【課題】簡便且つ確実に、所定量の研磨液を回転バフに供給することができる研磨液供給装置を提供する。
【解決手段】ロッドレンズアレイのロッドレンズが露出する端面を研磨する端面研磨装置６の回転バフ１２に研磨液を供給する研磨液供給装置３０であって、前記研磨液を収容する研磨液容器３４と、前記研磨液を前記回転バフに向けて吐出する吐出部３６と、前記研磨液容器と前記吐出部とを流体連通させるチューブ３８と、前記研磨液容器から前記吐出部まで前記チューブを通して前記研磨液を搬送するポンプ４４とを備え、前記ポンプが、所定インターバルで、前記研磨液を前記吐出部から吐出させるように作動され、前記ポンプの作動中は、前記回転バフの回転速度が低下する。 （もっと読む）

【課題】切削屑の混じった切削水の飛散の影響を受けることなく、環状ブレードの切り刃の摩耗及び欠けの検出を正確に行う切削装置を提供する。
【解決手段】基台１２０から外周側に突出した切り刃１２１を有する環状ブレード１２と、環状ブレード１２に切削水を供給する切削水供給ノズル１３２と、環状ブレード１２の状態を検出するブレード検出手段１４とを備えた切削装置において、ブレード検出手段は、切り刃１２１が進入するブレード進入部において互いに対向して配設される発光体及び受光体を備え、ブレードカバー１３には、切削水供給ノズル１３２より環状ブレード１２の回転方向Ａ下流側でかつブレード検出手段１４より環状ブレード１２の回転方向Ａ上流側に、切削水供給ノズル１３２とブレード検出手段１４との間を仕切るためのブラシ状仕切り部材１５を配設し、環状ブレード１２の高速回転に伴うブレード検出手段１４への切削水や切削屑の回り込みを遮断する。 （もっと読む）

【課題】研磨パッドの目詰まりを防止でき、且つ、研磨能率の向上が図ることが可能な連続研磨装置を提供する。
【解決手段】
走行している基板を、回転軸を中心に回転する研磨ヘッドを用いて連続研磨する研磨装置において、
前記研磨ヘッドの回転軸に沿った中心部に研磨液を供給するための供給孔が設けられ、該研磨ヘッド底部全面には、貫通孔を有せず、研磨液が浸透する研磨パッドが密着され、該パッド辺縁部は研磨ヘッド周辺部に固着されていることを特徴とする連続研磨装置。
また前記連続研磨装置を用いた連続研磨方法。 （もっと読む）

【課題】支持板による拘束部分における研削ブラシの径方向の磨耗を飛躍的に軽減でき、比較的加工量が大きい研削加工を長時間にわたって高精度に効率よく行うことができるブラシ研削装置を提供する。
【解決手段】ブラシホルダ３に保持された研削ブラシ２により、テーブル４に支持されたワークＷを研削する。研削ブラシ２は、テーブル４とブラシホルダ３との間で支持板６の拘束部１０により拘束されている。研削ブラシ２の先端部をワークＷに当接して研削加工を行う際に、研削ブラシ２とワークＷとの当接位置に向かって研削液を噴射する第１のノズル１８と、支持板６の拘束部１０による研削ブラシ２の拘束位置に向かって研削液を噴射する第２のノズル１９とを設ける。 （もっと読む）

【課題】大型のガラス基板等の基板を高い平坦度で研磨し、洗浄・乾燥処理できる基板研磨装置、基板研磨方法、基板受取方法を提供すること。
【解決手段】研磨基板Ｇを保持するヘッド４０を備えた基板保持機構部４と、研磨パッド６１を取付けたターンテーブル６０を備えた研磨機構部３とを備え、ヘッド４０が吸着保持する基板Ｇを回転するターンテーブル６０の研磨パッド上に押し付け基板Ｇと研磨パッド６１の相対運動で基板Ｇを研磨する基板研磨装置において、研磨前の基板Ｇをヘッド４０へ渡すと共に、研磨後の基板Ｇを受け取るプッシャー機構部２と、研磨後の基板Ｇを洗浄及び乾燥する洗浄・乾燥部と、研磨パッド６１を研磨に適する状態にするドレッサーユニット８を備えた。 （もっと読む）

【課題】均一な研磨形状を確保するとともに研磨副生成物を含む研磨に寄与したスラリーをパッド外に効率よく除去して該研磨副生成物に起因するスクラッチを低減し、さらにはスラリーの消費を最小限に抑えて量産稼働時に対する低コスト化を実現することが可能な研磨方法及び研磨装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は上記目的を達成するために、部材１５ａをパッド１９表面上に垂らして該パッド１９表面に接触させるか近接させ、その部材１５ａに沿わせてスラリーを供給し、パッド１９表面にスラリーを塗る機構を有し、研磨するパッド１９の表面は、表面部の中央からエッジまで連通した複数の溝を有し、研磨処理間に各溝に沿って純水を供給して、エッジ部側からパッド１９外に研磨副生成物を除去する工程を有する研磨方法を提供するものである。 （もっと読む）