高価なパラジウムの代わりに、ニッケルを金属中心とした触媒であって、本発明の金属錯体からなる重合触媒を用いることにより、高活性で、工業的に容易に、α−オレフィン重合体や、（メタ）アクリル酸エステルとα−オレフィンとの共重合体が製造可能となり、かつ、本発明で得られる重合体や共重合体は、機械的・熱的物性に優れ、有用な成形体として応用可能であるため、産業上にきわめて有用である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−オレフィンの重合体、α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体の製造に有用な反応生成物及び金属錯体ならびにそれを用いたα−オレフィン重合体の製造方法およびα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エチレンと極性基含有ビニルモノマーである酢酸ビニルや（メタ）アクリル酸エステルとを高温高圧のラジカル重合で共重合する方法はよく知られている。しかしながら、この方法では、多数の分岐生成により結晶性の低い共重合体となるため、得られた共重合体の強度が低いという欠点がある。
また、Ｂｒｏｏｋｈａｒｔらは、α−ジイミン配位子を用いたパラジウム錯体を触媒として、エチレンとアクリル酸エステルの共重合体が製造できることを報告している。
しかしながら、得られた共重合体は、分岐構造に富むものであり、分岐は、メチル基、エチル基をはじめ、種々の炭素数であって、かつ、分岐の数も非常に多く、結果として、得られた共重合体は、結晶性の低いものであった（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００３】
リンと酸素を配位原子として有するリガンドを用いたニッケル触媒で、いわゆるＳＨＯＰ系触媒と呼ばれる触媒を用いると、極性溶媒中でエチレン重合が可能であり、分岐の少ない直鎖状重合体が得られることが知られている。ＳＨＯＰ系触媒のこうした極性基耐性に期待し、ＳＨＯＰ系触媒を用いたエチレンと極性モノマーの共重合が試みられている。
しかしながら、エチレンとの共重合が進行するのは、極性モノマー中の極性基がオレフィンから離れている場合に限られることが報告されており、極性基がオレフィンに直接結合している（メタ）アクリル酸エステルとα−オレフィンとの共重合例は、報告されていない（例えば、非特許文献２および特許文献１参照。）。
なお、例外的に、Ｇｉｂｓｏｎらは、ＳＨＯＰ系のニッケル錯体を用いて、エチレンとメタクリル酸メチルの共重合を行っているが（例えば、非特許文献８参照。）、触媒構成成分として、ビスシクロオクタジエンニッケル（Ｎｉ（ＣＯＤ）２）がフォスフィンスカベンジャーとして必要であり、かつ、メタクリル酸メチルは、重合体の末端のみに存在し、末端以外の主鎖中には取り込まれていない。
【０００４】
一方、同様のＳＨＯＰ系のニッケル（０価）キレート錯体とアルミノキサンの組み合わせからなる触媒で、エチレンと不飽和カルボン酸エステルの共重合を行う方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。該特許文献２の実施例においては、エチレンとアクリル酸メチルの共重合例が記載されているが、非晶性重合体が副生するため、該非晶性重合体をアセトン抽出にて、除去する必要があった。また、得られた共重合体については、アクリル酸メチル含量に関する記載があるのみで、その他、構造に関する記載はない。
また、Ｐｕｇｈら（例えば、非特許文献５参照。）、野崎ら（例えば、非特許文献６参照。）、Ｇｏｏｄａｌｌら（例えば、特許文献３参照。）は、ホスフィノスルホン酸配位子を有するパラジウム錯体を触媒として用いることにより、エチレンとアクリル酸メチルの共重合体が得られることを報告している。
しかしながら、これらの公知文献で用いられている触媒は、希少な資源であり、かつ、高価なパラジウムを用いているため、工業的な応用には問題が大きい。
【０００５】
上述のように、オレフィンとアクリル酸エステルを共重合する有用な遷移金属触媒技術の開発が求められているが、一般に、シングルサイト触媒でオレフィンを重合する場合、従来のチーグラーナッタ触媒に比較して、分子量が上がりにくい傾向がある。
このため、オレフィン重合体やオレフィン・アクリル酸エステル共重合体の分子量を向上させ、また、活性も比較的高い触媒に係る技術についても、開発が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第４，６９８，４０３号明細書
【特許文献２】特開昭６４−１４２１７号公報
【特許文献３】米国特許出願公開第２００７／００４９７１２号明細書
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｓ．Ｍｅｃｋｉｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９８，１２０，８８８．
【非特許文献２】Ｓ．Ｄ．Ｉｔｔｅｌ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，２０００，１００，１１６９．
【非特許文献３】Ｐ．Ｂｒａｕｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．，１９８９，３６７，１１７．
【非特許文献４】Ｓ．Ｅ．Ｂａｕａｏｕｄ ｅｔ ａｌ．，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９８６，２５，３７６５．
【非特許文献５】Ｅ．Ｄｒｅｎｔ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２００２，７４４．
【非特許文献６】Ｔ．Ｋｏｃｈｉ ｅｔ ａｌ．，Ｄａｌｔｏｎ Ｔｒａｎｓ．，２００６，２５．
【非特許文献７】Ｕ．Ｋｌａｂｕｎｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．：Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，１９８７，２５，１９８９．
【非特許文献８】Ｖ．Ｃ．Ｇｉｂｓｏｎ，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２００１，１９６４．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点に鑑み、分岐が少なく結晶性を有するα−オレフィン重合体またはα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体、特に分子量の比較的高い重合体の製造用の高活性触媒成分およびそれを用いたα−オレフィン重合体またはα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、上記課題を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、アリール基を母核とするリガンドであって、該アリール基に結合したリン、砒素またはアンチモン（本発明ではＥ１と記載）上の２個の置換基Ｒ４、Ｒ５の少なくとも一方がヘテロ原子含有基を２個以上含有するアリール基であり、かつ、Ｒ４とＲ５が非等価であるような特定の構造を有する遷移金属錯体を触媒成分に用いて、α−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合を行うと、格段に高い重合活性で分子量の高い重合体を得ることができることを見出し、これらの知見に基づき、本発明を完成するに至った。
【００１０】
すなわち、本発明の第１の発明によれば、下記一般式（Ａ）で表される金属錯体が提供される。
【００１１】
【化１】
【００１２】
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基を表し、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウムを表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２またはＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環または酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【００１３】
また、本発明の第２の発明によれば、第１の発明において、一般式（Ａ）中、Ｒ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表すことを特徴とする金属錯体が提供される。
さらに、本発明の第３の発明によれば、第１又は２の発明において、一般式（Ａ）中、Ｒ４及びＲ５は、いずれもヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基であることを特徴とする金属錯体が提供される。
【００１４】
また、本発明の第４の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明において、一般式（Ａ）中、Ｍは、ニッケル、パラジウム、白金、コバルトまたはロジウムであることを特徴とする金属錯体が提供される。
さらに、本発明の第５の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明において、一般式（Ａ）中、Ｍは、周期律表第１０族に属する遷移金属であることを特徴とする金属錯体が提供される。
【００１５】
一方、本発明の第６の発明によれば、下記一般式（Ｂ）又は（Ｃ）で表される化合物と、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを接触させることにより得られることを特徴とする第１〜３のいずれかの発明に係る金属錯体の製造方法が提供される。
【００１６】
【化２】
【００１７】
［式（Ｂ）又は（Ｃ）中、Ｚは、水素原子または脱離基を表し、ｍは、Ｚの価数を表す。Ｘ１、Ｅ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、第１の発明に前記した通りである。］
【００１８】
また、本発明の第７の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明に係る金属錯体の存在下、α−オレフィンを重合することを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法が提供される。
さらに、本発明の第８の発明によれば、第７の発明において、有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法が提供される。
【００１９】
また、本発明の第９の発明によれば、第１〜３のいずれかの発明に係る金属錯体の存在下、α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合することを特徴とするα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法が提供される。
さらに、本発明の第１０の発明によれば、第９の発明において、有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とするα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の金属錯体を重合用触媒として用いることにより、工業的に容易に、（メタ）アクリル酸エステルとα−オレフィンとの共重合体が製造可能となり、かつ、得られた共重合体の分子量も高い。共重合体だけでなく、α−オレフィン重合体においても、高い分子量の重合体が得られる。一般にポリマーの物性において分子量は、支配的要因の一つであり、分子量を上げることによって、ポリマー鎖間の相互作用が強まるため、本発明で得られた重合体や共重合体は、機械的・熱的物性に優れ、有用な成形体として応用可能である。さらに、本発明においては、希少かつ高価なパラジウムの代わりに、ニッケルを金属中心とした触媒を使用することができる。このように、本発明は、かかるα−オレフィン重合体やα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造法を提供するものであり、工業的な観点から、非常に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明は、一般式（Ｂ）又は（Ｃ）で表される化合物と、ニッケル、パラジウム、コバルト、銅またはロジウム等の周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを接触させることにより得られる反応生成物、すなわち、一般式（Ａ）で表される金属錯体（以下、金属錯体（Ａ）と称することもある。）、並びにそれを触媒成分とし、その触媒成分の存在下に行うα−オレフィンの重合体の製造方法およびα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合するα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法である。
以下、重合体の構成モノマー、触媒成分、製造方法等について詳細に説明する。
なお、以下の説明において、「重合」という用語は、１種類のモノマーの単独重合と複数種のモノマーの共重合を総称するものであり、特に両者を区別する必要がない場合には、総称して単に「重合」と記載する。
【００２２】
１．重合体の構成モノマー
（ａ）α−オレフィン
本発明における成分（ａ）は、一般式：ＣＨ２＝ＣＨＲ７で表されるα−オレフィンである。ここで、Ｒ７は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基であり、分岐、環、および／または不飽和結合を有していてもよい。Ｒ７の炭素数が２０より大きいと、十分な重合活性が発現しない傾向がある。このため、なかでも、好ましい（ａ）成分としては、Ｒ７が水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基であるα−オレフィンが挙げられる。
さらに好ましい（ａ）成分としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、３−メチル−１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキセン、スチレンが挙げられる。なお、単独の（ａ）成分を使用してもよいし、複数の（ａ）成分を併用してもよい。
【００２３】
（ｂ）（メタ）アクリル酸エステル
本発明における成分（ｂ）は、一般式：ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ８）ＣＯ２（Ｒ９）で表される（メタ）アクリル酸エステルである。ここで、Ｒ８は、水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基であり、分岐、環、および／または不飽和結合を有していてもよい。Ｒ９は、炭素数１〜３０の炭化水素基であり、分岐、環、および／または不飽和結合を有していてもよい。さらに、Ｒ９内の任意の位置にヘテロ原子を含有していてもよい。
Ｒ８の炭素数が１１以上であると、十分な重合活性が発現しない傾向がある。したがって、Ｒ８は、水素原子または炭素数１〜１０の炭化水素基であるが、好ましい（ｂ）成分としては、Ｒ８が水素原子または炭素数１〜５の炭化水素基である（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。より好ましい（ｂ）成分としては、Ｒ８がメチル基であるメタクリル酸エステルまたはＲ８が水素原子であるアクリル酸エステルが挙げられる。同様に、Ｒ９の炭素数が３０を超えると、重合活性が低下する傾向がある。よって、Ｒ９の炭素数は１〜３０であるが、Ｒ９は、好ましくは炭素数１〜１２であり、さらに好ましくは炭素数１〜８である。
また、Ｒ９内に含まれていても良いヘテロ原子としては、酸素、硫黄、セレン、リン、窒素、ケイ素、フッ素、ホウ素等が挙げられる。これらのヘテロ原子のうち、酸素、ケイ素、フッ素が好ましく、酸素が更に好ましい。また、Ｒ９は、ヘテロ原子を含まないものも好ましい。
【００２４】
さらに好ましい（ｂ）成分としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸トルイル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸−２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸エチレンオキサイド、（メタ）アクリル酸トリフルオロメチル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチルエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロエチル、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルジメチルアミド、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル等が挙げられる。なお、単独の（ｂ）成分を使用してもよいし、複数の（ｂ）成分を併用してもよい。
【００２５】
２．金属錯体
本発明の反応生成物、すなわち金属錯体は、下記一般式（Ａ）で表される。
【００２６】
【化３】
【００２７】
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基を表し、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウムを表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２またはＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環または酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【００２８】
本発明において、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属であるが、好ましくは、１０族のニッケル、パラジウム、白金、９族のコバルト、ロジウムおよび１１族の銅であり、さらに好ましくは、１０族のニッケル、パラジウム、白金であり、最も好ましくは、１０族のニッケルまたはパラジウムである。
Ｍの価数については、２価が好ましい。ここでＭの価数とは、有機金属化学で用いられる形式酸化数（ｆｏｒｍａｌ ｏｘｉｄａｔｉｏｎ ｎｕｍｂｅｒ）を意味する。すなわち、ある元素が関与する結合中の電子対を電気陰性度の大きい元素に割り当てたとき、その元素の原子上に残る電荷の数を指す。例えば、本発明の一般式（Ａ）において、Ｅ１がリン、Ｘ１が酸素、Ｍがニッケル、Ｒ３がフェニル基、Ｌ１がピリジンであり、ニッケルがリン、酸素、フェニル基の炭素、ピリジンの窒素と結合を形成している場合、ニッケルの形式酸化数、すなわちニッケルの価数は２価となる。なぜならば、上述の定義に基づき、これらの結合において、電子対は、ニッケルよりも電気陰性度の大きいリン、酸素、炭素、窒素に割り当てられ、電荷は、リンが０、酸素が−１、フェニル基が−１、ピリジンが０で、錯体は、全体として電気的に中性であるため、ニッケル上に残る電荷は＋２となるからである。
２価の遷移金属としては、例えば、ニッケル（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）、白金（ＩＩ）、コバルト（ＩＩ）が好ましく、２価以外では、銅（Ｉ）またはロジウム（ＩＩＩ）も好ましい。
【００２９】
本発明においてＲ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。本発明における重合または共重合反応は、ＭとＲ３の結合に本発明における（ａ）成分または（ｂ）成分が挿入することによって、開始されると考えられる。したがって、Ｒ３の炭素数が過度に多いと、この開始反応が阻害される傾向にある。このため、好ましいＲ３としては、炭素数１〜１６、さらに好ましくは炭素数１〜１０である。
Ｒ３の具体的な例としては、ヒドリド基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ベンジル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基等を挙げることができる。
【００３０】
本発明において、Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。本発明におけるリガンドＬ１は、配位結合可能な原子として、酸素、窒素、硫黄を有する炭素数１〜２０の炭化水素化合物である。また、Ｌ１として、遷移金属に配位可能な炭素−炭素不飽和結合を有する炭化水素化合物（ヘテロ原子を含有していてもよい）も使用することができる。好ましくは、Ｌ１の炭素数は、１〜１６であり、さらに好ましくは１〜１０である。また一般式（Ａ）中のＭと配位結合するＬ１としては、電荷を持たない化合物が好ましい。
Ｌ１は、Ｍと配位結合を形成するが、本発明においては、（ａ）成分の重合や（ａ）成分と（ｂ）成分の共重合を進行させるために、Ｌ１をＭから取り除く化合物（スカベンジャー）を使用する必要がない。
【００３１】
なお、いわゆるＳＨＯＰ系金属錯体においては、本発明におけるＬ１の代わりに、フォスフィン、たとえば、トリメチルフォスフィンやトリフェニルフォスフィンを用いても、本発明と類似の錯体を合成することができる。しかしながら、こうしたリガンドを用いた場合には、該リガンドをＭから取り除くスカベンジャーを併用することが、オレフィンの重合能発現のために必須であることが知られている（例えば、前記非特許文献７参照。）。このような目的のために用いられるスカベンジャーとしては、Ｎｉ（ＣＯＤ）２（ＣＯＤ：シクロオクタジエン）、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３、アルミノキサン類、ロジウム錯体などが知られている。
【００３２】
本発明における好ましいＬ１としては、ピリジン類、ピペリジン類、アルキルエーテル類、アリールエーテル類、アルキルアリールエーテル類、環状エーテル類、アルキルニトリル誘導体、アリールニトリル誘導体、アルコール類、アミド類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、アミン類、環状不飽和炭化水素類などを挙げることができる。さらに好ましいＬ１としては、ピリジン類、環状エーテル類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、環状オレフィン類が挙げられ、特に好ましいＬ１として、ピリジン、ルチジン（ジメチルピリジン）、ピコリン（メチルピリジン）、Ｒ１ＣＯ２Ｒ２（Ｒ１およびＲ２の定義は、前記の通り）を挙げることができる。
【００３３】
なお、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。そのような例として、シクロオクタ−１−エニル基を挙げることができ、これも本発明における好ましい様態である。
【００３４】
本発明において、Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。これらのうち、酸素が好ましい。また、本発明において、Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。これらのうち、リンが好ましい。
【００３５】
本発明において、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４とＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ４とＲ５は、金属Ｍの近傍にあって、立体的および／または電子的に、Ｍに相互作用を及ぼす。こうした効果を及ぼすためには、Ｒ４とＲ５は、かさ高い方が好ましい。Ｒ４、Ｒ５の好ましい炭素数は、６〜４０、さらに好ましくは８〜４０である。
Ｒ４、Ｒ５において、ヘテロ原子含有基中に含まれるヘテロ原子としては、酸素、窒素、リン、硫黄、セレン、ケイ素、フッ素、ホウ素が挙げられる。これらのヘテロ原子のうち、酸素、硫黄、窒素、リン、ケイ素が好ましい。また、これらのヘテロ原子を含むヘテロ原子含有基としては、酸素含有基として、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アロイル基、カルボキシレート基が挙げられ、窒素含有基としては、アミノ基、イミノ基、アミド基が挙げられ、硫黄含有基としては、チオアルコキシ基やチオアリーロキシが挙げられ、リン含有置換基としては、フォスファノ基が挙げられ、ケイ素含有基としては、トリアルキルシリル基、ジアルキルアリールシリル基、アルキルジアリールシリル基が挙げられる。これらのヘテロ原子含有基のうち、もっとも好ましいのは、アミノ基、アルコキシ基、またはアリーロキシ基である。
【００３６】
前記したヘテロ原子含有基としては、電子供与性で、かつ遷移金属に配位可能なものが好ましい。こうしたヘテロ原子含有基の具体的な例としては、以下のようなものが挙げられる。
すなわち、酸素含有基として、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、アセトキシ基、エチルカルボキシレート基、ｔ−ブチルカルボキシレート基、フェニルカルボキシレート基などを挙げることができる。また、窒素含有基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基などを挙げることができる。また、硫黄含有基としては、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオ−ｎ−プロポキシ基、チオイソプロポキシ基、チオ−ｎ−ブトキシ基、チオ−ｔ−ブトキシ基、チオフェノキシ基、ｐ−メチルチオフェノキシ基、ｐ−メトキシチオフェノキシ基などを挙げることができる。さらに、リン含有置換基としては、ジメチルフォスフィノ基、ジエチルフォスフィノ基、ジ−ｎ−プロピルフォスフィノ基、シクロヘキシルフォスフィノ基などを挙げることができる。
【００３７】
Ｒ４，Ｒ５においては、少なくともＲ４またはＲ５のいずれか一方が２個以上のヘテロ原子含有基を有していればよいが、Ｒ４およびＲ５が共に２個以上のヘテロ原子含有基を含有しているものが特に好ましい。
【００３８】
本発明において、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であるが、より具体的には、ヘテロ原子を含有していてもよい分岐鎖状炭化水素基、ヘテロ原子を含有していてもよい脂肪環式炭化水素基、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基が挙げられる。前記したように、Ｒ４およびＲ５は、かさ高い方が好ましい。したがって、これらのうち、ヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、または、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基が好ましく、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基がもっとも好ましい。こうしたアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスラセニル基などを挙げることができる。
【００３９】
本発明のＲ４およびＲ５において、これらアリール基の芳香族骨格に前記したヘテロ原子含有基が結合する場合、結合様式としては、ヘテロ原子含有基が芳香族骨格に直接結合してもよいし、メチレン基のようなスペーサーを介して、芳香族骨格に結合してもよい。なお、メチレン基を介してヘテロ原子含有基が芳香族骨格に結合する場合、メチレン基の数は、１個が好ましい。また、置換位置としては、Ｒ４およびＲ５中の芳香族骨格のうち、Ｅ１に結合した炭素に対してオルト位が好ましい。このようにすることによって、Ｒ４およびＲ５中のヘテロ原子がＭと相互作用を持つように空間的配置をとることができる。
【００４０】
好ましいＲ４およびＲ５の具体的な例示として、２，６−ジメトキシフェニル基、２，４，６−トリメトキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジメトキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジメトキシフェニル基、１，３−ジメトキシ−２−ナフチル基、２，６−ジエトキシフェニル基、２，４，６−トリエトキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジエトキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジエトキシフェニル基、１，３−ジエトキシ−２−ナフチル基、２，６−ジフェノキシフェニル基、２，４，６−トリフェノキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジフェノキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジフェノキシフェニル基、１，３−ジフェノキシ−２−ナフチル基、２，６−ジメトキシメチルフェニル基、２，４，６−トリメトキシメチルフェニル基、４−メチル−２，６−ジメトキシメチルフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジメトキシメチルフェニル基、１，３−ジメトキシメチル−２−ナフチル基、２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、２，４，６−トリフェノキシメチルフェニル基、４−メチル−２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、１，３−ジフェノキシメチル−２−ナフチル基、２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、２，４，６−トリ（２−メトキシエチル）フェニル基、４−メチル−２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、１，３−ジ（２−メトキエチル）−２−ナフチル基、２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、２，４，６−トリ（２−フェノキシエチル）フェニル基、４−メチル−２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、１，３−ジ（２−フェノキシエチル）−２−ナフチル基、２−メトキシ−６−フェノキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２−メトキシ−６−フェノキシフェニル基、１−メトキシ−３−フェノキシ−２−ナフチル基、３−メトキシ−１−フェノキシ−２−ナフチル基、２−エトキシ−６−フェノキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２−エトキシ−６−フェノキシフェニル基、１−エトキシ−３−フェノキシ−２−ナフチル基、３−エトキシ−１−フェノキシ−２−ナフチル基などを挙げることができる。
【００４１】
本発明において、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２，ＣＯ２Ｍ’，Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２，ＳＯ２Ｒ２，ＳＯＲ２，ＣＮ，ＮＯ２，ＳＯ３Ｍ’，ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を示す。Ｒ１３は、金属Ｍの近傍にあって、立体的および／または電子的に、Ｍに相互作用を及ぼす。こうした効果を及ぼすためには、Ｒ１３は、かさ高い方が好ましい。Ｒ１３の好ましい炭素数は、３〜３０である。かつ、Ｒ１３は、母核であるアリール基に対して、電子求引性の置換基であることが好ましい。
【００４２】
Ｒ１３の例を具体的に挙げると、ハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素、沃素を挙げることができ、ヘテロ原子含有炭化水素基として、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロフェニル基、パーフルオロナフチル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シアノフェニル基、アンスラセニル基、ピリジル基、ピロリル基、カルバゾリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、あるいはそれらの異性体などを挙げることができる。これらのうち、特に好ましいＲ１３として、パーフルオロイソプロピル基、パーフルオロ−ｔ−ブチル基、パーフルオロフェニル基、９−カルバゾリル基が挙げられる。
前記したように、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１３は、いずれも、かさ高い方が好ましいが、その全てが同時に過度にかさ高くなると、錯体の安定性やモノマーの反応性に不利益となるおそれがある。Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１３の組み合わせにおいて、特に好ましいものを表１に示す。
【００４３】
【表１−１】
【表１−２】
【００４４】
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２については、前記した通りであるが、これらのうち、Ｒ１１については、母核であるアリール基に対して電子求引性の置換基である方が、高活性の重合触媒を与える傾向にあり、好ましい。Ｒ１１の例を具体的に挙げると、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基であり、ハロゲン原子として、フッ素、塩素、臭素、沃素、ヘテロ原子含有炭化水素基として、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロフェニル基、パーフルオロナフチル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シアノフェニル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、あるいはそれらの異性体、などを挙げることができる。
これらのうち、特に好ましいＲ１１として、フッ素、パーフルオロメチル基、パーフルオロフェニル基、ＣＮが挙げられる。
【００４５】
以下、本発明の金属錯体（Ａ）を下記に例示するが、下記例示に限定されるものではない。なお、下記例示において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、ｉＰｒはイソプロピル基を、ｔＢｕはターシャリーブチル基を、Ｃｙはシクロヘキシル基を、Ｐｈはフェニル基を示す。
【００４６】
【化４】
【００４７】
なお、リガンドの構造や錯体形成条件によっては、一般式（Ａ）で示した錯体の立体異性体が形成されることもある。さらに、Ｍが４以外の配位数をとることも、ありうる。これも一種の異性体である。本発明の錯体は、こうした異性体であってもよく、また、こうした異性体の混合物であってもよい。以下、Ｍが配位数５をとる場合について、一例を示した。
【００４８】
【化５】
【００４９】
３．金属錯体の製造方法
本発明の錯体は、下記一般式（Ｂ）および／または（Ｃ）で表される化合物と、９族、１０族または１１族の遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを、接触させることにより得ることができる。
【００５０】
【化６】
【００５１】
［式（Ｂ）又は（Ｃ）中、Ｚは、水素原子または脱離基を表し、ｍは、Ｚの価数を表す。Ｘ１、Ｅ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、前記した通りである。］
【００５２】
Ｚは、水素原子または脱離基であるが、具体的には、水素原子、Ｒ１ＳＯ２基（ここでＲ１は、前記したとおりである）、ＣＦ３ＳＯ２基などを挙げることができる。
【００５３】
一般式（Ｃ）は、アニオンの形で表されているが、そのカウンターカチオンは、本発明の遷移金属錯体（Ｄ）との反応を阻害しない限りにおいて、任意のものを用いることができる。
カウンターカチオンとしては、具体的には、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウム、周期律表１族〜１４族の金属イオンを挙げることができる。これらのうち好ましくは、ＮＨ４＋、Ｒ１４Ｎ＋（ここでＲ１は、前記したとおりであり、４つのＲ１は、同じでも異なっていてもよい）、Ｒ１４Ｐ＋（ここでＲ１は、前記したとおりであり、４つのＲ１は、同じでも異なっていてもよい）、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ａｌ３＋であり、さらに好ましくは、Ｒ１４Ｎ＋（ここでＲ１は、前記したとおりであり、４つのＲ１は、同じでも異なっていてもよい）、Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋である。
【００５４】
一般式（Ｂ）、（Ｃ）で示される物質については、公知の合成法に基づいて合成することができる。一般式（Ａ）で表される金属錯体は、前記一般式（Ｂ）または（Ｃ）で表される化合物と、本発明に係る金属Ｍを含む遷移金属錯体成分（Ｄ）との反応生成物に含まれる。
【００５５】
本発明で用いられる遷移金属錯体成分（Ｄ）については、一般式（Ｂ）または（Ｃ）で示される化合物と反応して、重合能を有する錯体を形成可能なものが使用される。これらは、プリカーサー（前駆体）とも呼ばれることがある。
例えば、ニッケルを含む遷移金属錯体（Ｄ）としては、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、一般式：（ＣＨ２ＣＲ１ＣＨ２）２Ｎｉで表される錯体（ここでＲ１は、前記した通りである。）、ビス（シクロペンタジエニル）ニッケル（ＩＩ）、一般式：Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＲ１３）２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）、一般式：ＮｉＲ１２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）等を使用することができる。
【００５６】
また、９族、１０族または１１族の遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）については、一般式：ＭＲ１ｐＬ１ｑ（ここで、Ｍは、９族、１０族または１１族の遷移金属であり、Ｒ１およびＬ１は、本明細書に記載した通りであり、ｐおよびｑは、Ｍの価数を満たす０以上の整数である。）を使用することができる。
【００５７】
これらの遷移金属のうち、好ましく用いられるものは、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、一般式：（ＣＨ２ＣＲ１ＣＨ２）２Ｎｉで表される錯体（ここでＲ１は、本明細書に記載した通りである。）、一般式：Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＲ１３）２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）、一般式：ＮｉＲ１２Ｌ１２で表される錯体（ここでＲ１、Ｌ１は、本明細書に記載した通りである。）、Ｐｄ（ｄｂａ）２、Ｐｄ２（ｄｂａ）３、Ｐｄ３（ｄｂａ）４（ここで、ｄｂａは、ジベンジリデンアセトンを表す。）、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｄ（メチル）（クロリド）である。
特に好ましくは、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）、（ＣＨ２ＣＨＣＨ２）２Ｎｉ、（ＣＨ２ＣＭｅＣＨ２）２Ｎｉ、Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＭｅ３）２（Ｐｙ）２（以下Ｐｙは、ピリジンを表す。）、Ｎｉ（ＣＨ２ＳｉＭｅ３）２（Ｌｕｔ）２（以下Ｌｕｔは、２，６−ルチジンを表す。）、ＮｉＰｈ２（Ｐｙ）２、Ｎｉ（Ｐｈ）２（Ｌｕｔ）２，Ｐｄ（ｄｂａ）２、Ｐｄ２（ｄｂａ）３、Ｐｄ３（ｄｂａ）４（ここで、ｄｂａは、ジベンジリデンアセトンを表す。）、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｄ（メチル）（クロリド）である。
【００５８】
本発明の反応生成物は、前述の一般式（Ｂ）または（Ｃ）で表される化合物と前述の遷移金属錯体（Ｄ）とを、例えば（Ｂ）＋（Ｃ）：（Ｄ）＝１：９９〜９９：１（モル比）を、０〜１００℃のトルエン等の有機溶媒中で、減圧〜加圧下で１〜８６４００秒間接触させることにより、得ることができる。（Ｄ）として、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）（Ｎｉ（ＣＯＤ）２）のトルエン溶液を用いる場合には、溶液の色が黄色から、例えば赤色に変化することにより、反応生成物の生成が確認できる。
【００５９】
本反応後、（Ｄ）を構成している成分であって、（Ｄ）の遷移金属以外の成分は、（Ｂ）成分のＺを除いた部分や（Ｃ）成分によって置換されて、本発明の一般式（Ａ）で表される金属錯体が生成する。この置換反応は、定量的に進行するほうが好ましいが、場合によっては完全に進行しなくてもよい。反応終了後、一般式（Ａ）で表される錯体以外に、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）由来の他の成分が共存するが、本発明の重合反応または共重合反応を行う際に、これらの他の成分は、除去してもよいし、除去しなくてもよい。一般的には、これらの他の成分は、除去した方が、高活性が得られるので好ましい。
なお、反応を行う際に、本発明に係るＬ１を共存させてもよい。本発明に係るＭとして、ニッケルやパラジウムを用いた場合には、ルイス塩基性のＬ１を系内に共存させることによって、精製した錯体（Ａ）の安定性が増す場合があり、このような場合には、Ｌ１が本発明の重合反応または共重合反応を阻害しない限りにおいて、Ｌ１を共存させることが好ましい。
【００６０】
本発明において、反応をα−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に使用する反応器とは別の容器で、予め行ったうえで、得られた錯体（Ａ）をα−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に供してもよいし、反応をこれらのモノマーの存在下に行ってもよい。また、反応を、α−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に使用する反応器の中で行ってもよい。この際に、これらのモノマーは、存在していてもよいし、存在していなくてもよい。また、一般式（Ｂ）〜（Ｃ）で示される成分については、それぞれ単独の成分を用いてもよいし、それぞれ複数種の成分を併用してもよい。特に、分子量分布やコモノマー含量分布を広げる目的には、こうした複数種の併用が有用である。
【００６１】
以下、本発明で使用可能な（Ｂ）を例示するが、下記例示に限定されるものではない。なお、下記例示において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、ｉＰｒはイソプロピル基を、Ｐｈはフェニル基を、Ｃｙはシクロヘキシル基を、ｔＢｕはターシャリーブチル基を示す。
【００６２】
【化７】
【００６３】
４．重合反応
本発明において、一般式（Ａ）で表される金属錯体を、重合または共重合の触媒成分として使用することができる。前記したように、一般式（Ａ）で表される金属錯体は、一般式（Ｂ）または（Ｃ）と遷移金属錯体成分（Ｄ）との反応によって、形成させることができる。一般式（Ａ）で表される金属錯体を触媒成分に用いる場合、単離したものを用いてもよいし、担体に担持したものを用いてもよい。こうした担持をα−オレフィンの重合やα−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとの共重合に使用する反応器中で、これらのモノマーの存在下または非存在下で行ってもよいし、該反応器とは別の容器中で行ってもよい。
【００６４】
使用可能な担体としては、本発明の主旨をそこなわない限りにおいて、任意の担体を用いることができる。一般に、無機酸化物やポリマー担体が好適に使用できる。具体的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ２等またはこれらの混合物が挙げられ、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、ＳｉＯ２−ＭｇＯ、ＳｉＯ２−Ｃｒ２Ｏ３等の混合酸化物も使用することができ、無機ケイ酸塩、ポリエチレン担体、ポリプロピレン担体、ポリスチレン担体、ポリアクリル酸担体、ポリメタクリル酸担体、ポリアクリル酸エステル担体、ポリエステル担体、ポリアミド担体、ポリイミド担体などが使用可能である。これらの担体については、粒径、粒径分布、細孔容積、比表面積などに特に制限はなく、任意のものが使用可能である。
【００６５】
無機ケイ酸塩としては、粘土、粘土鉱物、ゼオライト、珪藻土等が使用可能である。これらは、合成品を用いてもよいし、天然に産出する鉱物を用いてもよい。粘土、粘土鉱物の具体例としては、アロフェン等のアロフェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイト等のカオリン族、メタハロイサイト、ハロイサイト等のハロイサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石等の雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオライト、パイゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョクデイ石群等が挙げられる。これらは混合層を形成していてもよい。人工合成物としては、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライト等が挙げられる。
これら具体例のうち好ましくは、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイト等のカオリン族、メタハロサイト、ハロサイト等のハロサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイト、ソーコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石等の雲母鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられ、特に好ましくはモンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュライト等のバーミキュライト鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられる。
【００６６】
これらの担体は、そのまま用いてもよいが、塩酸、硝酸、硫酸等による酸処理および／または、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、ＣａＣｌ２、ＭｇＣｌ２、Ｌｉ２ＳＯ４、ＭｇＳＯ４、ＺｎＳＯ４、Ｔｉ（ＳＯ４）２、Ｚｒ（ＳＯ４）２、Ａｌ２（ＳＯ４）３等の塩類処理を行ってもよい。該処理において、対応する酸と塩基を混合して反応系内で塩を生成させて処理を行ってもよい。また、粉砕や造粒等の形状制御や乾燥処理を行ってもよい。
【００６７】
本発明における重合反応は、プロパン、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素溶媒や液化α−オレフィン等の液体、また、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、安息香酸メチル、アセトン、メチルエチルケトン、ホルミアミド、アセトニトリル、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール等のような極性溶媒の存在下あるいは非存在下に行われる。また、ここで記載した液体化合物の混合物を溶媒として使用してもよい。さらに、イオン液体も、溶媒として使用可能である。なお、高い重合活性や高い分子量を得るうえでは、上述の炭化水素溶媒やイオン液体がより好ましい。
【００６８】
本発明では、公知の添加剤の存在下または非存在下で重合反応を行うことができる。添加剤としては、ラジカル重合を禁止する重合禁止剤や、生成共重合体を安定化する作用を有する添加剤が好ましい。例えば、キノン誘導体やヒンダードフェノール誘導体などが好ましい添加剤の例として挙げられる。
具体的には、モノメチルエーテルハイドロキノンや、２，６−ジ−ｔ−ブチル４−メチルフェノール（ＢＨＴ）、トリメチルアルミニウムとＢＨＴとの反応生成物、４価チタンのアルコキサイドとＢＨＴとの反応生成物などが使用可能である。
また、添加剤として、無機およびまたは有機フィラーを使用し、これらのフィラーの存在下で、重合を行っても良い。さらに、本発明に係るＬ１やイオン液体を添加剤として用いてもよい。
【００６９】
本発明における好ましい添加剤として、ルイス塩基が挙げられる。適切なルイス塩基を選択することにより、活性、分子量、アクリル酸エステルの共重合性を改良することができる。ルイス塩基の量としては、重合系内に存在する触媒成分中の遷移金属Ｍに対して、０．０００１当量〜１０００当量、好ましくは０．１当量〜１００当量、さらに好ましくは０．３当量〜３０当量である。ルイス塩基を重合系に添加する方法については、特に制限はなく、任意の手法を用いることができる。例えば、本発明の触媒成分と混合して添加してもよいし、モノマーと混合して添加してもよいし、触媒成分やモノマーとは独立に重合系に添加してもよい。また、複数のルイス塩基を併用してもよい。また、本発明に係るＬ１と同じルイス塩基を用いてもよいし、異なっていてもよい。
【００７０】
ルイス塩基としては、芳香族アミン類、脂肪族アミン類、アルキルエーテル類、アリールエーテル類、アルキルアリールエーテル類、環状エーテル類、アルキルニトリル類、アリールニトリル類、アルコール類、アミド類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、フォスフェート類、フォスファイト類、チオフェン類、チアンスレン類、チアゾール類、オキサゾール類、モルフォリン類、環状不飽和炭化水素類などを挙げることができる。
これらのうち、特に好ましいルイス塩基は、芳香族アミン類、脂肪族アミン類、環状エーテル類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類であり、なかでも好ましいルイス塩基は、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピペリジン誘導体、イミダゾール誘導体、アニリン誘導体、ピペリジン誘導体、トリアジン誘導体、ピロール誘導体、フラン誘導体である。
【００７１】
具体的なルイス塩基化合物としては、ピリジン、ペンタフルオロピリジン、２，６−ルチジン、２，４−ルチジン、３，５−ルチジン、ピリミジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、２，２′−ビピリジン、アニリン、ピペリジン、１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ピリジル）−ｓ−トリアジン、キノリン、８−メチルキノリン、フェナジン、１，１０−フェナンスロリン、Ｎ−メチルピロール、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−ウンデカ−７−エン、１，４−ジアザビシクロ−［２，２，２］−オクタン、トリエチルアミン、ベンゾニトリル、ピコリン、トリフェニルアミン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、４−メチルモルフォリン、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、フラン、２，５−ジメチルフラン、ジベンゾフラン、キサンテン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサン、ジベンゾチオフェン、チアンスレン、トリフェニルフォスフォニウムシクロペンタジエニド、トリフェニルフォスファイト、トリフェニルフォスフェート、トリピロリジノフォスフィン、トリス（ピロリジノ）ボランなどを挙げることができる。
【００７２】
本発明において、重合形式に特に制限はない。媒体中で少なくとも一部の生成重合体がスラリーとなるスラリー重合、液化したモノマー自身を媒体とするバルク重合、気化したモノマー中で行う気相重合、または、高温高圧で液化したモノマーに生成重合体の少なくとも一部が溶解する高圧イオン重合などが好ましく用いられる。また、バッチ重合、セミバッチ重合、連続重合のいずれの形式でもよい。また、リビング重合であってもよいし、連鎖移動を併発しながら重合を行ってもよい。さらに、いわゆるｃｈａｉｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ａｇｅｎｔ（ＣＳＡ）を併用し、ｃｈａｉｎ ｓｈｕｔｔｌｉｎｇや、ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｖｅ ｃｈａｉｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＣＣＴＰ）を行ってもよい。
【００７３】
未反応モノマーや媒体は、生成共重合体から分離し、リサイクルして使用してもよい。リサイクルの際、これらのモノマーや媒体は、精製して再使用してもよいし、精製せずに再使用してもよい。生成共重合体と未反応モノマーおよび媒体との分離には、従来公知の方法が使用できる。例えば、濾過、遠心分離、溶媒抽出、貧溶媒を使用した再沈などの方法が使用できる。
【００７４】
重合温度、重合圧力および重合時間に、特に制限はないが、通常は、以下の範囲から生産性やプロセスの能力を考慮して、最適な設定を行うことができる。すなわち、重合温度は、通常−２０℃〜２９０℃、好ましくは０℃〜２５０℃、共重合圧力は、０．１ＭＰａ〜３００ＭＰａ、好ましくは０．３ＭＰａ〜２００ＭＰａ、重合時間は、０．１分〜１０時間、好ましくは０．５分〜７時間、さらに好ましくは１分〜６時間の範囲から選ぶことができる。
【００７５】
本発明において、重合は、一般に不活性ガス雰囲気下で行われる。例えば、窒素、アルゴン、二酸化炭素雰囲気が使用でき、窒素雰囲気が好ましく使用される。なお、少量の酸素や空気の混入があってもよい。
重合反応器への触媒とモノマーの供給に関しても、特に制限はなく、目的に応じて、さまざまな供給法をとることができる。たとえばバッチ重合の場合、あらかじめ所定量のモノマーを重合反応器に供給しておき、そこに触媒を供給する手法をとることが可能である。この場合、追加のモノマーや追加の触媒を重合反応器に供給してもよい。また、連続重合の場合、所定量のモノマーと触媒を重合反応器に連続的に、または間歇的に供給し、重合反応を連続的に行う手法をとることができる。
【００７６】
共重合体の組成の制御に関しては、複数のモノマーを反応器に供給し、その供給比率を変えることによって制御する方法を一般に用いることができる。その他、触媒の構造の違いによるモノマー反応性比の違いを利用して共重合組成を制御する方法や、モノマー反応性比の重合温度依存性を利用して共重合組成を制御する方法が挙げられる。
【００７７】
重合体の分子量制御には、従来公知の方法を使用することができる。すなわち、重合温度を制御して分子量を制御する方法、モノマー濃度を制御して分子量を制御する方法、連鎖移動剤を使用して分子量を制御する方法、遷移金属錯体中のリガンド構造の制御により分子量を制御する等が挙げられる。連鎖移動剤を使用する場合には、従来公知の連鎖移動剤を用いることができる。例えば、水素、メタルアルキルなどを使用することができる。
また、（ｂ）成分自身が一種の連鎖移動剤となる場合には、（ｂ）成分の（ａ）成分に対する比率や、（ｂ）成分の濃度を制御することによっても、分子量調節が可能である。遷移金属錯体中のリガンド構造を制御して分子量調節を行う場合には、前記したＲ４中のヘテロ原子含有基の種類、数、配置を制御したり、金属Ｍのまわりに、かさ高い置換基を配置したり、前記したＲ１０〜Ｒ１３中にヘテロ原子を導入したりすることによって、一般に分子量が向上する傾向を利用することができる。なお、金属Ｍに対して、アリール基やヘテロ原子含有置換基などの電子供与性基が相互作用可能となるように電子供与性基を配置することが好ましい。こうした電子供与性基が金属Ｍと相互作用可能であるかどうかは、一般に、分子模型や分子軌道計算で電子供与性基と金属Ｍとの距離を測定することによって判断できる。
【００７８】
本発明の共重合体は、共重合体の極性基にもとづく効果により、良好な塗装性、印刷性、帯電防止性、無機フィラー分散性、他樹脂との接着性、他樹脂との相溶化能などが発現する。こうした性質を利用して、本発明の共重合体は、さまざまな用途に使用することができる。例えば、フィルム、シート、接着性樹脂、バインダー、相溶化剤、ワックスなどとして使用可能である。
【実施例】
【００７９】
以下の実施例および比較例において、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、実施例、比較例で用いた評価方法は、以下の通りである。また、接触生成物に用いるリガンドおよび比較例で用いる錯体の製造法を合成例に示す。
以下の合成例で、とくに断りのない限り、操作は精製窒素雰囲気下で行い、溶媒は脱水・脱酸素したものを用いた。
【００８０】
１．評価法
（１）Ｔｍ、Ｔｃ：
以下のＤＳＣ測定により求めた。
Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ社製ＰＹＲＩＳ Ｄｉａｍｏｎｄ ＤＳＣ示差走査熱量測定装置を使用して、試料（約５ｍｇ）を２１０℃で５分間融解後、１０℃／分の速度で−２０℃まで降温し、−２０℃で５分保持した後に、１０℃／分の速度で２１０℃まで昇温することにより融解曲線を得た。降温段階における主発熱ピークのピークトップ温度を結晶化温度Ｔｃとした。また、融解曲線を得るために行った最後の昇温段階における主吸熱ピークのピークトップ温度を融点Ｔｍとした。
【００８１】
（２）重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎおよび分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ：
以下のＧＰＣ測定により求めた。
はじめに、試料約２０（ｍｇ）をポリマーラボラトリー社製高温ＧＰＣ用前処理装置ＰＬ−ＳＰ２６０ＶＳ用のバイアル瓶に採取し、安定剤としてＢＨＴを含有するｏ−ジクロロベンゼン（ＢＨＴ濃度＝０．５ｇ／Ｌ）を加え、ポリマー濃度が０．１（重量％）になるように調整した。ポリマーを上記高温ＧＰＣ用前処理装置ＰＬ−ＳＰ２６０ＶＳ中で１３５℃に加熱して溶解させ、グラスフィルターにて濾過して試料を調製した。
なお、本発明におけるＧＰＣ測定において、グラスフィルターに捕捉されたポリマーはなかった。
次に、カラムとして、東ソー社製ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨ−ＨＴ（３０ｃｍ×４本）およびＲＩ検出器を装着したウォーターズ社製ＧＰＣＶ２０００を使用してＧＰＣ測定を行った。測定条件としては、試料溶液注入量：５２４．５（μｌ）、カラム温度：１３５℃、溶媒：ｏ−ジクロロベンゼン、流量：１．０（ｍｌ／ｍｉｎ）を採用した。分子量の算出は、以下のように行った。すなわち、標準試料として市販の単分散のポリスチレンを使用し、該ポリスチレン標準試料およびエチレン系重合体の粘度式から、保持時間と分子量に関する校正曲線を作成し、該校正曲線に基づいて分子量の算出を行った。
なお、粘度式としては、［η］＝Ｋ×Ｍαを使用し、ポリスチレンに対しては、Ｋ＝１．３８Ｅ−４、α＝０．７０を使用し、エチレン系重合体に対しては、Ｋ＝４．７７Ｅ−４、α＝０．７０を使用した。
【００８２】
２．リガンド合成
［合成例１］：（リガンドＢ−１１１の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１１を合成した。
【００８３】
【化８】
【００８４】
（ｉ）化合物１（５．２８ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（６０ｍＬ）にイソプロピルマグネシウムクロライド（１０ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。その後、三塩化リン（１．７ｍＬ，２５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温で２時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下にて除去した後、ＴＨＦ（５０ｍＬ）を加え、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（５．２６ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（８ｍＬ，２０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物４を含む溶液を得た。これに前段の化合物２のＴＨＦ溶液を−７８℃にて加え、室温にて３０分攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物６（２．７２ｇ，２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液を０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（８ｍＬ，２０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を滴下し、室温にて２時間攪拌した。これに前段の化合物５の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加えて水槽を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、生成物７を得た（６．０ｇ，１０．６ｍｍｏｌ）。
（ｉｖ）化合物７（２．８３ｇ，５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３０ｍＬ）に５０℃で溶解させ、０℃に冷却した後、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２ｍＬ，５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を滴下し、室温で２時間攪拌した。次に、ヘキサフルオロベンゼン（２．３ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＰＥ／ＥＡ＝１０：１）で精製し、化合物８（０．５ｇ，０．７ｍｍｏｌ）を得た。
（ｖ）化合物８（５．２ｇ，７．３ｍｍｏｌ）に１規定塩酸の酢酸エチル溶液（８０ｍＬ）を０℃にて加え、徐々に室温まで昇温した後、１．５時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、残渣を飽和重曹水溶液にて中和し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧乾燥すると化合物Ｂ−１１１が得られた（４．１ｇ，６．０ｍｍｏｌ）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．６０（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｍ，６Ｈ），７．０４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９８（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｄｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，０．７６Ｈｚ，１Ｈ），６．６３（ｍ，５Ｈ），６．３９（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，３．０Ｈｚ，２Ｈ），３．５８（ｓ，６Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５９．１（ｓ）．
【００８５】
［合成例２］：（リガンドＢ−１１２の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１２を合成した。
【００８６】
【化９】
【００８７】
（ｉ）化合物１（１０ｇ，４０ｍｍｏｌ）、金属マグネシウム（１．１５ｇ，４８ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン数滴にＴＨＦ（９０ｍＬ）を加え、室温で２時間攪拌した。未反応の金属マグネシウムを濾過により除去し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（１０．５６ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍＬ）にイソプロピルマグネシウムクロライド（２０ｍＬ，４０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。その後、三塩化リン（３．４ｍＬ，５０ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて２時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下に除去し、５０ｍＬのＴＨＦを新たに加え、化合物４の溶液とした。ここに、前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温で３０分間攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物６（５．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１６ｍＬ，４０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温で２時間攪拌した。これに前段の化合物５の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝３：１）にて精製し、化合物７（６．５ｇ，１３．７ｍｍｏｌ）を得た。
（ｉｖ）化合物７（６．５ｇ，１３．７ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解し、これに０℃にてｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（５．５ｍＬ，１３．７ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を滴下し、室温で２時間攪拌した。ここに−７８℃にてヘキサフルオロベンゼン（６．３ｇ，３４．２ｍｍｏｌ）を滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝５０：１）にて精製し、化合物８（６．２ｇ，８．５ｍｍｏｌ）を得た。
（ｖ）化合物８（６．２ｇ，８．５ｍｍｏｌ）に１規定塩酸の酢酸エチル溶液（８０ｍＬ）を０℃にて加え、徐々に室温まで昇温しつつ、１．５時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、残渣を飽和重曹水溶液にて中和し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、溶媒を減圧下にて除去するとＢ−１１２（５．２ｇ，７．６ｍｍｏｌ）が得られた。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．６９（ｍ，１Ｈ），７．３２（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．２０（ｍ，４Ｈ），７．１１（ｍ，２Ｈ），６．７８（ｄｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，５．０Ｈｚ，１Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），６．５３（ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．８Ｈｚ，２Ｈ），３．６４（ｓ，６Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５１．４（ｓ）．
【００８８】
［合成例３］：（リガンドＢ−１１３の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１３を合成した。
【００８９】
【化１０】
【００９０】
（ｉ）金属マグネシウム（１ｇ，４０ｍｍｏｌ），１，２−ジブロモエタン（０．２ｍＬ），ＴＨＦ（５０ｍＬ）の混合物に、化合物１（７．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）を室温にて滴下し、室温にて３時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（５．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６ｍＬ，４０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌した。ここに三塩化リン（１７．４ｍＬ，２００ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて１時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下に除去し、残渣にＴＨＦ（１００ｍＬ）を加え、化合物４を含む溶液を得た。ここに前段の化合物２を含む溶液を−７８℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物６（１０．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（７０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１６ｍＬ，４０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温して２時間攪拌した。ここに前段の化合物５を含む溶液を−３０℃にて滴下し、室温にて終夜攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相を減圧下にて濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝３０：１）にて精製し、化合物７（３．２ｇ，５．９ｍｍｏｌ）を得た。
（ｉｖ）化合物７（３．２ｇ，５．９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．４ｍＬ，６ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温にて２時間攪拌した。ここにヘキサフルフルオロベンゼンを０℃にて加え、室温にて５時間攪拌した。メタノールを加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝５０：１）にて精製し、化合物８を得た。
（ｖ）化合物８（６．７ｇ，９．５ｍｍｏｌ）に４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１００ｍＬ）を−７８℃にて加えて１５分間攪拌し、徐々に室温まで昇温した後にさらに２時間攪拌した。減圧下にて溶媒を除去し、酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え、飽和重曹水溶液（１００ｍＬ）を加えて中和し、水相を分離した。油相を硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝４０：１）にて精製し、化合物Ｂ−１１３（４．５ｇ，６．８ｍｍｏｌ）を得た。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．５８（ｄｔ，Ｊ＝９．８Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２７−７．１０（ｍ，８Ｈ），７．０２（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），６．８６（ｍ，３Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝７．８０Ｈｚ，４Ｈ），６．６２（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２．５Ｈｚ，２Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５２．１（ｓ）．
【００９１】
［合成例４］：（リガンドＢ−１１４の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１１４を合成した。
【００９２】
【化１１】
【００９３】
（ｉ）化合物１（２．６２ｇ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（４ｍＬ，１０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）金属マグネシウム（１ｇ，４０ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン（０．２ｍＬ）、ＴＨＦ（５０ｍＬ）の混合物に、化合物３（７．５ｇ，４０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（５０ｍＬ）を室温にて滴下し、３時間攪拌した。ここに三塩化リン（２．６ｍＬ，３０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）を−７８℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌した。溶媒および過剰の三塩化リンを減圧下に除去し、新たにＴＨＦ（５０ｍＬ）を加え、化合物４の溶液を得た。ここに前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて２時間攪拌して、化合物５の溶液とした。
（ｉｉｉ）化合物６（４．２ｇ，３０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（４０ｍＬ）にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１２ｍＬ，３０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温して１時間攪拌した。ここに前段の化合物５の溶液を−３０℃にて滴下し、室温にて終夜攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、酢酸エチルを加えて水相を分離した。油相をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝５０：１）にて精製し、化合物７（２．０ｇ，３．３ｍｍｏｌ）を得た。
（ｉｖ）化合物７（５．５ｇ，９．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液にｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（３．７ｍＬ，９．２ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて滴下し、室温で２時間攪拌した。ここにヘキサフルオロベンゼンを０℃にて加え、室温にて１６時間攪拌した。メタノールを加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝１００：１）にて精製し、化合物８（１．６ｇ，２．１ｍｍｏｌ）を得た。
（ｖ）化合物８（６ｇ，７．８ｍｍｏｌ）に４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１００ｍＬ）を０℃にて加え１５分間攪拌し、さらに室温にて２時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチル（５０ｍＬ）を加えた。ここに飽和重曹水溶液（５０ｍＬ）を加えて３０分間攪拌することで酸を中和し、後に水相を分離した。油相を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて溶媒を除去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝４０：１）にて精製し、化合物Ｂ−１１４（５．０ｇ，６．９ｍｍｏｌ）を得た。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．６８（ｄｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３０−７．０９（ｍ，１０Ｈ），７．０９−６．９３（ｍ，５Ｈ），６．８９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｍ，１Ｈ），６．５８（ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．５Ｈｚ，２Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５２．７（ｓ）．
【００９４】
［合成例５］：（リガンドＢ−１６３の合成）
２−｛［４−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）−２，６−ジフェノキシフェニル］［４−（Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ）−２，６−ジメトキシフェニル］ホスファノ｝−６−（パーフルオロフェニル）フェノール（以下、リガンドＢ−１６３）の合成
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１６３を合成した。
【００９５】
【化１２】
【００９６】
（ｉ）化合物１（５．４ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（６ｍＬ，１５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（３．６ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（６ｍＬ，１５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物４を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）化合物５（４．５ｇ，１５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）に、イソプロピルマグネシウムクロライドのＴＨＦ溶液（７．５ｍＬ，１５ｍｍｏｌ，２．０Ｍ）を−３０℃にて加え、０℃にて２時間攪拌した。当該反応液に三塩化リン（３．９ｍＬ，４５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて１時間攪拌した。過剰の三塩化リンおよび溶媒を減圧下にて除去し、新たにＴＨＦ（３０ｍＬ）を加え、化合物６を含む溶液を得た。当該溶液に前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌し、次いで当該反応液に前段の化合物４の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、残液を酢酸エチルで抽出して水層を分離した。有機層を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、化合物７を得た（２．０ｇ，２．４ｍｍｏｌ）。当工程を繰り返すことで、４．２ｇの化合物７を得た。
（ｉｖ）化合物７（３．２ｇ，３．８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１５ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１．６ｍＬ，４．０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を−７８℃にて滴下し、同温度にて１時間攪拌した。当該反応液にヘキサフルオロベンゼン（１．８ｇ，９．５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて滴下し、室温にて１４時間攪拌した。氷水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、残液を酢酸エチルで抽出して水層を分離した。有機層を硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル／酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、化合物８を得た（１．４ｇ，１．５ｍｍｏｌ）。当工程を繰り返すことで、２．３ｇの化合物８を得た。
（ｖ）化合物８（２．３ｇ，２．５ｍｍｏｌ）の酢酸エチル溶液（１０ｍＬ）に、４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１５ｍＬ）を０℃にて滴下し、室温にて３時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、残渣に飽和重曹水溶液を加えて酸を中和し、さらに酢酸エチルを加えて水層を分離した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮することで、化合物Ｂ−１６３を得た（２．０ｇ，２．３ｍｍｏｌ）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．５７（ｄｄ，Ｊ＝１１．２，７．６Ｈｚ、１Ｈ），７．１７（ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，４Ｈ），７．０１（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），６．９４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，５Ｈ），６．０９（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，２Ｈ），５．８３（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，２Ｈ），３．７９（ｄｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．６５（ｄｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．５５（ｓ，６Ｈ），１．２６（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１２Ｈ），１．０９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１２Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−６１．９（ｓ）．
【００９７】
［合成例６］：（リガンドＢ−１６５の合成）
下記のスキームにしたがって、リガンドＢ−１６５を合成した。
【００９８】
【化１３】
【００９９】
（ｉ）化合物１（１．３ｇ，５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１０ｍＬ）に、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２ｍＬ，５ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）を０℃にて加え、室温にて２時間攪拌し、化合物２を含む溶液を得た。
（ｉｉ）化合物３（１．６ｇ，５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）に、イソプロピルマグネシウムクロライド（２．５ｍＬ，５ｍｍｏｌ）を−３０℃にて加え、室温にて２時間攪拌した。ここに三塩化リン（１．３ｍＬ，１５ｍｍｏｌ）を−７８℃にて加え、室温にて２時間攪拌した。過剰の三塩化リンおよび溶媒を減圧下にて除去し、新たにＴＨＦ（１５ｍＬ）を加え、化合物４を含む溶液を得た。ここに前段の化合物２の溶液を−７８℃にて滴下し、室温にて１時間攪拌し、化合物５を含む溶液を得た。
（ｉｉｉ）ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（２．０ｍＬ，５．０ｍｍｏｌ，２．５Ｍ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）に、化合物６（２．１ｇ，５．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）を−７８℃にて滴下し、同温度で１時間攪拌した。次に−７８℃のまま前段の化合物５の溶液を滴下し、室温にて１６時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、溶媒を減圧下にて除去し、新たに酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。残渣を石油エーテルと酢酸エチルの混合溶媒中で再結晶精製し、化合物７を得た。
（ｉｖ）化合物７（０．５ｇ，０．６６ｍｍｏｌ）の酢酸エチル溶液（１０ｍＬ）に、４規定塩酸の酢酸エチル溶液（１０ｍＬ）を０℃にて滴下し、室温にて１．５時間攪拌した。溶媒を減圧下にて除去し、飽和重曹水溶液を加えて酸を中和し、酢酸エチルを加え、水相を分離した。油相を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下にて濃縮した。残渣を石油エーテルと酢酸エチルの混合溶媒中で再結晶精製し、化合物Ｂ−１６５を得た（０．３ｇ，０．４８ｍｍｏｌ）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：８．０８（ｍ，２Ｈ），７．８３（ｄｄ，Ｊ＝７．３，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４０−７．１５（ｍ，１１Ｈ），７．０３（ｑ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，３Ｈ），６．７５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，４Ｈ），６．６１（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，３．０Ｈｚ，２Ｈ），６．４４（ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，３．０Ｈｚ，２Ｈ），３．６１（ｓ，６Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）−５８．４（ｓ）．
【０１００】
［合成例７］：２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェノール配位子（Ｂ−１４）の合成
（１）２，６−ジメトキシヨードベンゼン（Ｂ−１４−２）の合成
脱水ＴＨＦ（５００ｍＬ）に２，６−ジメトキシベンゼン（Ｂ−１４−１，５０ｇ，０．３６ｍｏｌ）を溶解させた。ここに、窒素雰囲気下でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１６６ｍＬ，０．４２ｍｏｌ）を０℃で徐々に加えた。ここで得られた溶液に、脱水ＴＨＦ（２００ｍＬ）に溶解させたヨウ素（９６．５ｇ，０．３８ｍｏｌ）の溶液を０℃で４０分間かけて滴下した。得られた溶液を室温で終夜攪拌した。終了後、メタノール（８０ｍＬ）を滴下し、得られた混合物を減圧下に濃縮し、水（２００ｍＬ）を加えた後、酢酸エチル（３ｘ２５０ｍＬ）で抽出した。有機層を集め、Ｎａ２Ｓ２Ｏ３および食塩水で該有機層を洗浄した後、硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。
乾燥後、無機塩を濾別し、減圧下に濃縮を行い、残渣をメタノール（５０ｍＬ）で４回洗浄して乾燥させたところ、２，６−ジメトキシヨードベンゼン（Ｂ−１４−２）が黄色の固体として得られた（６３ｇ，０．２４ｍｏｌ，６６％収率）。
【０１０１】
（２）ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィンクロリド（Ｂ−１４−４）の合成
上記で得られた化合物（Ｂ−１４−２，５ｇ，１８．９ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦに溶解させ、イソプロピルマグネシムクロライドのＴＨＦ溶液（９．５ｍＬ，２．０Ｍ，１９．０ｍｍｏｌ）を−５０℃で徐々に添加し、得られた混合物を室温で１時間攪拌した。
次に、該混合物を−７８℃に冷却し、三塩化リン（１．３ｇ，９．５ｍｍｏｌ）をゆっくり添加した。その後、室温で終夜攪拌し、得られたビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィンクロリド（Ｂ−１４−４）を含む反応中間体は、精製することなく次の反応に使用した。
【０１０２】
（３）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−１４−８）の合成
２−ｔ−ブチルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−１４−５，１．８４ｇ，９．５ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解させ、窒素雰囲気下でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（４．２ｍＬ，１０．５ｍｍｏｌ）を０℃で徐々に加えた。同温度で３０分間攪拌した後、徐々に昇温し、室温で１．５時間攪拌した。
次いで、該溶液に、上記で得られた化合物（Ｂ−１４−４）のＴＨＦ溶液を−７８℃で滴下し、得られた反応混合物を室温で終夜攪拌した。終了後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出を行い、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。無機塩を濾別して有機層を減圧下に濃縮した。
得られた残渣をシリカゲルカラムで精製したところ、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−１４−８，２．５ｇ，５．０ｍｍｏｌ，５３％収率）が得られた。この合成をスケールアップして同様の反応を行い、化合物（Ｂ−１４−８）を１２ｇ得た。
【０１０３】
（４）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ｔ−ブチルフェノール配位子（Ｂ−１４）の合成
上記で合成した化合物（Ｂ−１４−８，１２ｇ，２４ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（５０ｍＬ）に溶解させ、塩化水素で飽和させたジエチルエーテル（１００ｍＬ）溶液を−４０℃で添加した。同温度で１時間攪拌した後、室温まで徐々に昇温させ、室温でさらに１時間攪拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、Ｂ−１４塩酸塩を灰色がかった白色固体として得た。
ここで得られた塩酸塩をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解させ、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２５０ｍＬ）をゆっくり加えた。室温で３０分間攪拌した後、ジクロロメタン（３ｘ１５０ｍＬ）で抽出を行った。有機層を集めて硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥後、無機塩を濾別し、減圧下に濃縮し、残渣を石油エーテル（５０ｍＬ）で２回洗浄し、目的とする配位子（Ｂ−１４）を灰色がかった白色固体として得た（６．０ｇ，１３．２ｍｍｏｌ，５５％収率）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，δ，ｐｐｍ）：７．３０（ｄｔ，Ｊ＝９．１，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．１５（ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），６．６５（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄｄ，Ｊ＝８．３，３．０Ｈｚ，４Ｈ），３．５１（ｓ，１２Ｈ），１．３６（ｓ，９Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２，δ，ｐｐｍ）−６１．６（ｓ）．
【０１０４】
［合成例８］：２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノール配位子（Ｂ−２７ＤＭ）の合成
（１）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノフェニルメトキシメチルエーテル（（Ｂ−２７ＤＭ−５）の合成
フェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−４，２．８７ｇ，２０．８ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（２０ｍＬ）に溶解させ、ｎ−ブチルリチウム（８．３ｍＬ，２０．８ｍｍｏｌ）のｎ−ヘキサン溶液に、０℃で滴下した。得られた混合物を０℃で３０分攪拌した後、室温まで昇温し、室温で２時間攪拌した。この反応溶液に、合成例７（２）と同様に得られた化合物（Ｂ−１４−４）のＴＨＦ溶液（２０．８ｍｍｏｌ，１５０ｍＬ）を０℃で添加し、さらに室温で終夜攪拌を行った。反応液を水でクエンチし、減圧下にＴＨＦを除去した。得られた混合物からジクロロメタンで抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。さらに、有機層に硫酸ナトリウムを加えて脱水し、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を除去して濃縮した。
得られた粗生成物を、ジクロロメタンを展開液としてシリカゲルカラムで精製し、ジクロロメタンを除去して、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−５）の白色固体を得た。
【０１０５】
（２）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−６）の合成
上記で得られた化合物（Ｂ−２７ＤＭ−５，３．２ｇ，７．２ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解させた。この溶液に、ｎ−ブチルリチウム（２．９ｍＬ，７．２ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。得られた反応溶液を攪拌しながら昇温し、室温で２時間攪拌した。
次いで溶液を−７８℃に冷却し、ヘキサフルオロベンゼン（４．２ｍＬ，３６ｍｍｏｌ）をゆっくり加えた。溶液を攪拌しながら室温まで昇温し、室温で終夜攪拌を行った。水を加えて反応をクエンチし、減圧下に溶媒を除去した。固体残渣に対してジクロロメタンで抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。
次いで有機層を硫酸ナトリウムで脱水させ、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を除去して濃縮した。粗生成物を、石油エーテル／酢酸エチル（７／１，ｖ／ｖ）の混合溶液を展開液として、シリカゲルカラムで精製することで、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−２７ＤＭ−６）を得た（１．２ｇ，２．０ｍｍｏｌ，２８％収率）。同様な操作を行い、化合物（Ｂ−２７ＤＭ−６）を６．７ｇ得た。
【０１０６】
（３）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノールの塩酸塩（Ｂ−２７ＤＭＨＣｌ）の合成
上記で得られた化合物（Ｂ−２７ＤＭ−６，５．５ｇ，９．０ｍｍｏｌ）を、塩化水素の酢酸エチル溶液（４Ｍ，１００ｍＬ）に０℃で加えた。得られた混合物を徐々に室温まで昇温し、引き続き室温で１．５時間攪拌を行った。減圧下に酢酸エチルを除去したところ、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノールの塩酸塩（Ｂ−２７ＤＭＨＣｌ）が白色固体として得られた。
【０１０７】
（４）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノール配位子（Ｂ−２７ＤＭ）の合成
塩酸塩（Ｂ−２７ＤＭＨＣｌ，５．０ｇ，７．７ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２００ｍＬ）および酢酸エチル（１００ｍＬ）の混合物を室温、アルゴン雰囲気下で２時間攪拌した。得られた反応混合物より、酢酸エチルで目的化合物を抽出し、有機層を食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで脱水した後、硫酸ナトリウムを濾別し、減圧下に溶媒を除去した。
粗生成物を石油エーテルと酢酸エチルの混合溶媒で洗浄し、目的とする２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノール配位子（Ｂ−２７ＤＭ）を白色固体として得た（２．８ｇ，５．０ｍｍｏｌ，６０％収率）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．７２（ｄｑ，Ｊ＝７．６，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｂｒ（ｓ），１Ｈ），７．２１（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），７．０９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８７（ｄｔ，Ｊ＝７．６，１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．４８（ｄｄ，Ｊ＝８．３，３．０Ｈｚ，４Ｈ），３．３６（ｓ，１２Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：−５９．１（ｓ）．
【０１０８】
［合成例９］：２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノール配位子（Ｂ−５６ＤＭ）の合成
（１）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−５６ＤＭ−６）の合成
フェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−５６ＤＭ−４，３．１６ｇ，２２．９ｍｍｏｌ）を脱水ＴＨＦ（５０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。０℃でｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（９．１ｍＬ，２２．８ｍｍｏｌ）を滴下し、０℃で３０分攪拌した。攪拌しながら室温まで昇温し、室温でさらに２時間攪拌した。０℃に冷却し、トリメチルシリルクロライド（２．９０ｍＬ，２２．８ｍｍｏｌ）を加えた後、室温で１時間攪拌した。再び０℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（９．１ｍＬ，２２．８ｍｍｏｌ）を０℃で滴下した。攪拌しながら室温まで昇温し、室温で２時間攪拌した。再度０℃に冷却し、合成例７（２）と同様に合成した化合物（Ｂ−１４−４）のＴＨＦ溶液（２２．８ｍｍｏｌ，１５０ｍＬ）を０℃で加え、得られた反応混合物を室温で終夜攪拌した。１０％水酸化ナトリウム水溶液で反応をクエンチし、減圧下にＴＨＦを除去した。酢酸エチルを用いて抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで脱水し、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を留去して濃縮した。
粗生成物を、石油エーテル／酢酸エチル（１０／１，ｖ／ｖ）を展開液としてシリカゲルカラムにて精製し、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェニルメトキシメチルエーテル（Ｂ−５６ＤＭ−６）の白色固体を得た（３．６ｇ，７．０ｍｍｏｌ，３１％収率）。同様な操作を繰返し、化合物（Ｂ−５６ＤＭ−６）を７．４ｇ得た。
【０１０９】
（２）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノールの塩酸塩（Ｂ−５６ＤＭＨＣｌ）の合成
塩化水素の酢酸エチル溶液（２Ｍ，１００ｍＬ）に、化合物（Ｂ−５６ＤＭ−６，７．４ｇ，１４．４ｍｍｏｌ）を０℃で添加した。得られた混合物を徐々に室温まで昇温し、室温で１．５時間攪拌した。減圧下に酢酸エチルを除去し、２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノールの塩酸塩（Ｂ−５６ＤＭＨＣｌ）の白色固体を得た。
【０１１０】
（３）２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノール配位子（Ｂ−５６ＤＭ）の合成
上記の塩酸塩（Ｂ−５６ＤＭＨＣｌ，７．２ｇ，１４．２ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液（２００ｍＬ）、および酢酸エチル（１５０ｍＬ）の混合物をアルゴン雰囲気下で２時間攪拌した。酢酸エチルを用いて抽出操作を行い、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで脱水し、硫酸ナトリウムを濾別した後、減圧下に溶媒を除去して濃縮した。
得られた粗生成物を、さらに減圧下、３時間乾燥させ、目的とする２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−トリメチルシリルフェノール配位子（Ｂ−５６ＤＭ）を得た（６．３ｇ，１３．４ｍｍｏｌ，９４％収率）。
１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：７．５４（ｍ，１Ｈ），７．２６（ｄｄ，Ｊ＝７．１，１．５Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｔ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２Ｈ），６．９６（ｓ（ｂｒ），１Ｈ），６．７５（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），６．４６（ｄｄ，Ｊ＝８．３，３．０Ｈｚ，４Ｈ），３．５２（ｓ，１２Ｈ），０．２４（ｓ，９Ｈ）；３１ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ，ｐｐｍ）：−６０．４（ｓ）．
【０１１１】
［実施例１〜４］
リガンドＢ−１１１を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
以下の操作は、すべて高純度アルゴン雰囲気下で行った。以下、ビス−１，５−シクロオクタジエンニッケル（０）をＮｉ（ＣＯＤ）２と称する。
初めに４ｍｌのスクリューキャップ付きバイアル瓶に、合成例１で得られたＢ−１１１（３５ｍｇ）を秤り取った。
次に、Ｎｉ（ＣＯＤ）２（２８ｍｇ）を２０ｍｌのバイアル瓶に秤り取り、トルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、１０ｍＭのＮｉ（ＣＯＤ）２トルエン溶液を調製した。得られた溶液は、黄色透明であった。ここで得られたＮｉ（ＣＯＤ）２トルエン溶液（５．０ｍｌ）を、Ｂ−１１１を有するバイアル瓶に加え、スクリューキャップで密閉した後、３０秒間振って攪拌し、溶液を得た。その後、溶液の色が次第に暗黄色から赤色に変化し、沈殿は見られなかった。室温で３時間静置した後、得られた溶液０．５ｍｌを２ｍｌのバイアル瓶に分取し、トルエン（１．５ｍｌ）で希釈し、Ｂ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２の反応生成物の２．５ｍＭ溶液を得た。ここで、反応生成物の濃度は、Ｂ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２が１対１で反応してニッケル錯体を形成しているとして計算した。
【０１１２】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
内容積２Ｌの誘導攪拌式オートクレーブに、乾燥トルエン（１Ｌ）およびコノモノマーとして所定量のアクリル酸エステルを導入した。なお、エチレンのホモ重合を行う場合には、アクリル酸エステルの仕込みは行わなかった。攪拌しながらオートクレーブを所定温度に昇温した後、エチレンをオートクレーブに供給し、温度と圧力が所定の条件になるように調整した。調整終了後、上記（１）で得られた反応生成物を所定量供給し、共重合を開始させた。所定時間重合させた後、エタノールを投入して反応を停止させた。未反応ガスを除去した後、オートクレーブを開放し、濾過、溶媒洗浄、加熱乾燥を行い、共重合体を得た。
共重合に用いたコモノマーの種類と量については、表２に記載した。なお、コモノマーは、Ａｌｄｒｉｃｈ社製のＡｌｄｒｉｃｈＩｎｈｉｂｉｔｏｒＲｅｍｏｖｅｒを充填したカラムを用いて、高純度アルゴン雰囲気下、室温で精製した後に使用した。また、重合に用いたトルエン量、重合温度、重合中のオートクレーブ内圧についても、表２に記載した。
表２において、ｔＢＡはアクリル酸ｔブチルを示す。また、活性Ｖｐは、重合に用いた錯体１ｍｏｌあたり、重合時間１時間あたりの共重合体収量（ｋｇ）を表す。なお、Ｖｐは、Ｂ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２が１対１で反応してニッケル錯体を形成しているとして計算した。得られた重合体に関するＧＰＣおよびＤＳＣ測定結果についても、表２に記載した。
【０１１３】
［実施例５］
リガンドＢ−１１２を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例２で得られたＢ−１１２（３０ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１１４】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１１５】
［実施例６、７］
リガンドＢ−１１３を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例３で得られたＢ−１１３（３３ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして錯体の形成を行った。
【０１１６】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１１７】
［実施例８］
リガンドＢ−１１４を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例４で得られたＢ−１１４（３６ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１１８】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１１９】
［実施例９］
リガンドＢ−１６３を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例５で得られたＢ−１６３（４４ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２０】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１２１】
［実施例１０］
リガンドＢ−１６５を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例６で得られたＢ−１６５（３６ｍｇ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２２】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表２に示す。
【０１２３】
［比較例１］
Ｂ−１４を用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例７で得られたＢ−１４（２３ｍｇ）を使用した以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２４】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にしてエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表３に示す。表３の記載項目については、表２と同様である。
【０１２５】
［比較例２］
Ｂ−２７ＤＭを用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例８で得られたＢ−２７ＤＭ（２８ｍｇ）を使用した以外は、実施例１と同様にして錯体の形成を行った。
【０１２６】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表３に示す。
【０１２７】
［比較例３、４］
Ｂ−５６ＤＭを用いるエチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
（１）錯体の形成
リガンドとして合成例９で得られたＢ−５６ＤＭ（２４ｍｇ）を使用した以外は、実施例１と同様にして、錯体の形成を行った。
【０１２８】
（２）エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合
錯体として上記（１）で得られた化合物を用いた以外は、実施例１と同様にして、エチレンのホモ重合およびエチレン・アクリル酸エステルの共重合を行った。結果を表３に示す。
【０１２９】
【表２】
【０１３０】
【表３】
【０１３１】
表２、３により、本発明の一般式（Ａ）で表される金属錯体は、一般式（Ａ）におけるＲ４とＲ５には、互いに異なって、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を有することにより、高活性で、比較的分子量の高い重合体が得られていることがわかる。例えば、リガンドＢ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２との反応生成物のニッケル錯体を用いた実施例１と、リガンドＢ−１４とＮｉ（ＣＯＤ）２との反応生成物のニッケル錯体を用いた比較例１との対比から、リガンドＢ−１４（Ｘ１がＯＨ基、Ｒ１３がｔＢｕ基）でのＲ４とＲ５が同一である比較例１に比べて、実施例１は、リガンドＢ−１１１（Ｘ１がＯＨ基、Ｒ１３がＣ６Ｆ６基）でのＲ４とＲ５が互いに異なっているヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を有することにより、高活性で、Ｍｗが高い重合体が得られていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
本発明の金属錯体からなる重合触媒は、希少かつ高価なパラジウムの代わりに、ニッケルを金属中心とした触媒であって、本発明の金属錯体からなる重合触媒を用いることにより、高活性で、工業的に容易に、α−オレフィン重合体や、（メタ）アクリル酸エステルとα−オレフィンとの共重合体が製造可能となり、かつ、本発明で得られる重合体や共重合体は、機械的・熱的物性に優れ、有用な成形体として応用可能であるため、産業上にきわめて有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ａ）で表される金属錯体。
【化１】
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基を表し、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウムを表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２またはＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環または酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【請求項２】
一般式（Ａ）中、Ｒ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表すことを特徴とする請求項１に記載の金属錯体。
【請求項３】
一般式（Ａ）中、Ｒ４及びＲ５は、いずれもヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基であることを特徴とする請求項１又は２に記載の金属錯体。
【請求項４】
一般式（Ａ）中、Ｍは、ニッケル、パラジウム、白金、コバルトまたはロジウムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体。
【請求項５】
一般式（Ａ）中、Ｍは、周期律表第１０族に属する遷移金属であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体。
【請求項６】
下記一般式（Ｂ）又は（Ｃ）で表される化合物と、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを接触させることにより得られることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体の製造方法。
【化２】
［式（Ｂ）又は（Ｃ）中、Ｚは、水素原子または脱離基を表し、ｍは、Ｚの価数を表す。Ｘ１、Ｅ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、請求項１に前記した通りである。］
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体の存在下、α−オレフィンを重合することを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法。
【請求項８】
有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とする請求項７に記載のα−オレフィン重合体の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体の存在下、α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合することを特徴とするα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法。
【請求項１０】
有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とする請求項９に記載のα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法。
【請求項１】
下記一般式（Ａ）で表される金属錯体。
【化１】
［式中、Ｍは、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を表す。Ｒ３は、水素原子または炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、Ｍに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素または硫黄を表す。Ｅ１は、リン、砒素またはアンチモンを表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表し、Ｒ４とＲ５は、互いに異なる。Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’またはエポキシ含有基を表し、Ｒ１３は、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウムまたはフォスフォニウムを表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２またはＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環または酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【請求項２】
一般式（Ａ）中、Ｒ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を一つ以上含有する炭化水素基、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＣＮ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２またはＰ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’を表すことを特徴とする請求項１に記載の金属錯体。
【請求項３】
一般式（Ａ）中、Ｒ４及びＲ５は、いずれもヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基であることを特徴とする請求項１又は２に記載の金属錯体。
【請求項４】
一般式（Ａ）中、Ｍは、ニッケル、パラジウム、白金、コバルトまたはロジウムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体。
【請求項５】
一般式（Ａ）中、Ｍは、周期律表第１０族に属する遷移金属であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体。
【請求項６】
下記一般式（Ｂ）又は（Ｃ）で表される化合物と、周期律表の９族、１０族または１１族に属する遷移金属を含む遷移金属錯体（Ｄ）とを接触させることにより得られることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体の製造方法。
【化２】
［式（Ｂ）又は（Ｃ）中、Ｚは、水素原子または脱離基を表し、ｍは、Ｚの価数を表す。Ｘ１、Ｅ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、請求項１に前記した通りである。］
【請求項７】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体の存在下、α−オレフィンを重合することを特徴とするα−オレフィン重合体の製造方法。
【請求項８】
有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とする請求項７に記載のα−オレフィン重合体の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の金属錯体の存在下、α−オレフィンと（メタ）アクリル酸エステルとを共重合することを特徴とするα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法。
【請求項１０】
有機アルミニウム化合物の非存在下で重合を行うことを特徴とする請求項９に記載のα−オレフィン・（メタ）アクリル酸エステル共重合体の製造方法。
【公開番号】特開２０１３−４３８７１（Ｐ２０１３−４３８７１Ａ）
【公開日】平成２５年３月４日（２０１３．３．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１８３７６０（Ｐ２０１１−１８３７６０）
【出願日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【出願人】（３０３０６０６６４）日本ポリエチレン株式会社 (233)
【出願人】（５９６１３３４８５）日本ポリプロ株式会社 (577)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月４日（２０１３．３．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年８月２５日（２０１１．８．２５）
【出願人】（３０３０６０６６４）日本ポリエチレン株式会社 (233)
【出願人】（５９６１３３４８５）日本ポリプロ株式会社 (577)
【Ｆターム（参考）】
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