【課題】露光前に基板の裏面洗浄を行う機能を備えた基板処理システムにおいて、基板処理の歩留まりを向上させる。
【解決手段】露光装置で露光処理を行う前に、露光装置における基板のフォーカスの状態を検査する検査ユニット１００であって、ウェハＷを、露光装置で露光処理される際と同じ条件で裏面から吸着保持するウェハ保持台１４１と、ウェハ保持台１４１に吸着保持されたウェハＷにおける厚み方向の高さを測定する高さ測定機構１５０と、を有している。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法に好適に用いられるレジスト変性用組成物を提供する。
【解決手段】酸の作用でアルカリ溶解性が増加する繰り返し単位とラクトン構造含有繰り返し単位とを有する高分子化合物を含む第１レジスト膜を、露光、加熱処理、アルカリ現像して得られる第１レジストパターン上にレジスト変性用組成物を塗布し、加熱して変性処理を行い、その上に第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジストパターンを形成するパターン形成方法に用いるレジスト変性用組成物であって、下記式（１）又は（２）のカーバメート化合物と溶剤を含有する。
（もっと読む）

【課題】 トナー画像に十分なエッチング耐性が要求されない静電潜像を利用したパターン作製方法を提供する。
【解決手段】 表面にフォトレジスト膜が形成された基板の該フォトレジスト膜上に、静電潜像を利用した電子写真法によりトナー画像を形成する。このトナー画像をマスクとして、フォトレジスト膜を露光する。露光されたフォトレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。このレジストパターンをマスクとして、基板の表面を加工する。 （もっと読む）