説明

東レフィルム加工株式会社により出願された特許

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【課題】
軽剥離成分添加による被離型基材の性能低下、シリコーン離型フィルムの加工性低下がなく軽型剥離の離型フィルムを効率的に提供することを目的とする。
【解決手段】
ポリエステルフィルムの少なくとも片面にシリコーン系樹脂からなる層を設け、アクリル系粘着剤の剥離力が0.15N/50mm以下、残留接着率が90%以上で該層に接触した基材表面のSi量が110%以上増加しない離型フィルムとする。 (もっと読む)


【課題】高周波プラズマCVD方式により、特定の機能を持つ有機化合物の皮膜、特に撥水性・防汚性などの機能性皮膜を、プラスチックフィルム表面に連続的に付与することで高い生産性を有し、かつ高品位である、プラスチックフィルム、好ましくは、反射防止プラスチックフィルムの防汚層の形成方法を提供すること。
【解決手段】高周波プラズマCVD(ケミカル・ヴェーパー・デポジット)連続加工装置を用い、かつ高周波出力を10〜50wとして、連続して走行するプラスチックフィルムに、パーフルオロ基を含有する反応性有機化合物を反応蒸着して有機化合物皮膜を連続的に形成することを特徴とする防汚性プラスチックフィルムの製法。 (もっと読む)


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