【課題】被処理物に形成された凸パターンに対する超音波洗浄時のダメージを抑え、かつ凹パターンの底部及び側壁部も十分に洗浄し得る超音波処理技術を提供する。
【解決手段】被処理物を超音波により洗浄処理する超音波処理装置を、超音波振動を放射する超音波振動部と、前記超音波振動部に電力を印加する発振部と、前記被処理物と該被処理物を処理する処理液を収容する収容部を有し該収容部内へ前記処理液を供給する処理液供給部とを備えるように構成し、前記処理液供給部が、前記収容部内へ供給される前の前記処理液を脱気する。 （もっと読む）

【課題】 定在波の抑制を確実に行うことで、被洗浄物の表面に発生する縞模様を無くして洗浄品質を向上させる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄層内の溶液に振動を与える超音波振動子と、洗浄層内の音圧を測定する音圧測定部と、ＡＭ変調波電力を発振して超音波振動子に供給する超音波発振部と、音圧測定部で測定した音圧に基いて超音波発振部が発振するＡＭ変調波電力の周波数および電力を制御する制御部をもつ超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を処理する処理液の濃度を求めることができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】薬液を希釈液で希釈した処理液によって基板を処理する基板の処理装置であって、
基板に供給された処理液の厚さを測定する撮像カメラ７と、測定された処理液の厚さと処理時間の関係から処理液に含まれる薬液の濃度を判定する制御装置８を具備する。 （もっと読む）

【課題】 半導体ウエハの超音波洗浄装置及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】 洗浄槽の底部に、単一の超音波振動子により発振させた複数の周波数成分が重畳された変調超音波発生装置を設ける。 （もっと読む）

超音波／メガソニック装置を用いた半導体基板の洗浄方法は、以下の工程を含む。つまり、チャックを用いて半導体基板を固定する工程と、超音波／メガソニック装置を半導体基板に隣り合うように配置する工程と、半導体基板上、及び、半導体基板と超音波／メガソニック装置との間の隙間に、薬液を注入する工程と、洗浄工程中のチャックの各回転毎に半導体基板又は超音波／メガソニック装置を時計回り又は反時計回りに回転することにより、半導体基板と超音波／メガソニック装置との間の隙間を変化させる工程とを含む。
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【課題】簡便にオゾンガスの濃度を測定することができるオゾンガス濃度測定方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷのベベル部に付着したＣＦ系デポ１８を除去するベベル部洗浄装置１０において、処理ガス生成器２２は酸素ガスを含む原料ガスからオゾンガスを含む処理ガスを生成し、処理ガス用マスフローコントローラ２３は処理ガスの流量を測定し、コントローラ３３は原料ガスから処理ガスへの流量減少率を算出し、該流量減少率に基づいて処理ガスに含まれるオゾンガスの濃度を算出する。 （もっと読む）

【課題】 材料ガスの分圧が変動したとしても、混合ガスにおける材料ガスの濃度を一定に保つことができ、応答性が良く、バブリングシステムに容易に取り付けて濃度制御を行うことができる材料ガス濃度制御装置を提供する
【解決手段】 材料Ｌを収容するタンク１３と、収容された材料を気化させるキャリアガスを前記タンクに導入する導入管１１と、材料が気化した材料ガス及び前記キャリアガスの混合ガスを前記タンク１３から導出する導出管１２とを具備した材料気化システム１に用いられるものであって、前記導出管１２に接続され、前記混合ガスを流すための内部流路Ｂ１を有した基体Ｂと、前記内部流路Ｂ１を流れる混合ガスにおける材料ガスの濃度を測定する濃度測定部ＣＳと、前記内部流路Ｂ１において前記濃度測定部ＣＳよりも下流に設けられ、前記濃度測定部ＣＳによって測定された測定濃度を調節する第１バルブ２３とを具備しており、前記濃度測定部ＣＳと前記第１バルブ２３は前記基体Ｂに取り付けた。 （もっと読む）

【課題】 耐久性とコストを両立する合板素材の振動板について、共振性能を向上させることができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液を保持する洗浄槽と、洗浄槽に振動を伝播可能に設けられる振動板と、振動板を振動させる超音波振動素子とを具備する超音波洗浄装置であって、振動板は、第１素材により形成される第１板材と、第１板材に重ね合わされ第２素材により形成される第２板材からなり、第１板材の厚さをｔ_１、第２板材の厚さをｔ_２、第１板材の音速をｖ_１、第２板材の音速をｖ_２、超音波振動素子の発振周波数をｆ、自然数をｎとすると、
【数１】


の関係を満たすことを特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】アッシング及びクリーニング時における処理均一性と処理スピードを改善向上させるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】二周波電力同時供給バッチ式プラズマ処理装置は減圧反応容器１１を備える。被処理物を置くテーブル部を兼ねた第一電極１２が設置され周波数１３．５６ＭＨｚの発振器１３からインピーダンス整合器１４を介して高周波電力が供給される。更に第二電極１５には整合トランス１６を介して４０ＫＨｚの発振器１７から低周波電力が同時に供給される。反応ガスは第二電極１５へシャワー状に中空孔加工されたガス噴出口２２から導入され、高周波電力と低周波電力の結合により発生した高密度で高エネルギーなプラズマ中の荷電粒子が被処理物を囲む第二電極間１５で左右交互に加速且つ揺り動かされる。 （もっと読む）

【課題】動的な機構を付加することなく、基板の表面において超音波振動が伝播しない領域を低減し、基板の表面を均一に洗浄できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】内槽１１の側壁１１ｂ，１１ｄに、傾斜面１４ａ，１５ａを有する反射部材１４，１５を設ける。内槽１１の側部付近に付与された超音波振動は、反射部材１４，１５の傾斜面１４ａ，１５ａにおいて反射し、支持棒２１１〜２１３の上方の領域に伝播する。このため、これらの領域にも超音波振動が伝播し、基板Ｗの表面において超音波振動が伝播しない領域が低減される。これにより、基板Ｗの表面を均一に洗浄できる。 （もっと読む）

【課題】従来の銅配線半導体用洗浄剤は、パーティクル成分のうち、研磨剤の無機微粒子や金属イオン成分の除去には効果があるものの、銅配線に付着する研磨剤由来の有機残渣を除去する効果が不十分であるばかりか、金属配線材料（銅、タングステン等）が腐食するという問題がある。
【解決手段】有機アミン（Ａ）、少なくとも１個のカルボキシル基を含有し下記式で表される式量電位（Ｖ）が−０．１７０〜０．４３０である多価水酸基含有化合物（Ｂ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが２〜１４であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤。

式量電位（Ｖ）＝１．７４１×（ＬＵＭＯ−ＨＯＭＯ）−０．４６２

［式中、ＬＵＭＯ、ＨＯＭＯは、プログラムシステムＧＡＵＳＳＩＡＮで成分の第一原理計算を行い算出した最高被占軌道（ＨＯＭＯ）と最低空軌道（ＬＵＭＯ）のエネルギーレベルである。］ （もっと読む）

【課題】簡単な構造で処理槽の中央部と壁側との超音波出力を調節可能にし、超音波振動子ごとに超音波出力を調整して音圧分布の均一化を図る超音波処理装置を提供する。
【解決手段】超音波発振器より超音波出力を入力することが可能な超音波振動子３を処理液２で満たされた処理槽１０底面の輻射板１２に外側底部の設置面１２ｂから配置させて励振させることで処理液２中の被洗浄物１を洗浄する超音波洗浄装置であって、処理槽１０の輻射板１２に中央の中央部Ａ及びその周囲の壁側Ｂからなる設置面１２ｂを設定し、この設置面１２ｂ内で処理槽１０の洗浄状態に応じて、超音波発振器により中央部Ａに低い超音波出力を入力して励振させる超音波振動子３Ａと、壁側Ｂに高い超音波出力を入力して励振させる超音波振動子３Ｂとを各々分けて備える。 （もっと読む）

【課題】槽タイプの洗浄装置において、振動子固有のベンディングモード等の特性に左右されず、また、複数枚の振動素子を振動子として洗浄槽に取付けた場合であっても、被洗浄面内での洗浄ムラを抑制できる超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法を提供する。
【解決手段】被洗浄物Ｗを洗浄するための洗浄液４で満たされる洗浄槽１５と、洗浄液に超音波振動を伝播させる２個の振動子１１、１２と、該振動子に高周波電圧を印加する超音波発振器１６、１７とを具備し、被洗浄物を洗浄液に浸漬して超音波洗浄をする超音波洗浄装置１０において、２個の振動子のうち、少なくとも１個の振動子の周波数を掃引させることにより、洗浄液内で発生したキャビテーション領域を移動させて被洗浄物を洗浄する超音波洗浄装置１０およびそれを利用した超音波洗浄方法。 （もっと読む）

メガソニックプロセス装置および方法は、少なくとも３００ｋＨｚの基本共振周波数で厚さ方向モードで作動する１つ以上の圧電振動子を備える。発生器は、所定のスイープ周波数領域で変動する変動周波数駆動信号で振動子を起動する。発生器は、全振動子の共振周波数を含むスイープ周波数領域中で駆動信号の周波数を繰り返し変動させあるいはスイープする。 （もっと読む）

本発明は、基板を次の工程によって処理するための方法に関する。処理すべき基板の局所的な表面領域に液体膜を、少なくとも１つの長尺のノズル装置及び該ノズル装置に隣接して配置された超音波変換装置若しくはメガ音波変換装置を備えたノズルユニットによって形成し、前記超音波変換装置の少なくとも一部分を前記液体膜と接触させ、かつ前記超音波変換装置によって超音波を前記液体膜内に作用させる。 （もっと読む）