【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、金属を接合部材として用いることによって外部の水分や酸素の影響を防止すると同時に、金属接合部に起因する寄生容量の発生を防止する。
【解決手段】有機ＥＬ素子を形成した第１基板２６と、第２基板２７とを、共通電極１１を介して金属接合部２５により接合する。 （もっと読む）

【課題】輝度の均一化が可能な面状発光装置を提供する。
【解決手段】第２の面状発光装置３０とともに駆動される第１の面状発光装置２０は、透明基板と、透明基板の一主面に形成され面状陽極及び面状陰極に有機層が挟まれた複数の有機ＥＬ素子（有機ＥＬ部）とを有する。有機ＥＬ部は、他の面状発光装置（第２面状発光装置３０）に含まれる有機ＥＬ素子と直列に接続されている。そして、各有機ＥＬ素子の発光領域Ｈ１，Ｈ２は同一面積に設定されている。 （もっと読む）

【課題】凹凸面上にも容易に形成することができ、成膜プロセスが簡便でコスト的に有利な透明電極を有する積層体を提供すること、また、前記積層体を有し、光取り出し効率の観点で優れる有機電界発光装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも、透明基板、光拡散層、及び光透過性を有する導電性層をこの順に有する積層体であって、該導電性層は、導電性マトリックスと該導電性マトリックスよりも大きな屈折率を有する粒子とを含有する、積層体。 （もっと読む）

【課題】焼成によるコンタクトホールにおけるコンタクト抵抗値の増加を抑制して、良好な品質を備えた有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】金属から成る配線部を含むＴＦＴ層が上面に形成された基板を準備する第１の工程と、前記ＴＦＴ層の上に絶縁膜用材料の層を積層する第２の工程と、前記配線部の一部が露出するように、前記絶縁膜用材料の層にコンタクトホールを形成する第３の工程と、前記絶縁膜用材料の層を、酸素を含む雰囲気で加熱焼成して絶縁膜層を形成する第４の工程と、前記第４の工程において前記配線部の表面の金属が酸化して形成された金属酸化物をエッチャントに溶解させて除去する第５の工程と、前記コンタクトホールにおいて前記配線部の一部に電気的に接続するように画素電極を形成し、前記画素電極の上方に有機発光層を形成し、前記有機発光層の上方に対向電極を形成する第６の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】燐光発光を利用した有機ＥＬ素子の光の取出し効率を向上させることが可能な有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明支持基板１０、第一の凹凸が形成されている凹凸層からなる回折格子１１、並びに、第一の凹凸の形状が維持されるようにして、回折格子１１上に順次積層された透明電極１２、少なくとも発光層１３１を備える有機層１３、及び、金属電極１４を備える有機ＥＬ素子であって、（Ａ）第一の凹凸の形状のフーリエ変換像が、円状又は円環状の模様を示しており、且つ、該模様が波数の絶対値が１０μｍ^−１以下の範囲内となる領域内に存在する、（Ｂ）第一の凹凸と、金属電極の有機層に対向する面の表面に形成された第二の凹凸とがいずれも、凹凸の深さ分布の標準偏差が１５〜５０ｎｍとなる、（Ｃ）第一の凹凸の深さ分布の標準偏差に対する第二の凹凸の深さ分布の標準偏差の変化率が＋１５％〜−１５％である、ことを満たしている有機ＥＬ素子。 （もっと読む）