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Fターム[5F045EK00]の内容

気相成長(金属層を除く) (114,827) | 加熱(照射)・温度制御 (3,568)

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薄膜ソーラーセル製造中に基板温度を制御する装置及び方法が提供される。1つの方法は、第1チャンバ内で、ある時間周期中に基板を予熱するように基板上で温度安定化プロセスを遂行し、第2チャンバに対する待機時間周期を計算し、待機時間周期中の基板からの熱の損失を補償するよう温度安定化時間周期を調整することを含み、上記待機時間周期は、第2チャンバの利用性、第1チャンバから第2チャンバへ基板を移送するように適応される真空移送ロボットの利用性、又はその両方に基づく。 (もっと読む)


【課題】被処理物の処理において、触媒で発生する高熱の影響を受けることなく、かつ、触媒で発生したラジカルを効果的に利用できる構造を提供することである。
【解決手段】原料ガスを高温の触媒13に接触させることで、当該原料ガスのラジカルを生成する構成であって、前記触媒13から発生する熱線に対する熱遮断部材14を有し、この熱遮断部材14は、触媒13から発生する熱を反射あるいは吸収する金属製部材15と、この金属製部材15の少なくとも熱線照射面に絶縁部材16を有することを特徴とする。 (もっと読む)


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