【課題】分散性及び耐酸化性に優れる金属微粒子を含む金属微粒子組成物を提供する。
【解決手段】金属微粒子組成物は、成分（Ａ）ニッケル及び銅を含有する金属微粒子であって、該金属微粒子１００質量部に対し、ニッケル元素の量が５〜５０質量部の範囲内にあり、銅元素の量が５０〜９５質量部の範囲内にある金属微粒子、及び成分（Ｂ）ロジン変性マレイン酸樹脂を含み、（Ａ）成分１００質量部に対し、（Ｂ）成分を０．３〜５０質量部の範囲内となるように配合してなるものである。 （もっと読む）

【課題】分散性及び耐酸化性に優れる金属微粒子を含む金属微粒子組成物を提供する。
【解決手段】金属微粒子組成物は、（Ａ）ニッケルを含有する粒子径１〜１５０ｎｍの範囲内にある金属微粒子、及び（Ｂ）アビエチン酸を含み、（Ａ）成分１００質量部に対し、（Ｂ）成分を０．１〜４０質量部の範囲内となるように配合してなるものである。好ましくは、金属微粒子が、ニッケル及び銅の合金であり、金属微粒子１００質量部に対し、ニッケル元素の量が５〜５０重量部の範囲内であり、銅元素の量が５０〜９５重量部の範囲内である。 （もっと読む）

【課題】Ｆｅを含むＳｍ−Ｃｏ系磁石の高い磁化や保磁力を保ちつつ、角型性を向上させた永久磁石を提供する。
【解決手段】実施形態の永久磁石は、組成式：Ｒ（Ｆｅ_pＭ_qＣｕ_r（Ｃｏ_1-p-q-r）_z（Ｒ：希土類元素、Ｍ：Ｔｉ、ＺｒおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種、０．３＜ｐ≦０．４５、０．０１≦ｑ≦０．０５、０．０１≦ｒ≦０．１、５．６≦ｚ≦９）で表される組成を有し、Ｔｈ₂Ｚｎ₁₇型結晶相と粒界相とプレートレット相とを含む金属組織を備える。粒界相におけるＣｕ濃度の空間分布は標準偏差で５以下とされている。 （もっと読む）

【課題】高Ｆｅ濃度の組成域を主相とするＳｍ−Ｃｏ系磁石で大きな保磁力を再現性よく発現させることを可能にした永久磁石を提供する。
【解決手段】実施形態の永久磁石は、組成式：Ｒ_pＦｅ_qＭ_rＣｕ_sＣｏ_100-p-q-r-（Ｒは希土類元素から選ばれる少なくとも１種、ＭはＺｒ、ＴｉおよびＨｆから選ばれる少なくとも１種、１０≦ｐ≦１３．５、２８≦ｑ≦４０、０．８８≦ｒ≦７．２、４≦ｓ≦１３．５（原子％））で表される組成を有し、かつＦｅ濃度が２８モル％以上の組成域を主相とする。主相中のＣｕ濃度は５モル％以上とされている。 （もっと読む）

【課題】 耐食性、耐焼付き性に優れた高硬度、高靭性を有する、粉末から成形の高速度鋼で、この全体が窒化されている鋼材を提供する。
【解決手段】 質量％で、Ｃ：０．８５〜１．２０％、Ｓｉ：≦０．５％、Ｍｎ：≦０．５％、Ｃｒ：３．８〜６．０％、Ｍｏ：５．６〜８．０％、Ｗ：５．１〜８．０％、Ｖ：３．０〜６．０％、Ｎ：０．４〜１．５％を含有し、これらはＣ＋Ｎ：１．２５〜２．５０％、Ｍｏ＋Ｗ／２：８．３〜１１．０％、および耐食性指数の４．７（Ｍｏ＋Ｗ／２）＋１．４Ｎ−Ｃｒ−２．１Ｍｎ：≧３２．５％を満足し、残部がＦｅおよび不可避不純物からなる鋼合金で、析出する窒化物がバナジウム系窒化物（ＶＮまたは一部炭化物を含むＶＣＮ）からなり、その窒化物の平均粒径が１μｍ以下で、かつ、鋼材の断面積中に占める面積率が５％以上で、硬さが６５ＨＲＣ以上である高靱性で、耐食性、耐焼付き性に優れた窒化粉末高速度鋼。 （もっと読む）

【課題】 平均粒径が小さく、粗大なｂｃｃＦｅ結晶の析出が無い軟磁性合金粉末と、高い飽和磁束密度と低い保磁力が得られるナノ結晶軟磁性合金粉末と、その製造方法と、それを用いた低損失の圧粉磁心を提供すること。
【解決手段】 組成式Ｆｅ_ａＢ_ｂＳｉ_ｃＰ_ｘＣ_ｙＣｕ_ｚで表され、７９．０≦ａ≦８６．０ａｔ％、５≦ｂ≦１３ａｔ％、０≦ｃ≦８ａｔ％、１≦ｘ≦１０ａｔ％、０≦ｙ≦５ａｔ％、０．４≦ｚ≦１．４ａｔ％、及び０．０６≦ｚ／ｘ≦１．２０である合金組成物からなり、平均粒径０．７μｍ以上５．０μｍ以下であることを特徴とする軟磁性合金粉末である。 （もっと読む）

【課題】金属ナノ粒子を効果的に分散できる分散剤を提供する。
【解決手段】下記の一般式（I）：


［上記式（I）中、基Ｒ_１、基Ｒ_２、基Ｘは、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、又はベンジル基を示すが、基Ｒ_１、基Ｒ_２、基Ｘのうち少なくとも１つは、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、又はベンジル基を示す。］で表されるマロン酸誘導体からなる分散剤。 （もっと読む）

【課題】金属ナノ粒子を効果的に分散できる分散剤を提供する。
【解決手段】 下記の一般式（I）：
【化１】


［一般式（I）中、Ｒ_１、Ｒ_２は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のアルキル基を示す。］
で表される酒石酸誘導体からなる分散剤。一般式（Ｉ）中、炭素数３〜６のアルキル基としては、イソプロピル基などの分岐したアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、半導体素子、及び半導体素子と多孔質状金属層との接合面等における、クラックや剥がれを抑制可能な半導体装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板（Ｋ）またはリードフレーム（Ｌ）に設けられたパッド部（Ｐ）上に多孔質状金属層（Ｃ）を介して半導体素子（Ｓ）の金属層が接合されている半導体装置であって、前記多孔質状金属層（Ｃ）の外周側部位の金属密度がその内側に位置する中心側と比較して低いことを特徴とする半導体装置。 （もっと読む）

【課題】塗設時に金属ナノワイヤーを凝集させることなく好適に分散させることができ、ヘイズが低く、ブツ故障が少なく、導電性及び透明性に優れた導電膜の製造方法、前記導電膜の製造方法により製造された導電膜、及び前記導電膜を有するタッチパネルの提供。
【解決手段】金属粒子として平均短軸長さ１５０ｎｍ以下の金属ナノワイヤーと、分散剤とを含有する金属ナノワイヤー分散液を、限外濾過膜を用いて限外濾過し、洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程後の金属ナノワイヤー分散液を含有する導電膜形成用塗布液を支持体上に塗布する塗布工程とを含み、前記洗浄工程後の金属ナノワイヤー分散液中の前記分散剤の含有量（｛分散剤の質量／（全金属粒子の質量＋分散剤の質量）｝×１００）が、３．２質量％以上である導電膜の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】 飽和磁束密度、非晶質性および耐候性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金において、マグネトロンスパッタ時に効率良く使用できるターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、ＴａおよびＢの２種以上を含有し、残部ＣｏおよびＦｅ、ならびに不可避的不純物よりなり、下記式１および式２を満足し、相対密度９９％以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材。
０．６０≦Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）≦０．６５（ａｔ．％比） … （１）
５ａｔ％≦（Ｚｒ＋Ｈｆ＋Ｎｂ＋Ｔａ）＋Ｂ／２≦１０ａｔ％ … （２）
ただし、Ｂ：７％以下とする。 （もっと読む）

【課題】冷却管を有する金属粉末製造用のプラズマ装置において、冷却管の内壁に付着・堆積した付着物を容易に除去することができ、より生産効率の良いプラズマ装置を提供する。
【解決手段】金属原料が供給される反応容器２と、反応容器２内の金属原料との間でプラズマを生成し、金属原料を蒸発させて金属蒸気を生成するプラズマトーチ４と、金属蒸気を搬送するためのキャリアガスを反応容器２内に供給するキャリアガス供給部１０と、反応容器２からキャリアガスによって移送される金属蒸気を冷却して金属粉末を生成する冷却管３を備える金属粉末製造用プラズマ装置１であって、冷却管３をその長手方向下流側が上方にあるように水平方向に対し１０〜８０°傾けて反応容器２に設置すると共に、冷却管３の内壁に付着した付着物を除去するスクレーパー２０を、冷却管３の長手方向下流端から冷却管３内に嵌挿した。 （もっと読む）

【課題】Ｍｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ系多結晶体であって、性能指数が高い、熱電変換素子および、熱電変換モジュールの提供。
【解決手段】Ｓｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｂｉ、Ａｌから選択される少なくとも１種のドーパントＡでドーピングされたＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ中に、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗから選択される少なくとも１種の遷移金属Ｂの元素および/または遷移金属Ｂのシリサイドが分散していることを特徴とする下記式（１）で表されるＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ・Ａａ・Ｂｂ多結晶体。Ｍｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘ・Ａａ・Ｂｂ、式（１）［ただし、式（１）中のｘは０〜1、ａはＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘに対するドーパントＡの含有量であって０．０１〜５ｍｏｌ％であり、ｂはＭｇ_２Ｓｉ_１−ｘＳｎ_ｘに対する遷移金属Ｂの含有量であって０．０１〜５ｍｏｌ％である。］ （もっと読む）

【課題】還元拡散法により得られる希土類−遷移金属系合金粉末の減磁曲線の角形性を改善し、永久磁石性能を高めることができる希土類−遷移金属系合金粉末とその製造方法を提供。
【解決手段】希土類酸化物粉末と、遷移金属粉末および／またはその酸化物粉末と、粒状または粉末状の、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびこれらの水素化物から選ばれる少なくとも１種の還元剤とを混合し、不活性雰囲気中で該混合物を８５０〜１２００°Ｃで１〜１０時間保持して希土類−遷移金属系合金を含む反応生成混合物を得る第１の工程、この反応生成混合物を３００℃以下に冷却した後、水素ガスを導入し、水素ガス分圧２０〜４０ｋＰａの雰囲気中において７００〜９００°Ｃの温度で１〜２０時間保持する第２の工程、得られた反応生成混合物を真空もしくは水素ガス分圧１０ｋＰａ未満の雰囲気下５００〜９００°Ｃで１０分〜２０時間熱処理する第３の工程、得られた熱処理物を水で洗浄し、還元剤を含む副生物を除去して希土類−遷移金属系合金を回収する第４の工程、洗浄後の希土類−遷移金属系合金を１５０〜４００°Ｃの非酸化性雰囲気下で乾燥する第５の工程とを含む希土類−遷移金属系合金粉末の製造方法などにより提供。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で、所望の微細孔、特にナノメータオーダの微細孔を有する金属多孔質体を提供する。
【解決手段】平均粒子径が５０ｎｍ〜１μｍの範囲内にある第１の金属粒子と、第２の金属材料を含有する金属粒子の平均粒子径が５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内にあり、第１の金属粒子の平均粒子径以下である第２の金属粒子とを準備する。次いで、前記第１の金属粒子及び前記第２の金属粒子を混合して混合物を得るとともに、前記第２の金属粒子を溶融させ、得られた溶融物によって前記第１の金属粒子を結合し、金属多孔質体を製造する。 （もっと読む）

【課題】複数のターゲットを用いることなく、炭素含有量の多いＦｅＰｔＣ系薄膜を単独で形成できるＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｆｅ、ＰｔおよびＣを含有するＦｅＰｔ−Ｃ系スパッタリングターゲットであって、Ｐｔを４０〜６０ａｔ％含有して残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるＦｅＰｔ系合金相と、Ｃ相とが互いに分散した構造を有するようにし、ターゲット全体に対するＣの含有量を２１〜７０ａｔ％にする。
また、Ｐｔを４０〜６０ａｔ％含有して残部がＦｅおよび不可避的不純物からなるＦｅＰｔ系合金粉末にＣ粉末を添加し、酸素の存在する雰囲気下で混合して混合粉末を作製した後、作製した該混合粉末を加圧下で加熱して成形する。 （もっと読む）

【課題】酸素等の不純物の量の少ないＰｄ合金系スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｐｄを主要成分として含有するＰｄ合金系スパッタリングターゲットであって、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａのうちの少なくとも１種以上を合計で１〜６０ａｔ％含有し、残部がＰｄおよび不可避的不純物からなり、ターゲット全体に対する酸素含有量を２０００質量ｐｐｍ以下にする。
また、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａのうちの少なくとも１種以上を合計で１〜６０ａｔ％含有し、残部がＰｄおよび不可避的不純物からなるＰｄ合金粉末をアトマイズ法で作製し、作製した該Ｐｄ合金粉末を加圧下で加熱して成形してＰｄ合金系スパッタリングターゲットを製造する。 （もっと読む）

【課題】水素の吸蔵・放出特性を改善した水素吸蔵合金を提供する。
【解決手段】下記一般式（１６）で表され、かつＣｕＫα線を用いたＸ線回折パターンにおける２θ＝８〜１３゜の範囲に現れる最強ピークの強度（Ｉ₁）と、全ピークの最強線ピークの強度（Ｉ₂）との強度比（Ｉ₁／Ｉ₂）が０．１５未満である合金を含む水素吸蔵合金。
Ｒ４_1-a-bＭｇ_aＭ８_b（Ｎｉ_1-xＭ９_x）_z …（１６）
ただし、Ｒ４はイットリウムを含む希土類元素およびＣａから選ばれる少なくとも１つの元素、Ｍ８はＭｇより電気陰性度の大きな元素（ただし、Ｒ４、Ｎｉ、Ｍ９を除く）、Ｍ９はＣｏ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ａｌ，Ｇａ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ｓｉ，Ｐ，Ｂから選ばれる少なくとも１つの元素であり、ａ、ｂ、ｘ、ｚはそれぞれ０＜ａ≦０．６、０≦ｂ≦０．５，０≦ｘ≦０．９，２．５≦ｚ＜４．５を示す。 （もっと読む）

【課題】従来の金属ナノ粒子合成手法における、水中の還元雰囲気下での合成では金属ナノ粉子が短時間で酸化され易く、表面を種々の方法で被覆しても、不安定で、水中では、特にその被覆物が離脱して、次第に表面から酸化されてしまうなどの問題を解決する。
【解決手段】高温高圧状態の、亜臨界ないし超臨界水中での水熱還元プロセスを適切な還元剤存在下に行い、生成ナノ粒子の表面が金属状である金属又は合金ナノ粒子を得る。これにより、触媒、記憶材料、発光材料、オプトエレクトロニクスなどの広範な分野での利用が期待されている、例えば、性状の優れたコバルトナノ粒子を、簡単な手法で、低コストに且つ安定的に製造できる。 （もっと読む）

【課題】 様々な種類のコアシェル粒子を効率良く製造することができるコアシェル粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 第一金属イオンが含有される第一金属イオン溶液に、０．３Ｗ／ｃｍ^２以上となる第一出力の超音波を照射することにより、第一金属の粒子が分散されたコア粒子分散液を得るコア粒子作製工程と、前記コア粒子分散液に第二金属イオンを混合して混合溶液とし、当該混合溶液に前記第一出力より低くなる第二出力の超音波を照射することにより、前記第一金属をコアとし第二金属をシェルとしたコアシェル粒子が分散されたコアシェル粒子分散液を得るコアシェル粒子作製工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）