【課題】電子材料用途等に好適なハロゲン不純物の低減化された高純度のアミノシランを提供することを目的とする。
【解決手段】Ｓｉ−Ｎ結合を有し、かつＳｉ−ハロゲン結合を持たないアミノシランであり、不純物として１ｐｐｍ（ｗ／ｗ）以上のハロゲンを含有するアミノシランを、アルキル金属試薬で処理する工程と、処理されたアミノシランを蒸留する工程を少なくとも含む精製されたアミノシランの製造方法を提供する。 （もっと読む）

本発明の対象は、アルキルクロロシラン及びハイドロジェンクロロシランから選択されるシランを含有するシラン混合物を蒸留装置において熱的分離する方法であって、蒸留装置の加熱のための熱の少なくとも一部を排出蒸気によって他の蒸留装置に転用し、そして高くても２００ｐｐｍの不純物を有するシラン生成物が得られる前記方法である。 （もっと読む）

本発明は、珪素化合物、殊にオルガノシラン及び／又は無機シラン並びに少なくとも１種の異種金属及び／又は異種金属含有化合物を含有している組成物を処理する方法に関し、この際、前記組成物を少なくとも１種の吸着剤及び／又は第１フィルターと接触させ、引き続き、その中の異種金属及び／又は異種金属含有化合物の含分が低減されている組成物を取得する。更に本発明は、前記化合物の減少のために、有機樹脂、活性炭、珪酸塩及び／又はゼオライト及び／又は小さい細孔寸法を有するフィルター少なくとも１つを使用することにも関する。 （もっと読む）

本発明は、オルガノシランならびに少なくとも１つの極性有機化合物および／または少なくとも１つの異種金属および／または異種金属を含有する化合物を含有する組成物の処理方法であって、その際、前記組成物を、少なくとも１つの吸着剤と接触させ、前記有機極性化合物および／または前記異種金属および／または前記異種金属を含有する化合物の含有量が減少されている前記組成物を引き続き取得する方法ならびに前記極性有機化合物および／または前記異種金属の含有量が微量に減少されている相応する組成物、同様に上記化合物を軽減させるための有機樹脂、活性炭、シリケートおよび／またはゼオライトの使用に関する。 （もっと読む）

少なくとも１種の重合禁止剤の存在下でシロキサニルモノマーを精製する減圧蒸留法が開示されている。さらなる局面において、該重合禁止剤はアルキルヒドロキノン又はヒドロキシナフタレンであり得る。また、開示された方法により精製された化合物、及びそれから製造されるポリマーも開示されている。 （もっと読む）

【課題】窒素含有オルガノシラン又は酸素含有オルガノシランを、酸により触媒される侵食から安定化させ、そして生ずる分解を妨ぐための方法の提供。
【解決手段】製品の分解の影響を受けやすい、少なくとも一つのＳｉ−Ｈ又はＮ−Ｈ基を有する窒素含有オルガノシランを、（ａ）残余のアニオン又は金属カチオンを除去するための弱塩基性イオン交換媒体と接触させる段階、（ｂ）前記オルガノシランを前記弱塩基性イオン交換樹脂から分離する段階、（ｃ）前記オルガノシランを蒸留する段階よりなる処理を施す。上記Ｓｉ−Ｈ基を侵食するアニオン又は酸が排出され、この分解が妨げられる。これらのアニオンに低濃度で曝露しても、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素及び窒化ケイ素膜の使用に関する半導体の加工において、重大な分解を生じ、そして製品安定性及び長期間の有効期間に重大な影響が生じうる。 （もっと読む）

【課題】混合物上の塩化物塩を他の有機ケイ素前駆体材料と沈殿させる可能性が実質的に無い有機ケイ素前駆体組成物を提供する。
【解決手段】ジエトキシメチルシランを含む別の組成物と混合した場合に収率好ましからざる塩化物塩沈殿を与えないジエトキシメチルシランを含む有機ケイ素組成物、溶解残留塩化物の濃度、および溶解残留塩化物捕集剤の濃度を与える。 （もっと読む）

本願は、アルコキシシランに残存するハロゲン化物含有量を低減するための方法を開示する。前記方法は、残存するハロゲン化物含有量を有するアルコキシシランを、活性炭と接触させて、その後にアルコキシシランを分離する工程を含む。結果として得られる物質は、他の化合物の調製のための中間体として有用であり、電子工学的用途における使用のためにも有用である。 （もっと読む）

トリネム合成の重要な中間体である、式２に示す１’−ヒドロキシ−２’−置換シクロヘキシルアゼチジン−２−オン化合物の新規調製法を、式ＲＹＨで示す求核化合物（求核試薬が液体形態の場合には溶媒自体としての役割を果たすこともある。）による、式１に示す（３Ｓ，４Ｒ）−３−［（１Ｒ）−１−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル］−４−［（１’Ｒ，２’Ｓ，３’Ｒ）−１’，２’−エポキシシクロヘキサン−３’−イル］アゼチジン−２−オンのエポシキド環の開環によって記載する。本合成法では、適切な溶媒中およびトリフルオロメタンスルホン酸の塩、好ましくはイッテルビウム（ＩＩＩ）トリフルオロメタンスルホナート、スズ（ＩＩ）トリフルオロメタンスルホナートまたはジスプロシウム（ＩＩＩ）トリフルオロメタンスルホナートの群からの適切な触媒の存在下、反応混合物をａ）超音波照射またはｂ）マイクロ波照射した後、所望の化合物を単離および精製する。新規方法の変形形態では、ａ）マイクロ波照射下またはｂ）マイクロ波非照射下で、適切な溶媒中で式ＮＨ_４Ｘで示す化合物を用いて式１に示す出発化合物のエポキシド環を開環させて式２に示す所望の化合物を得ることを記載する。式１に示す化合物の代わりに、式６に示す化合物を出発化合物として使用してもよく、その場合、当分野において既知である、任意の他の適切なヒドロキシ保護基を当該出発化合物の式中で使用してもよい。 （もっと読む）

【課題】選択透過膜を使用することを特徴とする、アルカノールを含む混合物からのアルコキシシランの分離方法の提供。具体的には、トリアルコキシシランを調製する直接合成工程から生じた粗生成混合物からのアルキルジアルコキシシランの回収、特に粗トリメトキシシラン反応生成物からのメチルジメトキシシランの回収を実施するための膜分離方法の提供。別の態様として、ＳｉＨ結合のアルコール分解及び／又はトリアルコキシシランの不均化を回避若しくは最小化しながら、かかる回収工程を実施する方法の提供。
【解決手段】第１表面とそれに対向する第２表面を有する分離膜を有する分離ユニットに、１つ以上のアルコキシシランとアルカノールの混合物を導入する工程と、前記１つ以上のアルコキシシランとアルカノールの混合物を、前記分離膜の前記第１表面と接触させて、前記混合物中の１つ以上の成分を選択的に第１表面に吸収させ、膜全体の濃度勾配の影響により前記第２表面に浸透させ、それによって、前記混合物を、アルカノールが増加した透過物フラクションとアルカノールが減少した保持フラクションに、又はアルコキシシランが増加した透過物フラクションとアルコキシシランが減少した保持フラクションに分離する工程と、透過物フラクションを回収する工程を含んでなる方法。 （もっと読む）