【課題】本発明は、プレス成形により光学素子を製造する際に、光学素子の偏心精度を高めることができる光学素子用成形型を提供する。
【解決手段】対向面が光学素子の成形面とされた一対の上型２及び下型３と、上型２及び下型３がそれぞれ上下方向から摺動可能に挿入され、上型２及び下型３を同軸上に規制する内胴４と、上型２及び下型３間を互いに接近させるプレス手段間の距離を規制する外胴５と、を有するプレス成形用の光学素子用成形型において、下型３及び内胴４の下端には、プレス成形時に外胴の下端に押圧されて互いに圧接するフランジ３ａ，４ａがそれぞれ設けられており、外胴５の側面にはフランジ５ａが設けられ、該外胴のフランジ５ａ上には、プレス成形時に外胴５とプレス手段の上部加圧面との間に弾撥力を生じさせるコイルスプリング６が嵌挿されている光学素子用成形型１。 （もっと読む）

【課題】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が寸法精度よく形成された硬化物質を含む微細構造体を、生産性よく、大面積で製造する方法の提供。
【解決手段】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が形成された硬化物質を含む微細構造体の製造方法において、前記硬化性物質を含む溶液が、式Ｓｉ（Ｘ^１）_４で表される４官能シラン、式ＲＳｉ（Ｘ^２）_３で表される３官能シラン、含フッ素界面活性剤、有機溶剤、および水を含み、かつ、前記４官能シランに対する前記３官能シランのモル比が、０．０３〜１である。Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒは炭素数が１〜１０の置換または非置換の１価有機基（ただし、ケイ素原子と結合する原子は炭素原子である）。 （もっと読む）

【課題】高速通信が可能なプラスチック光ファイバを一体にし、半導体集積光素子との接続を容易にするマルチコアプラスチック光ファイバを提供すること。
【解決手段】少なくとも内層と外層とを有し、内層には複数本の屈折率分布型光伝送単位が配置され、内層は少なくとも１面の略平面部分を有し、内層と外層との間に離形層が設けられているマルチコアプラスチック光ファイバである。前記各伝送単位の外径が５０〜２５０μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、成形装置のプレート内の温度差を生じにくいように均熱化し、この均熱化によって、高精度の光学素子を歩留まり良く製造する光学素子の成形装置を提供する。
【解決手段】上型と下型の間に光学素子成形素材が置かれた成形型を、チャンバー内に設けた加熱、プレス成形及び冷却の各ステージへ順次搬送して光学素子を成形する光学素子の成形装置であって、加熱、プレス成形及び冷却の各ステージ３〜５における下側のプレート３ｂ〜５ｂとチャンバー２の底板との間に、プレート側に断熱板３ｃ〜５ｃを介して冷却板１０を配置し、プレートの少なくとも１つにおいて、断熱板を該下側のプレートから冷却板への時間当たりの熱移動量をプレートの高温部で大きく、低温部で小さくしたものである光学素子の成形装置１。 （もっと読む）

【課題】ＨＣＦＣの代替化合物を用いた処理液のアルコール濃度を一定に維持でき、水が付着した物品の水切り乾燥を安定して実施できる水切り乾燥方法、および水切り乾燥システムの提供を目的とする。
【解決手段】水が付着した物品と、特定の含フッ素エーテルを主成分とし、アルコール類を含む処理液４１とを接触させて物品から水を分離し、該物品を乾燥させる水切り乾燥工程と、処理液４１をエーテル層（ａ１）と水層（ｂ１）に二層分離する工程と、エーテル層（ａ１）に、前記アルコール類を含むアルコール濃度４０〜６０質量％のアルコール水溶液（ｃ）を接触させて、アルコール濃度を調整したエーテル層（ａ２）を得る工程と、前記エーテル層（ａ２）を処理液４１として供給する工程と、を有する水切り乾燥方法。また、該水切り乾燥方法を実施できる水切り乾燥システム。 （もっと読む）

【課題】比較的短時間の熱処理で脈理が抑制されたＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を得ることができるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体の製造方法の提供。
【解決手段】（ａ）ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を得る工程、（ｂ）前記多孔質ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を真空雰囲気下、または、不活性ガス雰囲気下で、１３００℃以上で熱処理することにより、前記多孔質ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体を緻密化する工程、（ｃ）前記緻密化されたＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスを成型容器内に設置し、前記成型容器内で前記ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスを軟化点以上の温度で加圧成型する工程、および、（ｄ）前記加圧成型後のＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスを１６００℃以上の温度で１０時間以上保持する工程を有する、ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体の製造方法であって、前記（ｃ）工程におけるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの加圧方向が、前記（ａ）工程におけるＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス微粒子の堆積方向と一致し、加圧成型後のＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの厚みが、加圧成型前の該ＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの厚みの０．６倍未満であることを特徴とするＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラス体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時のガラス基板側面への膜材料の付着を抑制することができ、かつ、製造時の欠陥を抑制することができるＥＵＶマスクブランクスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１０の側面全周を覆うように前記ガラス基板の側方に配置される側面保護板２０、および、前記ガラス基板の成膜面１１の外縁部を覆うように前記ガラス基板の上方に配置される遮蔽板３０を用いて、前記ガラス基板上に前記反射層および前記吸収層を少なくともこの順にスパッタリングして形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板の割れの有無を検査する。
【解決手段】切り折り対象のガラス板の一端面に接触し、当該一端面からその反対側の他端面に向かって移動しながらガラス板の表面に切り折りの起点となる傷を入れ、前記他端面に到達した場合に前記表面及び他端面に対する接触が解除されるカッタを備えた切機を用いて、ガラス基板の割れを検査する検査方法において、前記カッタがガラス基板の一端面に接触したか否かを検出するステップと、前記カッタがガラス基板の一端面に接触した時点の当該カッタの位置を、ガラス基板の一端面の位置として検出するステップと、前記検出したガラス基板の一端面の位置と予め定められた設定範囲とを比較するステップと、前記比較の結果に基づいて、前記検出したガラス基板の一端面に割れが存在するか否かを判定するステップと、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬化物の柔軟性、伸び及び耐久性が良好で、かつ塗膜汚染性のない硬化性組成物を提供する。
【解決手段】直鎖状で、両末端に反応性ケイ素基を導入可能な前駆重合体（Ａ’）に、反応性ケイ素基を導入して得られ、数平均分子量が２万〜４万である重合体（Ａ）、および直鎖状で、片末端に反応性ケイ素基を導入可能な前駆重合体（Ｂ’）に、反応性ケイ素基を導入して得られ、数平均分子量が３０００〜２万、反応性ケイ素基に置換された末端基の割合が６０〜１００モル％である重合体（Ｂ）を含有し、これらの質量比（Ａ／Ｂ）が、９５／５〜５／９５である硬化性組成物。反応性ケイ素基は−ＳｉＸ^１_２Ｒ^１［Ｒ^１は炭素数１〜２０の１価の有機基、Ｘ^１は水酸基又は加水分解性基］。 （もっと読む）

【課題】ＳＯ₃成分を含むガス、例えばボイラ等で硫黄を含有する燃料の燃焼により発生するガス中の、紫煙等の原因となるＳＯ₃及びＳＯ₃に由来する硫酸ミストを安価に効率良くかつ簡便安全に中和処理して除去する。
【解決手段】ボイラで燃料が燃焼されて生成し、煙道を通って空気予熱器、脱硫装置、次いで煙突に送られるガスを処理する方法であって、少なくとも１つの煙道にて、ＳＯ₃成分を含むガス中に、平均粒子直径２０μｍ以下、安息角６５°以下、かつ分散度１０％以上４８％以下の炭酸ナトリウムまたはこれを含む混合物を添加し、ＳＯ₃成分を除去するガスの処理方法。 （もっと読む）