電子ビーム（ＥＢ）リソグラフィなどの粒子ビームリソグラフィのための方法は、セルライブラリからの情報を備える複数のセルパターンを有するステンシル設計をあらかじめ定めるステップと、ステンシル設計を加工するステップと、ステンシル設計の２つ以上の特性が、論理回路設計への機能記述の合成の間に考慮されるように、ステンシル設計をあらかじめ定めた後に論理回路設計に機能記述を合成するステップと、論理回路設計を最適化するステップと、最適化された論理回路設計からレイアウト設計を生成するステップと、ステンシル設計およびレイアウト設計にしたがって基板上に論理回路を形成するステップと、を含む。
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【課題】迅速に真空度を上昇させることが可能なロードロック装置、それを備えた基板処理装置および基板処理システムを提供する。
【解決手段】ロードロック室ＲＬはチャンバ２０１を備える。チャンバ２０１の底部には、配管２０５ａを介して真空ポンプ２０５が接続されている。また、チャンバ２０１内において、基板Ｗの上方には、希ガス供給ノズル２０６が設けられている。このロードロック室ＲＬにおいては、希ガス供給ノズル２０６から希ガスが供給されることによりチャンバ２０１内の雰囲気が希ガスで置換された後に、真空ポンプ２０５によりチャンバ２０１内が減圧される。 （もっと読む）

この発明の課題は、周期が５〜１００ｎｍの範囲内の周期的及び準周期的なパターンを費用効率が高い形で実現するためのシステム及び方法を提供することである。勿論、このシステムは、この範囲外の周期を持つパターンに対しても一般的に適用することが可能である。この課題は、干渉リソグラフィ法を用いて、サンプル上に周期的及び／又は準周期的なパターンを生成するためのシステムであって、ａ）光子源と、ｂ）所望のパターンに対応する周期的又は準周期的なパターンを有するマスクであって、光子源から第一の距離に配置された、或いはコリメータ、集光器、ミラー、レンズ、フィルター、アパーチャなどの中間の光学部品の後に配置されたマスクと、ｃ）光子源と逆側でマスクから第二の距離に配置されたサンプルを保持するためのサンプルホルダーであって、強度分布がほぼ一定となり、距離により変わらなくなる範囲内となるように第二の距離を選定するか、或いはサンプル表面上に所望の平均的な強度分布が得られるように第二の距離を変化させるためのサンプルホルダーとを備えたシステムを開示した、この発明によって達成される。
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