説明

JSR株式会社により出願された特許

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【課題】正極反応の酸化性に耐える高度の耐酸化性を有するとともに、密着性に優れ、電気的特性にも優れる正極を製造することが可能な正極用スラリーを提供すること。
【解決手段】上記正極用スラリーは、少なくとも(A)フッ素原子を有する単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体粒子、(B)リチウム原子含有酸化物からなる活物質粒子、ならびに(C)液状媒体を含有する蓄電デバイスの正極用スラリーであって、前記(A)重合体粒子の平均粒子径(Da)と前記(B)活物質粒子の平均粒子径(Db)との比(Da/Db)が0.01〜1.0であり、そしてスラリーの曳糸性が30〜80%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】解像性、密着性、熱衝撃性、電気絶縁性、パターニング性能、及び伸び等の諸特性に優れた層間絶縁膜、平坦化膜、表面保護膜、高密度実装基板用絶縁膜を形成しうる感光性絶縁樹脂組成物、及びその硬化物並びにその硬化物を備える回路基板を提供する。
【解決手段】本ポジ型感光性絶縁樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、キノンジアジド基を有する化合物と、ヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基を有する単量体に由来する構成成分を20〜90mol%有する粒子状の共重合体である架橋樹脂粒子と、を含有する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、感度等の基本特性を満足し、LWR等を指標としたリソグラフィー性能に優れ、さらにパターン裾部分に残渣を生じることなく良好な矩形性のパターン形状を有するパターンを形成することができる感放射線性組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]下記式(1)で表される繰り返し単位(I)を有する重合体成分、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性組成物である。また、下記式(1)におけるR及びRのいずれかとRとは互いに結合して炭素数5〜20の環構造を形成していることが好ましい。
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【課題】屈折率が高く、透明性に優れ、さらに、溶剤耐性に優れた、光導波路に好適な硬化物を形成することができる重合体を提供する。
【解決手段】1つ以上のチアントレン骨格を含むポリアリーレンスルフィド鎖と、反応性官能基と、を含有する重合体。前記反応性官能基はメルカプト基、スチリル基、α−メチルスチリル基、または(メタ)アクリル基等である。
前記重合体、及び架橋剤を含有する硬化性樹脂組成物。
前記硬化性樹脂組成物を硬化させてなる硬化物。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は種々の基板に対して良好な均一塗布性を有する金属酸化物膜形成用組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、[A]原子番号23〜78の金属元素からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属元素(a)と、O−OO−SO−O−SO−OO−SO−O−O−SO−O及びO−C(=O)−O−Oからなる群より選ばれる少なくとも1種の配位子(b)とを含む化合物、[B]界面活性剤、並びに[C]溶媒を含有する金属酸化物膜形成用組成物である。 (もっと読む)


【課題】低温硬化可能な感放射線性樹脂組成物を用いて絶縁膜を形成してアレイ基板を提供し、そのアレイ基板を用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】不飽和カルボン酸または不飽和カルボン酸無水物から形成される構成単位およびエポキシ基含有不飽和化合物から形成される構成単位を含む共重合体と、式(1)または式(2)の化合物とを含有する感放射線性樹脂組成物を用いて低温硬化によって絶縁膜12を形成し、アレイ基板1を製造する。アレイ基板1から液晶表示素子を構成する。
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【課題】低温硬化による高信頼のカラーフィルタを提供し、これを用いて液晶表示素子を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ20を、ジケトピロロピロール系顔料、ハロゲン化亜鉛フタロシアニン系顔料、トリアリールメタン系染料およびアゾ系染料の何れかを含む着色パターン6と、アルカリ可溶性樹脂並びに下式(1)または下式(2)の化合物を含む感放射線性樹脂組成物から形成される保護膜8と、光照射による分解により液晶配向制御能を示す低極性構造の配向膜12とから構成する。カラーフィルタ20を用いて液晶表示素子1を製造する。
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【課題】靱性、耐熱性、及び透明性に優れた光造形物を得ることができる光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)ビス−[[(3−アルキルオキセタン−3−イル)メトキシ]アルキル」ベンゼン又は一般式(2)で表されるオキセタン化合物、(C)オキセタニル基以外のエポキシ基を2個以上有する化合物、(D)光カチオン性重合開始剤、(E)ラジカル重合性化合物、及び(F)光ラジカル重合開始剤、を含有する光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。


(式中、Rは、単結合又は−C(R−で表される2価の基であり、Rは水素原子又はメチル基である。Rは炭素数1〜4のアルキル基である。Rは単結合又は炭素数1〜4のアルキレン基である。mは、1〜3の整数である。) (もっと読む)


【課題】スプレー塗工によって良好な面観が得られにくい基材(例えば、ポリカーボネート、ABS樹脂、ポリメチルメタクリレート)に対しても良好な面観が得られると共に、優れた指紋視認性および指紋拭き取り性を備えたハードコート層が得られる、ハードコート層の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るハードコート層の形成方法は、基材上に、多官能(メタ)アクリルモノマー(A)、光重合開始剤(B)、脂肪酸エステルからなる非イオン性界面活性剤(C)および有機溶剤(D)を含有する硬化性組成物をスプレー塗工して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に放射線を照射してハードコート層を形成する工程と、を含み、前記有機溶剤(D)は、25℃における表面張力が23.5dyne/cm以下且つ標準沸点が80℃以上の有機溶剤(D1)を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】既存の電極材料と比較してより高い比容量を示し、繰り返し充放電によっても電池性能の劣化することのない蓄電デバイスを製造することのできる電極材料(特にリチウムイオン二次電池の負極材料)を、安価に製造するための方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、4族メタロセンと
アルキルリチウム、アルキルアルミニウム、アルキルマグネシウムおよびアルキルマグネシウムハライドから選ばれるアルキル化剤と
を接触させて得られる触媒ならびに導電性炭素粒子の存在下でSiHを重合して得たポリヒドロシラン/導電性炭素組成物を、不活性雰囲気下で加熱する工程を経ることを特徴とする。 (もっと読む)


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