Fターム[4K029BA14]の内容
Fターム[4K029BA14]に分類される特許
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選択的膜製造方法
【課題】基板表面におけるSi等の材料から成る対象表面部のみに選択的に薄膜を形成するうえで、CVD法を用いることなく、簡便に基板上に選択的に膜を形成する選択的膜製造方法を提供する。
【解決手段】圧力10〜202kPa(76〜1520Torr)の水素及び希ガスの混合ガスを主体とする反応ガスが充填された反応室内に、比較的高温に保持した基板、及び、比較的低温に保持した、水素化物が揮発性であるターゲットを平行に配置し、基板とターゲットの間に放電を生起させることで、対象表面部上と、他の表面上との間での膜堆積速度の違いを利用して対象表面部上に選択的にターゲットの薄膜を形成する。希ガスとしてはHeやNeを好適に用いることができる。
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シートの製造方法
【課題】 従来の洗浄方法では問題であった洗浄中の機械部分との接触による金属薄膜のキズの問題を回避し、美麗な金属薄膜部分を有するシートの製造方法を提示する。
【解決手段】 基材シート上に水溶性塗膜を形成し、その上に金属薄膜を形成した積層シートを、水洗して、水溶性塗膜を除去するシートの製造方法であって、基材シート単位面積単位時間当たりの水の使用量W(ml/(分・cm2))と水洗の時間T(分)の積(WT)が、0.02(ml/cm2)以上であり、基材シート単位面積単位時間当たりの水の使用量W(ml/(分・cm2))が、5ml/(分・cm2)以上、100ml/(分・cm2)以下であり、水洗後のシートが、金属薄膜を部分的に有するシートであるシートの製造方法。
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