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Fターム[4F042ED12]の内容

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【課題】そりが生ずるワークに対して簡単にワークのそりを矯正でき、描画精度を向上できる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】液滴を水平方向に吐出可能に取り付けられた液滴吐出ヘッド35を備え、液滴吐出ヘッド35から液滴を吐出してワーク5に塗布する液滴吐出部30と、ワーク5を鉛直方向に吊り下げて把持し、ワーク5を液滴吐出部30の液滴吐出ヘッド35に対向して保持可能なチャック部78と、を有する。 (もっと読む)


【課題】CAPコーターを用いて基板表面にレジスト膜を形成する場合、基板面内の塗布膜厚の均一性が良好なマスクブランクの製造方法、及び基板面内の塗布膜厚の均一性を向上させることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤21を収容した液槽20からノズル22を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。このレジスト膜形成工程において、被塗布面へのレジスト剤21の塗布中は、前記液槽20内へレジスト剤を補給しながら液槽内のレジスト剤の液面高さが一定になるように制御する。 (もっと読む)


【課題】傾斜角が大きい光学部材に対して、均一な光学膜を再現性良く形成する方法及び装置並びにその光学膜を有する光学物品を提供する。
【解決手段】基板1を回転自在な治具20に取り付け、基板1を回転させながら、基板1に光学膜成分を含有する塗布液をノズル40から滴下し、得られた塗膜を乾燥させることにより、基板1上に光学膜を形成する方法であって、基板1を8,000 rpm以上のほぼ一定の速度で回転させながら、基板1に塗布液を滴下した後、治具20の軸ぶれを50μm以下に保持しながら、基板1を上記ほぼ一定の速度で回転させて塗膜を形成する方法。
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【課題】塗装ヘッドが建築板に衝突することを防止しながらも、鮮明な塗装が可能な建築板の塗装装置を提供する。
【解決手段】計測手段6は、搬送方向において塗装手段の入口側に配置され、建築板1の塗装面1aの下方に設定した一つの水平面である基準面2aからの塗装面1aの高さについて搬送方向に直交する方向における最大高さを計測する。制御手段7は、計測手段6の計測結果を受けて建築板1の搬送方向の所定長さごとに前記計測結果の最大値を求め、建築板1のうち塗装ヘッド3の下方を通過している部位を含む前記所定長さで求めた前記最大値tに対して塗装ヘッド3の基準面2aからの高さ位置が所定値Hだけ大きくなるように昇降手段5を駆動する。 (もっと読む)


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