【課題】ウエハの間に異物が混入することなくウエハを接合することができる生産性が向上されたウエハの接合方法を提供する。
【解決手段】
オリエンテーションフラットとなる側面を二面備えている両主面が円形形状のウエハを接合するウエハの接合方法であって、第一の壁部と第二の壁部貫通孔を供えた平板部ととからなる接合用ジグにオリエンテーションフラットとなる側面が第二の壁部に接触するようにウエハを搭載した状態でエキシマ照射ランプから放射された光をウエハに照射し、平板部の貫通孔から吸引して接合用ジグにウエハを保持した状態で平板部の側面と第一の壁部の側面とが接するように配置しウエハを接触させて接合することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウエハの間に異物が混入することなくウエハを接合することができる生産性が向上されたウエハの接合方法を提供する。
【解決手段】両主面が四角形状となっているウエハを接合するウエハの接合方法であって、貫通孔が形成されている平板部に三つの柱部が設けられている接合用ジグに、平板部の一方の主面にウエハの一方の主面を接触させつつ柱部の側面に少なくともウエハの所定の二つの側面に接触させウエハを接合用ジグに搭載する工程と、接合用ジグに搭載されているウエハにエキシマ照射ランプから放射された光を照射する工程と、平板部の貫通孔の開口部から吸引しウエハを接合用ジグに保持した状態で、接合用ジグの一方のウエハの所定の二つの側面が接している柱部の側面が他方のウエハの所定の他の二つの側面に接触するように、接合用ジグを配置する工程と、ウエハを接触させ前記ウエハを貼り合わせる工程と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 振動特性の向上された圧電振動素子。
【解決手段】 平板形状の圧電基板２１と、圧電基板２１の下面および上面に設けられた励振電極２２ａおよび２２ｂと、圧電基板２１に設けられており圧電基板２１の下面および上面に設けられた励振電極２２ａおよび２２ｂに電気的に接続された圧電基板２１の下面および上面に設けられた端子電極２３ａおよび２３ｂと、圧電基板２１に設けられており励振電極２２に電気的に接続されていない固定用ランド部６０とを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウエハの間に異物が混入することなくウエハを接合することができる生産性が向上されたウエハの接合方法を提供する。
【解決手段】両主面が四角形状となっているウエハを接合するウエハの接合方法であって、貫通孔が形成されている平板部に三つの柱部が設けられている接合用ジグに、平板部の一方の主面にウエハの一方の主面を接触させつつ柱部の側面に少なくともウエハの所定の二つの側面に接触させウエハを接合用ジグに搭載する工程と、接合用ジグに搭載されているウエハにエキシマ照射ランプから放射された光を照射する工程と、平板部の貫通孔の開口部から吸引しウエハを接合用ジグに保持した状態で、接合用ジグの一方のウエハの所定の二つの側面が接している柱部の側面が他方のウエハの所定の他の二つの側面に接触するように、接合用ジグを配置する工程と、ウエハを接触させ前記ウエハを貼り合わせる工程と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 研磨後のウェハの厚みばらつきを軽減する。
【解決手段】 センターギアと、このセンターギアを回転軸とする下定盤と、この下定盤の縁側に配置されるインターナルギアと、前記センターギアを回転軸としつつ前記下定盤と向かい合うように配置される上定盤とから構成される研磨装置と、前記研磨装置を内部に配置し研磨で使用した前記溶液を溜める溶液漕と、所定の溶液内にナノバブルを生成するナノバブル発生装置と、前記ナノバブルを含む前記所定の溶液を攪拌する攪拌部と、この攪拌部から前記研磨装置の上定盤に前記ナノバブルを含む前記溶液を供給する第一のポンプと、前記溶液漕に溜まった前記溶液を前記攪拌部へ供給する第二のポンプと、から構成される循環系設備と、を備え、前記研磨装置と前記溶液漕と前記循環系設備との前記溶液が接触する表面に、フッ素樹脂を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】第１の外装体と第２の外装体との隙間に水晶素板が入り込み、水晶素板が破損してしまうことを低減すると共に、生産性を向上させる水晶素板洗浄用治具を提供することを課題とする。
【解決手段】 水晶素板洗浄用治具１００は、第１及び第２の外装体１１０及び１２０を備えている。第１の外装体１１０は、水晶素板１０が設けられる収容部１１１を有し、収容部１１１の底面に第１の貫通孔１１２が設けられ、収容部１１１を囲むようにして磁石部１１３が設けられている。第２の外装体１２０は、第２の貫通孔１２２を有しており、収容部１１１を覆うように磁石部１１３によって第１の外装体１１０に固定される。 （もっと読む）

【課題】 研磨後のウェハの厚みばらつきを軽減しナノバブルの密度を高くする。
【解決手段】 ウェハを下定盤と上定盤とで挟んで研磨する研磨装置と、ナノバブルを含む所定の溶液を溜める溶液漕と、ナノバブル発生装置と、溶液を攪拌する攪拌部と、前記攪拌部から前記溶液漕へ接続する第一配管部と第二配管部と、第一配管部から分岐し攪拌部へ戻る第三配管部と、第一配管部内に設けられるアノード電極と、アノード電極と対向して設けられる第一カソード電極と、アノード電極と対向して設けられる第二カソード電極と、アノード電極と対向して設けられる第三カソード電極と、各電極が接続される電場発生装置と、から構成される循環系設備と、を備えて構成されることを特徴とするナノバブル循環型研磨装置。 （もっと読む）

【課題】 研磨による傷の発生を軽減し、安定した研磨が行えること。
【解決手段】 センターギアと、このセンターギアを回転軸とする上定盤と、このセンターギアを回転軸としつつ前記上定盤と向かい合うように配置される下定盤と、この下定盤の縁側に配置されるインターナルギアとから構成される研磨装置が用いられ、前記下定盤と前記上定盤との間に水晶ウェハを配置して前記水晶ウェハを研磨する水晶ウェハの研磨方法であって、前記水晶ウェハと前記上定盤および前記水晶ウェハと下定盤との間に所定のガスを気泡化したナノバブルを含むフッ化カリウム水溶液、水酸化ナトリウムと炭酸ナトリウムとの混合溶液、水酸化カリウム溶液の何れか１つの溶液を介在させて水晶ウェハを研磨することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 研磨後のウェハの厚みばらつきを軽減する。
【解決手段】 固定台とこの固定台を囲み密閉空間を形成する箱型躯体とからなる加工装置と、溶液にナノバブルを発生するナノバブル発生装置と、溶液を高速で噴射する高速水流発生装置と、加工装置内の溶液を高速で排水する高速排水装置と、排水した溶液を安定させる攪拌部と、ナノバブル発生装置と高速水流発生装置とを接続する第一配管部と、高速水流発生装置と加工装置とを接続する第二配管部と、加工装置と高速排水装置とを接続する第三配管部と、高速排水装置と攪拌部とを接続する第四配管部と、攪拌部とナノバブル発生装置とを接続する第五配管部と、第二配管部の加工装置側の端部に設けられる噴射ノズルと、を備え、第二配管部の中心軸線と第三配管部の中心軸線とが同一直線上に位置し、噴射ノズルの噴射範囲内に加工装置の固定台が位置して構成されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｚ軸に平行な向きで振動する振動によるクリスタルインピーダンスの値が大きくなることを防ぎ生産性を向上させた音叉型屈曲水晶振動素子を提供する。
【解決手段】互いに直交するＸ軸とＹ軸とＺ軸とからなる結晶軸を有し厚み方向がＺ軸に平行となっている平板状の基部の側面から二つ一対の振動腕部がＹ軸に平行な方向で同一方向に延設されており、それぞれの振動腕部のそれぞれの主面に溝部が形成され、両主面に形成されている溝部の底面が対向しないようにＹ軸に平行な方向に交互にずらした位置のうち、
溝部の開口部のＹ軸に平行な辺のうち隣接する前記振動腕部に最も近い辺の長さが前記溝部の開口部のＹ軸に平行な辺のうち隣接する前記振動腕部から最も遠い溝部の開口部の辺の長さと異なっていることを特徴とする。 （もっと読む）