【課題】本発明は、成形素材表面にキズを付けることもなく、簡便かつ正確に吸着することを可能とする吸着ノズル、さらに、その吸着ノズルを用いて成形素材を安定して移載することができる成形素材の移載装置を提供する。
【解決手段】受け型上に形成された光学素子成形素材を真空吸着する吸着ノズルであって、吸着ノズルが、受け型の上部から受け面を覆うことで閉鎖空間を形成することができる蓋体２と、受け面に形成された光学素子成形素材を真空吸着することができる吸引口３と、閉鎖空間内に外気を引き込むことができる外気導入口４と、を有する吸着ノズル１。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光およびマスクパターンの検査光の波長域に対する反射率が低く、特に、マスクパターンの検査光の全波長域（１９０〜２６０ｎｍ）に対して低反射特性を示し、かつレジストとの密着性が良好な低反射層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。
【解決手段】基板上に、ＥＵＶ光を反射する反射層と、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層と、マスクパターンの検査光（波長１９０ｎｍ〜２６０ｎｍ）に対する低反射層と、が、この順に形成されたＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクであって、前記低反射層が、アルミニウム（Ａｌ）およびジルコニウム（Ｚｒ）のうち少なくとも一つと、酸素（Ｏ）および窒素（Ｎ）のうち少なくとも一つと、を含有することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク。 （もっと読む）

【課題】ガラス板が大型化して重くなっても地震時にガラス板に加わる水平方向慣性力を確実に枠材で支持できるので、枠材のスリム化を図ることができる。
【解決手段】ガラスカーテンウォール１０の壁面を構成するガラス板Ｇを該ガラス板Ｇの周囲に設けられた枠材１４に支持させるガラス板の支持構造体であって、ガラス板Ｇが地震時に受ける水平方向慣性力Ｆを、枠材１４を構成する縦材１４Ｂと横材１４Ａのうちの横材１４Ａに伝達させる剛性部材である慣性力伝達部材１６を設け、ガラス板Ｇが慣性力伝達部材１６を介して横材１４Ａに支持されるようにした。 （もっと読む）

【課題】酸素遮蔽性能と、有機溶剤溶解性、および成形性が発揮され、水蒸気透過性が維持されたクロロトリフルオロエチレン系共重合体を得る。
【解決手段】クロロトリフルオロエチレンのモノマー単位（Ａ）とモノマー単位（Ｂ）とからなり、モノマー単位（Ａ）の割合が３〜９９モル％、フッ素含有率が１５〜７５モル％、かつ、分子量が１０００〜１００万である含フッ素共重合体。ただし、モノマー単位（Ｂ）は、ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＮ（Ｒ^０）_２、Ｎ−ビニルカプロラクタム、式ＣＨ_２＝ＣＲ^１ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＲ^２＝ＣＨ_２、式ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｒ^３、およびメチル−２−フルオロアクリレートのモノマーからなる群より選ばれるいずれか１種のモノマーが重合した単位。 （もっと読む）

【課題】本発明は、膜厚分布が悪化することを抑制し、均一な膜厚の炭素膜を有するプレス成形用ガラス素材を製造するものであって、かつ比較的厚い膜厚を短時間で成膜することができるプレス成形用ガラス素材の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】熱処理炉４を外周に設置したチューブ３内に、ガラス素材を収容し、減圧下、炭化水素供給手段６から炭化水素ガスを、酸素供給手段７から酸素ガスを供給し、供給した炭化水素を熱分解させて、ガラス素材表面に炭素膜を形成するプレス成形用ガラス素材の製造方法及びそれに用いる製造装置１。 （もっと読む）

【課題】本発明は、設置対象の材質によらず、様々な対象に設置することができるＲＦＩＤタグ用のアンテナ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板および該基板上に設置された導体パターンを有するアンテナ素子が第１の誘電体層上に配置されて構成されるＲＦＩＤタグ用のアンテナ装置であって、さらに、第２の誘電体層と、人工媒質と、グラウンドプレーンとを有し、前記第１の誘電体層は、一方の側に前記アンテナ素子が設置され、他方の側に前記人工媒質が設置され、前記第２の誘電体層は、一方の側に前記人工媒質が設置され、他方の側に前記グラウンドプレーンが設置され、前記グラウンドプレーンは、全長が前記第２の誘電体層の全長と実質的に等しく、またはより短いことを特徴とするアンテナ装置。 （もっと読む）

【課題】複数の光学部品を組み立てて構成する光ヘッド装置等の光学系の装置で発生する収差を精度よく補正できる収差補正装置を提供する。
【解決手段】第１の収差補正板１１１と第２の収差補正板１１２とが平行して配置される収差補正素子１１０を、位置調整部１２０を用いることによって、入射する光の光軸と直交する１つの方向において、光軸を基準に２つの収差補正板を互いに反対方向へ同じ距離だけ平行移動するかまたは、光軸を中心に２つの収差補正板を互いに反対方向へ同じ角度だけ回転移動することによって、収差を精度よく補正することができるとともに簡易化された収差補正装置を実現できる。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって優れた耐摩耗性および表面潤滑性を発現する透明性に優れた被膜を形成できる被覆用組成物の提供。
【解決手段】活性エネルギー線硬化性の重合性単量体（Ａ）１００質量部に対して、潤滑性付与剤（Ｂ）０．０１〜１０質量部および活性エネルギー線重合開始剤（Ｃ）０．１〜１０質量部を含む活性エネルギー線硬化型の被覆用組成物。 （もっと読む）

【課題】耐候性に優れた情報記録媒体基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を５８〜７８％、Ａｌ_２Ｏ_３を３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏを１〜２０％、Ｎａ_２Ｏを０〜１６％、Ｋ_２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜８％、ＣａＯを０〜８％、ＺｒＯ_２を０〜５％、ＨｆＯ_２を０．０２〜０．２％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１５〜２６％であり、ＳｒＯを含有しないか２％以下含有し、ＢａＯを含有しないか２％以下含有し、ＴｉＯ_２を含有しないか１％未満含有する情報記録媒体基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置の製造において、単結晶シリコンを含む被研磨面を化学的機械的に研磨するために好適であり、研磨速度の制御性が向上した研磨剤および研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明の研磨剤は、単結晶シリコンを含む被研磨面を化学的機械的に研磨するための研磨剤であり、酸化セリウム粒子と水溶性ポリアミンと水をそれぞれ含有し、ｐＨが８〜１３の範囲にあることを特徴とする。本発明の研磨方法は、研磨剤を研磨パッドに供給し、半導体集積回路装置の単結晶シリコンを含む被研磨面と研磨パッドとを接触させて相対運動により研磨する方法であって、酸化セリウム粒子と水溶性ポリアミンと水をそれぞれ含有しｐＨが８〜１３の範囲にある研磨剤を使用して研磨を行なう。 （もっと読む）