【課題】十分な解像度及び感度を有する感放射線性樹脂組成物、並びに圧縮性能、透過率、耐光性、電圧保持率、現像耐性、耐熱性及び耐溶媒性に優れる表示素子用硬化膜を提供する。
【解決手段】［Ａ］アルカリ可溶性樹脂、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、［Ｃ］カルバゾール基を有する特定のオキシム光重合開始剤、並びに［Ｄ］ヒンダードフェノール構造を含む化合物、ヒンダードアミン構造を含む化合物、ホスファイト構造を含む化合物及びチオエーテル構造を含む化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含有し、［Ｃ］光重合開始剤の含有量が、［Ａ］アルカリ可溶性樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上５質量部以下である感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
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【課題】特定の研磨パッドおよび特定の化学機械研磨用水系分散体を使用して化学機械研磨を行うことにより、従来よりも優れたパフォーマンス（高研磨速度、高平坦化、スクラッチ抑制等）を達成できる化学機械研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨パッドを定盤に固定し、前記研磨パッドの研磨層に化学機械研磨用水系分散体を供給しながら前記研磨層に半導体基板を接触させて研磨する化学機械研磨方法において、前記化学機械研磨用水系分散体が、（Ａ）長径ａ（Ｒｍａｘ）と短径ｂ（Ｒｍｉｎ）との比率（Ｒｍａｘ／Ｒｍｉｎ）が１．１以上１．５以下であるシリカ粒子と、（Ｂ）２つ以上のカルボキシル基を有する化合物と、を含み、前記研磨層の表面粗さ（Ｒａ）が１μｍ以上１０μｍ以下の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】ナノエッジラフネスを低減することができ、かつ焦点深度に優れるフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】［Ａ］下記式（１）で表される化合物、及び［Ｂ］下記式（２−１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体を含有するフォトレジスト組成物である。
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【課題】耐熱性に優れると共に十分な強度を備えており、且つ微細なパターンを形成可能なナノインプリント成形用樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法、並びにレプリカモールドを提供する。
【解決手段】本発明のナノインプリント成形用樹脂組成物は、主鎖に脂環式骨格を有しており、重量平均分子量が６００００〜１５００００である樹脂（Ｉ）（例えば、環状オレフィンの開環重合により得られたもの）と、主鎖に脂環式骨格を有しており、重量平均分子量が４０００〜５００００である樹脂（ＩＩ）（例えば、環状オレフィンの開環重合により得られたもの）と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】アダマンタン化合物に由来の基が導入されてなる新規なシスセスキオキサン化合物およびその製造方法を提供すること、低ＬＥＲであり、従って微細なパターンを高精度に、かつ安定して形成することのできるレジスト材料を提供すること。
【解決手段】シスセスキオキサン化合物であってシスセスキオキサン化合物中のＲ1は下記化学式（ａ）で表わされる基を示す。


〔式中、Ｒ²は、アルキル基を示す〕 （もっと読む）

【課題】正極反応の酸化性に耐える高度の耐酸化性を有するとともに、密着性に優れ、電気的特性にも優れる正極を製造することが可能な正極用スラリーを提供すること。
【解決手段】上記正極用スラリーは、少なくとも（Ａ）フッ素原子を有する単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体粒子、（Ｂ）リチウム原子含有酸化物からなる活物質粒子、ならびに（Ｃ）液状媒体を含有する蓄電デバイスの正極用スラリーであって、前記（Ａ）重合体粒子の平均粒子径（Ｄａ）と前記（Ｂ）活物質粒子の平均粒子径（Ｄｂ）との比（Ｄａ／Ｄｂ）が０．０１〜１．０であり、そしてスラリーの曳糸性が３０〜８０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】解像性、密着性、熱衝撃性、電気絶縁性、パターニング性能、及び伸び等の諸特性に優れた層間絶縁膜、平坦化膜、表面保護膜、高密度実装基板用絶縁膜を形成しうる感光性絶縁樹脂組成物、及びその硬化物並びにその硬化物を備える回路基板を提供する。
【解決手段】本ポジ型感光性絶縁樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、キノンジアジド基を有する化合物と、ヒドロキシル基及び／又はカルボキシル基を有する単量体に由来する構成成分を２０〜９０ｍｏｌ％有する粒子状の共重合体である架橋樹脂粒子と、を含有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、ＬＷＲ等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、さらにパターン裾部分に残渣を生じることなく良好な矩形性のパターン形状を有するパターンを形成することができる感放射線性組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を有する重合体成分、及び［Ｂ］感放射線性酸発生体を含有する感放射線性組成物である。また、下記式（１）におけるＲ^５及びＲ^６のいずれかとＲ^４とは互いに結合して炭素数５〜２０の環構造を形成していることが好ましい。
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【課題】高い耐熱性を有するアダマンタン化合物に由来の基が導入されてなる新規なシクロデキストリン誘導体、その製造方法、及び微細なパターンを高精度に、かつ安定して形成することのできるレジスト材料の提供。
【解決手段】６から８個のグルコースからなるシクロデキストリンの、グルコース単位の少なくとも１つの水酸基が下記式（ａ）で表わされる基とエーテル結合しているシクロデキストリン誘導体。


〔式中、Ｒ⁴は、アルキル基を示す。〕 （もっと読む）