インクジェット用インク
【課題】耐エッチング性又は耐めっき性とアルカリ剥離性などとのバランスのとれたレジスト膜を形成することのできるインクジェット用インクが求められている。
【解決手段】下記式（１）で表され、重量平均分子量が１，０００から８，０００である樹脂（Ａ）を含むインクジェット用インクにより上記課題を解決する。
（式（１）中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数、ｎは０〜１００の数である。）
【解決手段】下記式（１）で表され、重量平均分子量が１，０００から８，０００である樹脂（Ａ）を含むインクジェット用インクにより上記課題を解決する。
（式（１）中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数、ｎは０〜１００の数である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルカリ水溶液で剥離可能なインクジェット用インクに関し、更に詳しくはプリント配線板などの電子回路基板作製用レジストとして使用可能な耐エッチング性を有するエッチングレジスト、又は、耐めっき性を有するめっきレジストなどに適したインクジェット用インクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板、フレキシブル配線板、半導体パッケージ基板などの電子回路基板の製造には、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法が行われてきた。このフォトリソグラフィー法による電子回路基板の製造方法では、例えば、プリント配線板の場合、銅張積層板の銅箔上にフォトレジスト層を形成し、その表面にフォトマスクなどを介して露光し、その後、未硬化部分を除去してレジストパターンを形成する。次いで、レジストパターンに覆われていない部分の銅箔をエッチングにより除去し、レジストパターンを除去することで、プリント配線板が得られる。
【０００３】
しかし、このようなプリント配線板の製造方法は、フォトマスクの作製に長い時間と多くの費用がかかることから、設備投資金額が増大する。またフォトマスクを用いたパターン露光が必要なことから工程が複雑で、操作も煩雑となる。
【０００４】
近年、これらの問題を解決するため、インクジェット方式を用いてレジスト材料を基板上に直接塗布し、レジストパターンを形成する方法が開発されている（例えば、特開昭５６−６６０８９号公報（特許文献１）、特開昭６２−１８１４９０号公報（特許文献２）、特開平６−２３７０６３号公報（特許文献３）、特開平７−１３１１３５号公報（特許文献４）を参照）。この方法は、従来必要であったパターン露光を不要にできることから設備投資金額が少なく、また、材料の歩留りが高いなどの点から期待が持たれている。
【０００５】
このようなインクジェット法に用いられるレジスト材料には、エッチングレジスト、めっきレジストなどが挙げられ、一般に、エッチングレジストには耐エッチング性、めっきレジストには耐めっき性特性が求められる。これまでに、インクジェット法に使用可能なレジスト材料として、様々なインク組成物が提案されている（特開平７−１７００５３号公報（特許文献５）、特開２００４−３５３０２７号公報（特許文献６）、特開２００５−０５７０１８号公報（特許文献７）が、これらのインクにより形成されたレジスト膜は、十分な耐エッチング性又は耐めっき性を有し、合わせて優れたアルカリ剥離性を有してはいなかった。
【０００６】
一方、ポリビニルフェノール及びその誘導体を用いたレジスト（特開昭６１−２９１６０６号公報（特許文献８）、特開平８−２１１６１０（特許文献９）、特開昭６０−１５６３６号公報（特許文献１０）、特開昭６０−１７７３９号公報（特許文献１１）、特開昭６０−１７７４０号公報（特許文献１２））は、耐メッキ性、アルカリ剥離性に優れ、フォトリソグラフィー法で使用されている。しかしながら、インクジェット用インクとして高分子量のポリビニルフェノール及びその誘導体を使用した場合、吐出不良となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭５６−６６０８９号公報
【特許文献２】特開昭６２−１８１４９０号公報
【特許文献３】特開平６−２３７０６３号公報
【特許文献４】特開平７−１３１１３５号公報
【特許文献５】特開平７−１７００５３号公報
【特許文献６】特開２００４−３５３０２７号公報
【特許文献７】特開２００５−０５７０１８号公報
【特許文献８】特開昭６１−２９１６０６号公報
【特許文献９】特開平８−２１１６１０号公報
【特許文献１０】特開昭６０−１５６３６号公報
【特許文献１１】特開昭６０−１７７３９号公報
【特許文献１２】特開昭６０−１７７４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記の状況の下、耐エッチング性又は耐めっき性とアルカリ剥離性などとのバランスのとれたレジスト膜、及びこのような特性を有するレジスト膜を形成することが可能なインクジェット用インクが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、インクジェット用インクの構成成分を各種検討した結果、一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含有するインクジェット用インクが、優れた特性を有することを見出した。さらに、樹脂（Ａ）に加えて、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクが、特にジェッティング性と耐エッチング性又は耐めっき性に優れ、アルカリ剥離可能な硬化膜を形成できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。本発明は以下のようなインクジェット用インク、インクジェット用インクから得られた硬化膜及びその形成方法などを提供する。
【００１０】
本発明は、以下の項を含む。
【００１１】
［１］下記一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含むインクジェット用インク。
（式（１）中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数、ｎは０〜１００の数である）
【００１２】
［２］樹脂（Ａ）において、ｎが０である、項［１］に記載のインクジェット用インク。
【００１３】
［３］樹脂（Ａ）の重量平均分子量が１，６００〜６，０００である、項［１］〜［２］に記載のインクジェット用インク。
【００１４】
［４］さらにカルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）を含有する、項［１］〜［３］に記載のインクジェット用インク。
【００１５】
［５］樹脂（Ａ）の含有量が０．５〜２０重量％である、項［４］に記載のインクジェット用インク。
【００１６】
［６］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである項［４］または［５］に記載のインクジェット用インク。
【００１７】
［７］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が酸変性エポキシ（メタ）アクリレートである項［４］〜［６］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００１８】
［８］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量３００〜１２，０００の酸変性エポキシアクリレートである、項［４］〜［７］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００１９】
［９］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）がビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートである項［４］〜［８］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２０】
［１０］希釈剤（Ｃ）の２５℃の粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓである、項［４］〜［９］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２１】
［１１］希釈剤（Ｃ）が、カルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである、項［４］〜［１０］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２２】
［１２］希釈剤（Ｃ）が一般式（２）で表されるカルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートである、項［４］〜［１１］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
（一般式（２）中、Ｒ1は水素又は炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ2は環状構造を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレンであり、ｎは１〜３０の整数である。）
【００２３】
［１３］樹脂（Ａ）が重量平均分子量４，０００〜６，０００であるポリビニルフェノールであり、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量５００〜１１，０００のビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートであり、希釈剤（Ｃ）が２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートであり、光重合開始剤（Ｄ）が２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドである、項［４］〜［１２］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２４】
［１４］２５℃の粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓである、項［１］〜［１３］に記載のインクジェット用インク。
【００２５】
［１５］項［１］〜［１４］のいずれか１項に記載のインクジェット用インクをインクジェット方式により基板上に塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【００２６】
［１６］項［１］〜「１４］のいずれか１項に記載のインクジェット用インクから得られた硬化膜。
【００２７】
［１７］パターン状に形成されている、項［１６］に記載の硬化膜。
【００２８】
［１８］項［１７］に記載の硬化膜を用いたエッチングレジスト膜又はめっきレジスト膜を形成する工程と、その後のエッチング工程又はめっき工程と、その後の前記膜を剥離する工程とを有する、基板の製造方法。
【００２９】
［１９］項［１８］に記載の方法により得られた基板を有する電子部品。
【００３０】
［２０］項［１９］に記載の電子部品を有する表示素子
【００３１】
なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクによれば、インクの吐出性、膜の硬化性、耐エッチング性、及び耐めっき性に優れたアルカリ剥離可能なインクジェット用インクを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
１． 発明のインクジェット用インク
本発明のインクジェット用インクは、一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含有すれば、特に制限されない。さらに、必要に応じてカルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）を含有してもよい。本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。
【００３４】
本発明のインクジェット用インクは、上記に加えて、必要に応じて、さらにエポキシ樹脂、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤などを含んでもよい。
【００３５】
ここで、本明細書中の重量平均分子量は、カラムとしてPolymer Laboratories製ＴＨＦ系カラムを使用してＧＰＣ法（カラム温度：３５℃、流速：１ｍｌ/ｍｉｎ）により求めたポリスチレン換算での値である。なお、本明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。
【００３６】
１．１ 樹脂（Ａ）
本発明のインクジェット用インクは、上記式（１）で表される樹脂（Ａ）を含む。樹脂（Ａ）は、ビニルフェノールを含むモノマーから得られる重合体であり、ＯＨは主鎖に対してパラ、オルソまたはメタ位をとるポリビニルフェノール系の重合体である。
【００３７】
式中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数であり、ｎは０〜１００の数である。ｍが２以上の場合、式（１）における［ ］内の構成単位の繰り返しは、同一構造であっても、異なる構造でもよい。すなわちｎの数が異なる構造の繰り返しであっても、ｎの数が同一の構造の繰り返しであってもよい。ｎは好ましくは０〜１０であり、より好ましくは０〜５であり、特に好ましくはｎ＝０である。
【００３８】
本発明において、Ｘの原料として用いられるラジカル重合性モノマーとしては、制限するわけではないが、種々の重合性不飽和結合を有する化合物が用いられる。例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチルなどの（メタ）アクリル酸エステル、アクリルアミドなどのアクリル系モノマー、エチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、無水マレイン酸、酢酸ビニル、ビニルピリジンが挙げられる。
【００３９】
前述のポリビニルフェノール系の重合体は商業的に入手できる。例えば丸善石油化学製のマルカリンカーＭ（ポリ−ｐ−ビニルフェノール）、マルカリンカーＣＭＭ（ｐ−ビニルフェノール／メタクリル酸メチル共重合体）、マルカリンカーＣＨＭ（ｐ−ビニルフェノール／メタクリル酸２−ヒドロキシエチル共重合体）、マルカリンカーＣＳＴ（ｐ−ビニルフェノール／スチレン共重合体）が挙げられる。なお、樹脂（Ａ）は２種類以上を混合して使用することもできる。
【００４０】
本発明の樹脂（Ａ）のポリスチレン換算での重量平均分子量は、１，０００〜８，０００が好ましく、１，６００〜６，０００がより好ましく、４，０００〜６，０００がさらに好ましい。この範囲であれば、膜の硬化性が良好で、耐エッチング性又は耐メッキ性などの膜特性が優れ、ジェッティング特性も良好である。また、得られる硬化膜のアルカリへの溶解性も良好である。
【００４１】
樹脂（Ａ）の含有量は、インクジェット用インク固形分の０．１〜５０重量％であると、耐エッチング性又は耐メッキ性と、アルカリ剥離性と、ジェッティング特性とのバランスがよくなるので好ましく、より好ましくは０．５〜２０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜１０重量％であり、特に好ましくは１〜１０重量％である。
【００４２】
１．２ カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクは、アルカリ剥離性を向上させるために、カルボキシル基を有しているモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）を含有してもよい。ここで、「カルボキシ基を有しているオリゴマー」は、２つ以上のモノマーが結合した重合性化合物のうち、少なくとも１つ以上のカルボキシル基を有している化合物である。
【００４３】
カルボキシル基を有しているモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）は、カルボキシル基を有していれば特に限定されないが、例えば、耐エッチング性又は耐めっき性に優れ、合わせてアルカリ剥離性をさらに向上させるためには、酸変性エポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４４】
本発明における酸変性エポキシ（メタ）アクリレートは、１分子中に２以上の重合性二重結合及び１以上のカルボキシル基を有している化合物である。ここで、重合性二重結合とは、重合可能な炭素−炭素二重結合のことである。重合性二重結合を有する基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニル基、又はマレイミド基が挙げられる。重合性二重結合は、熱重合性であっても、光重合性であってもよいが、好ましくは光重合性を有するものである。
【００４５】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレートのポリスチレン換算での重量平均分子量は、３００〜１２，０００が好ましく、５００〜１１，５００がより好ましく、９００〜１１，０００がさらに好ましく、９００〜８，０００がさらに好ましく、９００〜６，０００が特に好ましい。この範囲であれば、耐エッチング性又は耐めっき性などの膜特性が優れ、ジェッティング特性も良好である。また、得られる硬化膜のアルカリへの溶解性も良好である。
【００４６】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレートの具体例としては、エポキシ化合物に、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートに、さらに多塩基酸又は多塩基酸無水物を反応させて得られるものが挙げられる。
【００４７】
エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型のエポキシ樹脂などが挙げられる。この中でも、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型が好ましく、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型がさらに好ましく、耐めっき性の点でビスフェノールＦ型が特に好ましい。
【００４８】
カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸、β-カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物が挙げられる。
【００４９】
多塩基酸又は多塩基酸無水物としては、例えば、フタル酸、ピロメリット酸、コハク酸、トリメリット酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−マレイン酸共重合体などの多塩基酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−無水マレイン酸共重合体などの多塩基酸無水物が挙げられる。
【００５０】
本発明で用いられるエポキシ化合物、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート、多塩基酸又は多塩基酸無水物は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５１】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ ＣＣＲ−１１５９Ｈ（分子量：７５００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＣＣＲ−１２８５Ｈ（酸価：８２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４０１Ｈ（分子量：１２０００、酸価：９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９１Ｈ（酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９２Ｈ（酸価：１０２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＴＣＲ−１３１０Ｈ（分子量：４５００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、日本ユピカ（株）製のネオポール８４３０（分子量：１００００、酸価：８８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４３２（分子量：８０００、酸価：９２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７０（分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７２（分子量：７０００、酸価：１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７５（分子量：１００００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７６（分子量：５０００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７７（分子量：１００００、酸価：９４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８３７１、同８３１６、同８３１７、同８３１０（分子量：１０００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）などが挙げられる。なお、本段落における「分子量」は重量平均分子量を示す。
【００５２】
その他のカルボキシル基を有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）として、以下のものが挙げられる。
【００５３】
カルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、β-カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物が挙げられる。
【００５４】
カルボキシル基を有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）の含有量は、インクジェット用インク固形分の１〜７０重量％であると、耐エッチング性又は耐めっき性と、アルカリ剥離性と、ジェッティング特性とのバランスがよくなるので好ましく、より好ましくは２〜６５重量％であり、さらに好ましくは３〜６０重量％であり、特に好ましくは４〜５５重量％である。
【００５５】
カルボキシル基を有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００５６】
１．３ 希釈剤（Ｃ）
本発明のインクジェット用インクは、各種特性を向上させるために希釈剤（Ｃ）を含有してもよい。本発明の希釈剤（Ｃ）は特に限定されないが、２５℃の粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、ラジカル重合性を有するモノマーや溶媒が挙げられる。ラジカル重合性を有するモノマーとしては、カルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートまたは多単官能（メタ）アクリレートが好ましく、上記一般式（２）で表される単官能（メタ）アクリレートがより好ましい。
１．３（１） 単官能重合性モノマー
ラジカル重合性を有している化合物が単官能重合性モノマーであれば、ジェッティング性が良好になるので特に好ましい。
【００５７】
単官能重合性モノマーの具体例は、一般式（２）の化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートを挙げることができ、その他の化合物としては、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドを挙げることができる。
【００５８】
これらの単官能重合性モノマーは１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００５９】
その中でも例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等であればインクの相溶性、インク固体成分の溶解性を向上させるため、さらにインク滴が基板に着弾した後の液の広がりが小さいため高精細化が可能なるため、より好ましい。
【００６０】
これらのヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーは１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００６１】
希釈剤（Ｃ）としての単官能重合性モノマーの含有量は、インクジェット用インク総量の１〜７０重量％であると、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他の特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは２〜６５重量％であり、さらに好ましくは３〜６０重量％であり、特に好ましくは４〜５５重量％である。
【００６２】
１．３（２） 多官能重合性モノマー
希釈剤（Ｃ）としては、多官能重合性モノマーであってもよい。
【００６３】
多官能重合性モノマーの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、変性イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ウレタン（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００６４】
これらの多官能重合性モノマーは１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００６５】
希釈剤（Ｃ）としての多官能重合性モノマーの含有量は、インクジェット用インク総量の０.１〜６０重量％であると、使用する用途に合わせた粘度の調整と他の特性とのバランスがよく、より好ましくは０．５〜５５重量％であり、さらに好ましくは０．８〜５０重量％であり、特に好ましくは１〜４５重量％である。
【００６６】
１．３（３） 溶媒
希釈剤（Ｃ）として溶媒を用いてもよい。インクジェットヘッドを加温する場合、インクに低沸点の溶媒が含まれていると溶媒が揮発してインクの粘度が上昇しインクジェットヘッドのノズル口が詰まってしまうことがある。そのため、特に沸点が１００〜３００℃の溶媒が好ましい。
【００６７】
沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、水、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、又はジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【００６８】
これらの溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００６９】
希釈剤（Ｃ）としての溶媒の含有量は、インクジェット用インク総量の０.１〜１０重量％であると、ジェッティング性と他の特性のバランスが良く、より好ましくは０．２〜８重量％であり、さらに好ましくは０.５〜６重量％であり、特に好ましくは１〜５重量％である。
【００７０】
希釈剤（Ｃ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。例えば、単官能重合性モノマーと溶媒との混合物であってもよい。
【００７１】
１．４ 光重合開始剤（Ｄ）
本発明のインクジェット用インクは、これに光硬化性を付与するために、光重合開始剤（Ｄ）を含有してもよい。光重合開始剤（Ｄ）は、紫外線または可視光線の照射によりラジカルを発生する化合物であれば特に限定されない。
【００７２】
光重合開始剤（Ｄ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、又は２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを挙げることができる。
【００７３】
光重合開始剤（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７４】
光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、インクジェット用インク総量の０．５〜２０重量％であると、インクジェット用インクとしたとき、紫外線に対して高感度となるので好ましく、より好ましくは１〜２０重量％であり、さらに好ましくは２〜２０重量％である。
【００７５】
１．５ その他の成分
本発明のインクジェット用インクは、各種特性をさらに向上させるためにエポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤などを含んでもよい。
【００７６】
１．５（１） エポキシ樹脂
本発明のインクジェット用インクは、例えば、耐エッチング性又は耐めっき性を向上させるために、エポキシ樹脂を含んでもよい。
【００７７】
エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、又は脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
【００７８】
エポキシ樹脂の市販品としては、エピコート８０７、同８１５、同８２５、同８２７、同８２８、同１９０Ｐ、同１９１Ｐ（商品名；油化シェルエポキシ（株）製）、エピコート１００４、同１２５６（商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、アラルダイトＣＹ１７７、同ＣＹ１８４（商品名；日本チバガイギー（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、ＥＨＰＥ−３１５０（商品名；ダイセル化学工業（株）製）、又はテクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）を挙げることができる。
【００７９】
インクジェット用インクに用いられるエポキシ樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８０】
エポキシ樹脂の含有量が、インクジェット用インク固形分の１〜２０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、より好ましくは１〜１０重量％であり、さらに好ましくは１〜７重量％である。
【００８１】
１．５（２） 界面活性剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、下地基板への濡れ性や、硬化膜の膜面均一性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、及びフッ素系界面活性剤などが用いられる。
【００８２】
界面活性剤の市販品としては、Ｂｙｋ−３００、同３０６、同３３５、同３１０、同３４１、同３４４、及び同３７０（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤、Ｂｙｋ−３５４、同３５８、及び同３６１（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、又は同２５１（商品名；ネオス（株）製）、メガファックＦ−４７９（商品名；ＤＩＣ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【００８３】
インクジェット用インクに用いられる界面活性剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８４】
界面活性剤の含有量が、インクジェット用インク固形分の０．００１〜１重量％であると硬化膜の膜面均一性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．００１〜０．１重量％であり、さらに好ましくは０．００１〜０．０５重量％である。
【００８５】
１．５（３） 着色剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、染料、顔料が好ましい。
【００８６】
インクジェット用インクに用いられる着色剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８７】
着色剤の含有量が、インクジェット用インク固形分の０．１〜５重量％であると硬化膜の検査が容易であるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１重量％であり、さらに好ましくは０．１〜０．５重量％である。
【００８８】
１．５（４） 重合禁止剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でも、フェノチアジンが長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましい。
【００８９】
インクジェット用インクに用いられる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００９０】
重合禁止剤の含有量が、インクジェット用インク固形分の０．０１〜１重量％であると長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
【００９１】
１．６ インクジェット用インクの粘度
本発明のインクジェット用インクは、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓであると、インクジェット印刷による塗布特性（ジェッティング精度など）が良好となるので好ましい。２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは１０〜１８０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは２０〜１５０ｍＰａ・ｓである。
【００９２】
２５℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以上のインクを使用する場合は、インクジェットヘッドを加温して吐出時の粘度を下げると、より安定した吐出が可能になる。インクジェットヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は１〜３０ｍＰａ・ｓが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであればさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
【００９３】
インクジェットヘッドを加温する場合、溶媒を含まないインクを用いることが好ましい。その場合、インクの粘度は、希釈剤（Ｃ）の種類と含有量を適宜選択することにより調整することが好ましい。インクジェットヘッドを加温しない場合、インクの粘度はインク総量の１０重量％以下の溶媒を加えて調整することができる。
【００９４】
１．７ インクジェット用インクの保存
本発明のインクジェット用インクは、−２０〜２０℃で保存すると保存中の粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
【００９５】
２．インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、及び、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
【００９６】
インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、フォトリソグラフィー法に比べて、コストの削減となる。
【００９７】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、インクジェットヘッドとを備えたインクジェットユニットが挙げられる。インクジェットユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させるインクジェットユニットが挙げられる。
【００９８】
インクジェットヘッドとしては、例えば、金属及び／又は金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属及び／又は金属酸化物の具体例は、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、及び、これらの金属の酸化物等が挙げられる。
【００９９】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる装置が挙げられる。
【０１００】
インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能又は分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１０１】
また、インクジェットの吐出（塗布）温度は１０〜１２０℃が好ましく、塗布温度におけるインクジェット用インクの粘度は、１〜２００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【０１０２】
３．硬化膜の形成
本発明の硬化膜は、上述したインクジェット用インクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、必要に応じて、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。
【０１０３】
紫外線を照射する場合、照射する紫外線の量は、インクジェット用インクの組成に依存するが、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましく、２０〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましく、４０〜５００ｍＪ／ｃｍ２程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線の波長は、２００〜４５０ｎｍが好ましく、２２０〜４３０ｎｍがより好ましく、２５０〜４００ｎｍがさらに好ましい。
【０１０４】
また、必要に応じて、光の照射により硬化した上記硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、特に、１００〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましく、１２０〜２３０℃で１０〜６０分間加熱することがより好ましく、１５０〜２００℃で１０〜６０分間加熱することがさらに好ましい。
【０１０５】
本発明に使用できる「基板」は、インクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
【０１０６】
また、基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などのポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミドなどのプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔の積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、またはポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷん、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙、ガラスを挙げることができる。
【０１０７】
これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤などの添加剤を含んでもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質が形成されていてもよい。
【０１０８】
基板の用途も特に限定されないが、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜は耐エッチング液性、耐めっき性、アルカリ水溶液に対する剥離性に優れているため、基板表面に金属製の回路を有する電子回路基板等の製造に用いられることが好ましい。回路を形成する金属は、特に限定されるものではないが、金、銀、銅、アルミ又はＩＴＯが好ましい。
【０１０９】
基板の厚さは、特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。
【０１１０】
基板の硬化膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、又はブラスト処理などの易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。
【実施例】
【０１１１】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１１２】
＜インクジェット用インク及び硬化膜パターン形成基板の作製＞
まず、実施例１〜２及び比較例１〜３に係るインクジェット用インク及びそれから得られた硬化膜パターン形成基板について説明する。
【０１１３】
［実施例１］
樹脂（Ａ）として、マルカリンカーＭ Ｓ−１Ｇ（商品名；丸善石油化学株式会社製、重量平均分子量：１，６００−２、４００）を用い、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）としてビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７６（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：５０００）を用い、希釈剤（Ｃ）として２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ブチルメタクリレートを用い、光重合開始剤（Ｄ）として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名；チバスペシャルティーケミカルズ（株）製）、及び重合禁止剤としてフェノチアジンを下記組成割合にて混合・溶解した後、ＰＴＦＥ製のメンブレンフィルター（１μｍ）でろ過し、インクジェット用インク１を調製した。
（Ａ） マルカリンカーＭ Ｓ−１Ｇ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ４．００ｇ
（Ｃ） ＴＰＯ １．１４ｇ
その他 フェノチアジン ０．００５１ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク１の粘度を測定した結果、４０ｍＰａ・ｓであった。
【０１１４】
インクジェット用インク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、ポリイミド上に銅箔を積層した厚さ３５μｍの銅張積層板であるバイロフレックス（商品名；東洋紡績（株）製）の銅表面上に所定のパターンを形成した。
インクジェット用インク１をパターン形成した基板に、波長３６５ｎｍの紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ露光量で照射し、インクジェット用インク１を硬化させることで、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板１を得た。
【０１１５】
［実施例２］
ポリビニルフェノールとして、マルカリンカーＭ Ｓ−２Ｇ（商品名；丸善石油化学株式会社製、重量平均分子量：４，０００−６，０００）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク２を調製した。
（Ａ） マルカリンカーＭ Ｓ−２Ｇ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ４．２０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．１８ｇ
その他 フェノチアジン ０．００５３ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク２の粘度を測定した結果、４５ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク２を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板２を得た。
【０１１６】
［比較例１］
ビニルフェノールを用いた重合体から成る樹脂を除き、実施例１と同様の組成で、実施例１と同様にして、インクジェット用インク３を調製した。
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ２．５０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．１４ｇ
その他 フェノチアジン ０．００４８ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク３の粘度を測定した結果、６６ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク３を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板３を得た。
【０１１７】
［比較例２］
ビニルフェノールを用いた重合体から成る樹脂の代わりに、ノボラック系フェノ
ール樹脂であるＢＲＧ―５５５（昭和高分子株式会社製、重量平均分子量：６００）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク４を調製した。
ＢＲＧ−５５５ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ２．８０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．１８ｇ
その他 フェノチアジン ０．００５３ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク４の粘度を測定した結果、９２ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク４を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板４を得た。
【０１１８】
［比較例３］
ポリビニルフェノールとして、マルカリンカーＭ Ｓ−４Ｇ（商品名；丸善石油化学株式会社製、重量平均分子量：９，０００−１１，０００）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク５を調製した。
マルカリンカーＭ Ｓ−４Ｇ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート ２．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ４．４０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．５０ｇ
その他 フェノチアジン ０．００６８ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク５の粘度を測定した結果、４７ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク５を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板５を得た。
【０１１９】
＜インクジェット用インク及びパターン状硬化膜の評価＞
続いて、インクジェット用インクの吐出性、硬化膜の硬化性、耐エッチング性、耐めっき性、及びアルカリ剥離性を評価した。各試験方法は以下のとおりで、評価結果を表１に示す。
【０１２０】
インクの吐出性試験
得られた基板１〜５上のパターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インクの吐出性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
◎：パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない。
○：パターンの乱れ、印刷のかすれが殆どない。
△：パターンの乱れ、印刷のかすれが僅かに発生。
×：パターンの乱れ、印刷のかすれが多い。
【０１２１】
膜の硬化性試験
基板表面を指触し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
○：硬化膜表面に指触跡が全く残らない。
△：硬化膜表面に指触跡が僅かに残る。
×：硬化膜表面に指触跡が完全に残る。
【０１２２】
耐エッチング性試験
基板を１３％ＦｅＣｌ３水溶液に５０℃で×２分間漬し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：硬化膜には全く変化なし。
○：硬化膜には僅かに変色が見られるが、剥がれは全く見られない。
△：硬化膜は完全に変色し、僅かに剥がれも見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。
【０１２３】
耐めっき性試験
基板を市販の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に６０℃×１５分間浸し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。また、無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に９０℃×２０分間浸し、同様の観察を行った。評価基準は以下のとおりである。
◎：硬化膜には全く変化なし。
○：硬化膜には僅かに変色が見られるが、剥がれは全く見られない。
△：硬化膜は完全に変色し、僅かに剥がれも見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。
【０１２４】
アルカリ剥離性試験
耐エッチング性を評価した後の基板を濃度５％のＮａＯＨ水溶液に５０℃×１分間漬し、硬化膜の剥離性を顕微鏡観察した。また、まず耐ニッケルめっき性を評価し、次に耐金めっき性を評価した後の基板を濃度５％のＮａＯＨ水溶液に５０℃×１分間漬し、硬化膜の剥離性を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：完全に剥離した。
○：一部剥離した。
×：全く剥離しなかった。
【０１２５】
【表１】
【０１２６】
表１に示す結果から明らかなように、本発明にかかる基板１〜２にはパターンの乱れ、印刷のかすれが殆ど見られず、インクの吐出性が良好であった。また、基板１〜４上の指触による膜の硬化性を評価したところ、硬化膜表面に指触跡が全く残らず、膜の硬化性が良好であった。
【０１２７】
また、基板１〜２は耐エッチング性、耐ニッケルめっき性、耐金めっき性、及びアルカリ剥離性が良好であり、その中でも特に基板２は耐エッチング性および耐ニッケルめっき性、耐金めっき性に優れており、また基板１，２はアルカリ剥離性に優れていた。
【０１２８】
一方、樹脂（Ａ）を含有していない比較例１は、耐ニッケルめっき性及び耐金めっき性が不良であり、耐ニッケルめっき性評価後及び耐金めっき性評価後の基板表面に変色が見られた。さらに、アルカリ剥離性が極めて不良で全く剥離しなかった。
【０１２９】
樹脂（Ａ）の代わりにノボラック系フェノール樹脂を用いた比較例２は、アルカリ剥離性が極めて不良で全く剥離しなかった。
【０１３０】
また、樹脂（Ａ）として分子量が９，０００〜１１，０００のポリビニルフェノールを使用した比較例３は、インクの吐出性が悪く、基板５上の印刷パターンの乱れ、かすれが多く、均一な膜が得られなかった。そのため、インクの吐出性以外の評価は中断した。
【０１３１】
以上説明したように、本発明によれば、インクの吐出性、膜の硬化性、耐エッチング性、及び耐めっき性の優れたアルカリ剥離可能なインクジェット用インクを得ることができる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルカリ水溶液で剥離可能なインクジェット用インクに関し、更に詳しくはプリント配線板などの電子回路基板作製用レジストとして使用可能な耐エッチング性を有するエッチングレジスト、又は、耐めっき性を有するめっきレジストなどに適したインクジェット用インクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板、フレキシブル配線板、半導体パッケージ基板などの電子回路基板の製造には、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー法が行われてきた。このフォトリソグラフィー法による電子回路基板の製造方法では、例えば、プリント配線板の場合、銅張積層板の銅箔上にフォトレジスト層を形成し、その表面にフォトマスクなどを介して露光し、その後、未硬化部分を除去してレジストパターンを形成する。次いで、レジストパターンに覆われていない部分の銅箔をエッチングにより除去し、レジストパターンを除去することで、プリント配線板が得られる。
【０００３】
しかし、このようなプリント配線板の製造方法は、フォトマスクの作製に長い時間と多くの費用がかかることから、設備投資金額が増大する。またフォトマスクを用いたパターン露光が必要なことから工程が複雑で、操作も煩雑となる。
【０００４】
近年、これらの問題を解決するため、インクジェット方式を用いてレジスト材料を基板上に直接塗布し、レジストパターンを形成する方法が開発されている（例えば、特開昭５６−６６０８９号公報（特許文献１）、特開昭６２−１８１４９０号公報（特許文献２）、特開平６−２３７０６３号公報（特許文献３）、特開平７−１３１１３５号公報（特許文献４）を参照）。この方法は、従来必要であったパターン露光を不要にできることから設備投資金額が少なく、また、材料の歩留りが高いなどの点から期待が持たれている。
【０００５】
このようなインクジェット法に用いられるレジスト材料には、エッチングレジスト、めっきレジストなどが挙げられ、一般に、エッチングレジストには耐エッチング性、めっきレジストには耐めっき性特性が求められる。これまでに、インクジェット法に使用可能なレジスト材料として、様々なインク組成物が提案されている（特開平７−１７００５３号公報（特許文献５）、特開２００４−３５３０２７号公報（特許文献６）、特開２００５−０５７０１８号公報（特許文献７）が、これらのインクにより形成されたレジスト膜は、十分な耐エッチング性又は耐めっき性を有し、合わせて優れたアルカリ剥離性を有してはいなかった。
【０００６】
一方、ポリビニルフェノール及びその誘導体を用いたレジスト（特開昭６１−２９１６０６号公報（特許文献８）、特開平８−２１１６１０（特許文献９）、特開昭６０−１５６３６号公報（特許文献１０）、特開昭６０−１７７３９号公報（特許文献１１）、特開昭６０−１７７４０号公報（特許文献１２））は、耐メッキ性、アルカリ剥離性に優れ、フォトリソグラフィー法で使用されている。しかしながら、インクジェット用インクとして高分子量のポリビニルフェノール及びその誘導体を使用した場合、吐出不良となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭５６−６６０８９号公報
【特許文献２】特開昭６２−１８１４９０号公報
【特許文献３】特開平６−２３７０６３号公報
【特許文献４】特開平７−１３１１３５号公報
【特許文献５】特開平７−１７００５３号公報
【特許文献６】特開２００４−３５３０２７号公報
【特許文献７】特開２００５−０５７０１８号公報
【特許文献８】特開昭６１−２９１６０６号公報
【特許文献９】特開平８−２１１６１０号公報
【特許文献１０】特開昭６０−１５６３６号公報
【特許文献１１】特開昭６０−１７７３９号公報
【特許文献１２】特開昭６０−１７７４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記の状況の下、耐エッチング性又は耐めっき性とアルカリ剥離性などとのバランスのとれたレジスト膜、及びこのような特性を有するレジスト膜を形成することが可能なインクジェット用インクが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、インクジェット用インクの構成成分を各種検討した結果、一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含有するインクジェット用インクが、優れた特性を有することを見出した。さらに、樹脂（Ａ）に加えて、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）を含有するインクジェット用インクが、特にジェッティング性と耐エッチング性又は耐めっき性に優れ、アルカリ剥離可能な硬化膜を形成できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成した。本発明は以下のようなインクジェット用インク、インクジェット用インクから得られた硬化膜及びその形成方法などを提供する。
【００１０】
本発明は、以下の項を含む。
【００１１】
［１］下記一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含むインクジェット用インク。
（式（１）中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数、ｎは０〜１００の数である）
【００１２】
［２］樹脂（Ａ）において、ｎが０である、項［１］に記載のインクジェット用インク。
【００１３】
［３］樹脂（Ａ）の重量平均分子量が１，６００〜６，０００である、項［１］〜［２］に記載のインクジェット用インク。
【００１４】
［４］さらにカルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）を含有する、項［１］〜［３］に記載のインクジェット用インク。
【００１５】
［５］樹脂（Ａ）の含有量が０．５〜２０重量％である、項［４］に記載のインクジェット用インク。
【００１６】
［６］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである項［４］または［５］に記載のインクジェット用インク。
【００１７】
［７］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が酸変性エポキシ（メタ）アクリレートである項［４］〜［６］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００１８】
［８］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量３００〜１２，０００の酸変性エポキシアクリレートである、項［４］〜［７］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００１９】
［９］カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）がビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートである項［４］〜［８］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２０】
［１０］希釈剤（Ｃ）の２５℃の粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓである、項［４］〜［９］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２１】
［１１］希釈剤（Ｃ）が、カルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである、項［４］〜［１０］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２２】
［１２］希釈剤（Ｃ）が一般式（２）で表されるカルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートである、項［４］〜［１１］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
（一般式（２）中、Ｒ1は水素又は炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ2は環状構造を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレンであり、ｎは１〜３０の整数である。）
【００２３】
［１３］樹脂（Ａ）が重量平均分子量４，０００〜６，０００であるポリビニルフェノールであり、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量５００〜１１，０００のビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートであり、希釈剤（Ｃ）が２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートであり、光重合開始剤（Ｄ）が２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドである、項［４］〜［１２］のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【００２４】
［１４］２５℃の粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓである、項［１］〜［１３］に記載のインクジェット用インク。
【００２５】
［１５］項［１］〜［１４］のいずれか１項に記載のインクジェット用インクをインクジェット方式により基板上に塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【００２６】
［１６］項［１］〜「１４］のいずれか１項に記載のインクジェット用インクから得られた硬化膜。
【００２７】
［１７］パターン状に形成されている、項［１６］に記載の硬化膜。
【００２８】
［１８］項［１７］に記載の硬化膜を用いたエッチングレジスト膜又はめっきレジスト膜を形成する工程と、その後のエッチング工程又はめっき工程と、その後の前記膜を剥離する工程とを有する、基板の製造方法。
【００２９】
［１９］項［１８］に記載の方法により得られた基板を有する電子部品。
【００３０】
［２０］項［１９］に記載の電子部品を有する表示素子
【００３１】
なお、本明細書中、アクリレートとメタクリレートの両者を示すために「（メタ）アクリレート」のように表記することがある。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクによれば、インクの吐出性、膜の硬化性、耐エッチング性、及び耐めっき性に優れたアルカリ剥離可能なインクジェット用インクを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
１． 発明のインクジェット用インク
本発明のインクジェット用インクは、一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含有すれば、特に制限されない。さらに、必要に応じてカルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）を含有してもよい。本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。
【００３４】
本発明のインクジェット用インクは、上記に加えて、必要に応じて、さらにエポキシ樹脂、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤などを含んでもよい。
【００３５】
ここで、本明細書中の重量平均分子量は、カラムとしてPolymer Laboratories製ＴＨＦ系カラムを使用してＧＰＣ法（カラム温度：３５℃、流速：１ｍｌ/ｍｉｎ）により求めたポリスチレン換算での値である。なお、本明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。
【００３６】
１．１ 樹脂（Ａ）
本発明のインクジェット用インクは、上記式（１）で表される樹脂（Ａ）を含む。樹脂（Ａ）は、ビニルフェノールを含むモノマーから得られる重合体であり、ＯＨは主鎖に対してパラ、オルソまたはメタ位をとるポリビニルフェノール系の重合体である。
【００３７】
式中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数であり、ｎは０〜１００の数である。ｍが２以上の場合、式（１）における［ ］内の構成単位の繰り返しは、同一構造であっても、異なる構造でもよい。すなわちｎの数が異なる構造の繰り返しであっても、ｎの数が同一の構造の繰り返しであってもよい。ｎは好ましくは０〜１０であり、より好ましくは０〜５であり、特に好ましくはｎ＝０である。
【００３８】
本発明において、Ｘの原料として用いられるラジカル重合性モノマーとしては、制限するわけではないが、種々の重合性不飽和結合を有する化合物が用いられる。例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチルなどの（メタ）アクリル酸エステル、アクリルアミドなどのアクリル系モノマー、エチルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、無水マレイン酸、酢酸ビニル、ビニルピリジンが挙げられる。
【００３９】
前述のポリビニルフェノール系の重合体は商業的に入手できる。例えば丸善石油化学製のマルカリンカーＭ（ポリ−ｐ−ビニルフェノール）、マルカリンカーＣＭＭ（ｐ−ビニルフェノール／メタクリル酸メチル共重合体）、マルカリンカーＣＨＭ（ｐ−ビニルフェノール／メタクリル酸２−ヒドロキシエチル共重合体）、マルカリンカーＣＳＴ（ｐ−ビニルフェノール／スチレン共重合体）が挙げられる。なお、樹脂（Ａ）は２種類以上を混合して使用することもできる。
【００４０】
本発明の樹脂（Ａ）のポリスチレン換算での重量平均分子量は、１，０００〜８，０００が好ましく、１，６００〜６，０００がより好ましく、４，０００〜６，０００がさらに好ましい。この範囲であれば、膜の硬化性が良好で、耐エッチング性又は耐メッキ性などの膜特性が優れ、ジェッティング特性も良好である。また、得られる硬化膜のアルカリへの溶解性も良好である。
【００４１】
樹脂（Ａ）の含有量は、インクジェット用インク固形分の０．１〜５０重量％であると、耐エッチング性又は耐メッキ性と、アルカリ剥離性と、ジェッティング特性とのバランスがよくなるので好ましく、より好ましくは０．５〜２０重量％であり、さらに好ましくは０．５〜１０重量％であり、特に好ましくは１〜１０重量％である。
【００４２】
１．２ カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクは、アルカリ剥離性を向上させるために、カルボキシル基を有しているモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）を含有してもよい。ここで、「カルボキシ基を有しているオリゴマー」は、２つ以上のモノマーが結合した重合性化合物のうち、少なくとも１つ以上のカルボキシル基を有している化合物である。
【００４３】
カルボキシル基を有しているモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）は、カルボキシル基を有していれば特に限定されないが、例えば、耐エッチング性又は耐めっき性に優れ、合わせてアルカリ剥離性をさらに向上させるためには、酸変性エポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４４】
本発明における酸変性エポキシ（メタ）アクリレートは、１分子中に２以上の重合性二重結合及び１以上のカルボキシル基を有している化合物である。ここで、重合性二重結合とは、重合可能な炭素−炭素二重結合のことである。重合性二重結合を有する基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニル基、又はマレイミド基が挙げられる。重合性二重結合は、熱重合性であっても、光重合性であってもよいが、好ましくは光重合性を有するものである。
【００４５】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレートのポリスチレン換算での重量平均分子量は、３００〜１２，０００が好ましく、５００〜１１，５００がより好ましく、９００〜１１，０００がさらに好ましく、９００〜８，０００がさらに好ましく、９００〜６，０００が特に好ましい。この範囲であれば、耐エッチング性又は耐めっき性などの膜特性が優れ、ジェッティング特性も良好である。また、得られる硬化膜のアルカリへの溶解性も良好である。
【００４６】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレートの具体例としては、エポキシ化合物に、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートに、さらに多塩基酸又は多塩基酸無水物を反応させて得られるものが挙げられる。
【００４７】
エポキシ化合物としては、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、トリスフェノールメタン型、テトラフェノールエタン型のエポキシ樹脂などが挙げられる。この中でも、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型が好ましく、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型がさらに好ましく、耐めっき性の点でビスフェノールＦ型が特に好ましい。
【００４８】
カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸、β-カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物が挙げられる。
【００４９】
多塩基酸又は多塩基酸無水物としては、例えば、フタル酸、ピロメリット酸、コハク酸、トリメリット酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、マレイン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−マレイン酸共重合体などの多塩基酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロトリメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、無水エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸又はスチレン−無水マレイン酸共重合体などの多塩基酸無水物が挙げられる。
【００５０】
本発明で用いられるエポキシ化合物、カルボキシル基を有する（メタ）アクリレート、多塩基酸又は多塩基酸無水物は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００５１】
酸変性エポキシ（メタ）アクリレートの市販品としては、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ ＣＣＲ−１１５９Ｈ（分子量：７５００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＣＣＲ−１２８５Ｈ（酸価：８２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４０１Ｈ（分子量：１２０００、酸価：９９ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９１Ｈ（酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＺＦＲ−１４９２Ｈ（酸価：１０２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同ＴＣＲ−１３１０Ｈ（分子量：４５００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、日本ユピカ（株）製のネオポール８４３０（分子量：１００００、酸価：８８ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４３２（分子量：８０００、酸価：９２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７０（分子量：１００００、酸価：１００ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７２（分子量：７０００、酸価：１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７５（分子量：１００００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７６（分子量：５０００、酸価：１０１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８４７７（分子量：１００００、酸価：９４ｍｇＫＯＨ／ｇ）、同８３７１、同８３１６、同８３１７、同８３１０（分子量：１０００、酸価：１０４ｍｇＫＯＨ／ｇ）などが挙げられる。なお、本段落における「分子量」は重量平均分子量を示す。
【００５２】
その他のカルボキシル基を有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）として、以下のものが挙げられる。
【００５３】
カルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、β-カルボキシルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、無水フタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物（例えば、フタル酸モノヒドロキシエチルメタクリレート）、又は無水ヘキサヒドロフタル酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応物が挙げられる。
【００５４】
カルボキシル基を有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）の含有量は、インクジェット用インク固形分の１〜７０重量％であると、耐エッチング性又は耐めっき性と、アルカリ剥離性と、ジェッティング特性とのバランスがよくなるので好ましく、より好ましくは２〜６５重量％であり、さらに好ましくは３〜６０重量％であり、特に好ましくは４〜５５重量％である。
【００５５】
カルボキシル基を有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）は、１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００５６】
１．３ 希釈剤（Ｃ）
本発明のインクジェット用インクは、各種特性を向上させるために希釈剤（Ｃ）を含有してもよい。本発明の希釈剤（Ｃ）は特に限定されないが、２５℃の粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、ラジカル重合性を有するモノマーや溶媒が挙げられる。ラジカル重合性を有するモノマーとしては、カルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートまたは多単官能（メタ）アクリレートが好ましく、上記一般式（２）で表される単官能（メタ）アクリレートがより好ましい。
１．３（１） 単官能重合性モノマー
ラジカル重合性を有している化合物が単官能重合性モノマーであれば、ジェッティング性が良好になるので特に好ましい。
【００５７】
単官能重合性モノマーの具体例は、一般式（２）の化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートを挙げることができ、その他の化合物としては、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、Ｎ−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、マレイン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、シクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドを挙げることができる。
【００５８】
これらの単官能重合性モノマーは１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００５９】
その中でも例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート等であればインクの相溶性、インク固体成分の溶解性を向上させるため、さらにインク滴が基板に着弾した後の液の広がりが小さいため高精細化が可能なるため、より好ましい。
【００６０】
これらのヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーは１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００６１】
希釈剤（Ｃ）としての単官能重合性モノマーの含有量は、インクジェット用インク総量の１〜７０重量％であると、使用する用途に合わせた粘度に調整できるので好ましく、他の特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは２〜６５重量％であり、さらに好ましくは３〜６０重量％であり、特に好ましくは４〜５５重量％である。
【００６２】
１．３（２） 多官能重合性モノマー
希釈剤（Ｃ）としては、多官能重合性モノマーであってもよい。
【００６３】
多官能重合性モノマーの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、変性イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレート、ウレタン（メタ）アクリレートを挙げることができる。
【００６４】
これらの多官能重合性モノマーは１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００６５】
希釈剤（Ｃ）としての多官能重合性モノマーの含有量は、インクジェット用インク総量の０.１〜６０重量％であると、使用する用途に合わせた粘度の調整と他の特性とのバランスがよく、より好ましくは０．５〜５５重量％であり、さらに好ましくは０．８〜５０重量％であり、特に好ましくは１〜４５重量％である。
【００６６】
１．３（３） 溶媒
希釈剤（Ｃ）として溶媒を用いてもよい。インクジェットヘッドを加温する場合、インクに低沸点の溶媒が含まれていると溶媒が揮発してインクの粘度が上昇しインクジェットヘッドのノズル口が詰まってしまうことがある。そのため、特に沸点が１００〜３００℃の溶媒が好ましい。
【００６７】
沸点が１００〜３００℃である溶媒の具体例としては、水、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、アニソール、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、又はジメチルイミダゾリジノンが挙げられる。
【００６８】
これらの溶媒は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。
【００６９】
希釈剤（Ｃ）としての溶媒の含有量は、インクジェット用インク総量の０.１〜１０重量％であると、ジェッティング性と他の特性のバランスが良く、より好ましくは０．２〜８重量％であり、さらに好ましくは０.５〜６重量％であり、特に好ましくは１〜５重量％である。
【００７０】
希釈剤（Ｃ）は１種の化合物であっても、２種以上の異なる化合物の混合物であってもよい。例えば、単官能重合性モノマーと溶媒との混合物であってもよい。
【００７１】
１．４ 光重合開始剤（Ｄ）
本発明のインクジェット用インクは、これに光硬化性を付与するために、光重合開始剤（Ｄ）を含有してもよい。光重合開始剤（Ｄ）は、紫外線または可視光線の照射によりラジカルを発生する化合物であれば特に限定されない。
【００７２】
光重合開始剤（Ｄ）の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−，２−（ｏ−ベンゾイルオキシム）、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、又は２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを挙げることができる。
【００７３】
光重合開始剤（Ｄ）は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００７４】
光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、インクジェット用インク総量の０．５〜２０重量％であると、インクジェット用インクとしたとき、紫外線に対して高感度となるので好ましく、より好ましくは１〜２０重量％であり、さらに好ましくは２〜２０重量％である。
【００７５】
１．５ その他の成分
本発明のインクジェット用インクは、各種特性をさらに向上させるためにエポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、界面活性剤、着色剤、重合禁止剤などを含んでもよい。
【００７６】
１．５（１） エポキシ樹脂
本発明のインクジェット用インクは、例えば、耐エッチング性又は耐めっき性を向上させるために、エポキシ樹脂を含んでもよい。
【００７７】
エポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、又は脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
【００７８】
エポキシ樹脂の市販品としては、エピコート８０７、同８１５、同８２５、同８２７、同８２８、同１９０Ｐ、同１９１Ｐ（商品名；油化シェルエポキシ（株）製）、エピコート１００４、同１２５６（商品名；ジャパンエポキシレジン（株）製）、アラルダイトＣＹ１７７、同ＣＹ１８４（商品名；日本チバガイギー（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、ＥＨＰＥ−３１５０（商品名；ダイセル化学工業（株）製）、又はテクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名；三井化学（株）製）を挙げることができる。
【００７９】
インクジェット用インクに用いられるエポキシ樹脂は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８０】
エポキシ樹脂の含有量が、インクジェット用インク固形分の１〜２０重量％であると耐エッチング性又は耐めっき性が向上するので好ましく、より好ましくは１〜１０重量％であり、さらに好ましくは１〜７重量％である。
【００８１】
１．５（２） 界面活性剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、下地基板への濡れ性や、硬化膜の膜面均一性を向上させるために界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、及びフッ素系界面活性剤などが用いられる。
【００８２】
界面活性剤の市販品としては、Ｂｙｋ−３００、同３０６、同３３５、同３１０、同３４１、同３４４、及び同３７０（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのシリコン系界面活性剤、Ｂｙｋ−３５４、同３５８、及び同３６１（商品名；ビック・ケミー（株）製）などのアクリル系界面活性剤、ＤＦＸ−１８、フタージェント２５０、又は同２５１（商品名；ネオス（株）製）、メガファックＦ−４７９（商品名；ＤＩＣ（株）製）などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。
【００８３】
インクジェット用インクに用いられる界面活性剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８４】
界面活性剤の含有量が、インクジェット用インク固形分の０．００１〜１重量％であると硬化膜の膜面均一性が向上するので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．００１〜０．１重量％であり、さらに好ましくは０．００１〜０．０５重量％である。
【００８５】
１．５（３） 着色剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、硬化膜の状態を検査する際に基板との識別を容易にするために、着色剤を含んでもよい。着色剤としては、染料、顔料が好ましい。
【００８６】
インクジェット用インクに用いられる着色剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００８７】
着色剤の含有量が、インクジェット用インク固形分の０．１〜５重量％であると硬化膜の検査が容易であるので好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．１〜１重量％であり、さらに好ましくは０．１〜０．５重量％である。
【００８８】
１．５（４） 重合禁止剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、保存安定性を向上させるために重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤の具体例としては、４−メトキシフェノール、ヒドロキノン、又はフェノチアジンを挙げることができる。これらの中でも、フェノチアジンが長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましい。
【００８９】
インクジェット用インクに用いられる重合禁止剤は、１種の化合物であっても、２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００９０】
重合禁止剤の含有量が、インクジェット用インク固形分の０．０１〜１重量％であると長期の保存においても粘度の変化が小さいために好ましく、他特性とのバランスを考慮すると、より好ましくは０．０１〜０．５重量％であり、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％である。
【００９１】
１．６ インクジェット用インクの粘度
本発明のインクジェット用インクは、Ｅ型粘度計で測定した２５℃における粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓであると、インクジェット印刷による塗布特性（ジェッティング精度など）が良好となるので好ましい。２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは１０〜１８０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは２０〜１５０ｍＰａ・ｓである。
【００９２】
２５℃における粘度が５０ｍＰａ・ｓ以上のインクを使用する場合は、インクジェットヘッドを加温して吐出時の粘度を下げると、より安定した吐出が可能になる。インクジェットヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は１〜３０ｍＰａ・ｓが好ましく、２〜２５ｍＰａ・ｓであればさらに好ましく、３〜２０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
【００９３】
インクジェットヘッドを加温する場合、溶媒を含まないインクを用いることが好ましい。その場合、インクの粘度は、希釈剤（Ｃ）の種類と含有量を適宜選択することにより調整することが好ましい。インクジェットヘッドを加温しない場合、インクの粘度はインク総量の１０重量％以下の溶媒を加えて調整することができる。
【００９４】
１．７ インクジェット用インクの保存
本発明のインクジェット用インクは、−２０〜２０℃で保存すると保存中の粘度変化が小さく、保存安定性が良好である。
【００９５】
２．インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
本発明のインクジェット用インクは、公知のインクジェット塗布方法を用いて塗布することができる。インクジェット塗布方法としては、例えば、インクに力学的エネルギーを作用させてインクをインクジェットヘッドから吐出（塗布）させる方法（いわゆるピエゾ方式）、及び、インクに熱エネルギーを作用させてインクを塗布させる塗布方法（いわゆるバブルジェット（登録商標）方式）等がある。
【００９６】
インクジェット塗布方法を用いることにより、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。これによって、必要な箇所だけにインクを塗布でき、フォトリソグラフィー法に比べて、コストの削減となる。
【００９７】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布ユニットは、例えば、これらのインクを収容するインク収容部と、インクジェットヘッドとを備えたインクジェットユニットが挙げられる。インクジェットユニットとしては、例えば、塗布信号に対応した熱エネルギーをインクに作用させ、前記エネルギーによりインク液滴を発生させるインクジェットユニットが挙げられる。
【００９８】
インクジェットヘッドとしては、例えば、金属及び／又は金属酸化物を含有する発熱部接液面を有するものである。前記金属及び／又は金属酸化物の具体例は、例えば、Ｔａ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ａｌ等の金属、及び、これらの金属の酸化物等が挙げられる。
【００９９】
本発明のインクジェット用インクを用いて塗布を行うのに好ましい塗布装置としては、例えば、インクが収容されるインク収容部を有するインクジェットヘッドの室内のインクに、塗布信号に対応したエネルギーを与え、前記エネルギーによりインク液滴を発生させる装置が挙げられる。
【０１００】
インクジェット塗布装置は、インクジェットヘッドとインク収容部とが分離されているものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部はインクジェットヘッドに対し分離可能又は分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介してインクジェットヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１０１】
また、インクジェットの吐出（塗布）温度は１０〜１２０℃が好ましく、塗布温度におけるインクジェット用インクの粘度は、１〜２００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
【０１０２】
３．硬化膜の形成
本発明の硬化膜は、上述したインクジェット用インクをインクジェット法により基板表面に塗布した後に、必要に応じて、インクに紫外線や可視光線等の光を照射して得られる。
【０１０３】
紫外線を照射する場合、照射する紫外線の量は、インクジェット用インクの組成に依存するが、ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤを取り付けた積算光量計ＵＩＴ−２０１で測定して、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましく、２０〜８００ｍＪ／ｃｍ２程度が好ましく、４０〜５００ｍＪ／ｃｍ２程度がさらに好ましい。また、照射する紫外線の波長は、２００〜４５０ｎｍが好ましく、２２０〜４３０ｎｍがより好ましく、２５０〜４００ｎｍがさらに好ましい。
【０１０４】
また、必要に応じて、光の照射により硬化した上記硬化膜をさらに加熱・焼成してもよく、特に、１００〜２５０℃で１０〜６０分間加熱することが好ましく、１２０〜２３０℃で１０〜６０分間加熱することがより好ましく、１５０〜２００℃で１０〜６０分間加熱することがさらに好ましい。
【０１０５】
本発明に使用できる「基板」は、インクジェット用インクが塗布される対象となり得るものであれば特に限定されず、その形状は平板状に限られず、曲面状であってもよい。
【０１０６】
また、基板の材質は特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）などのポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル、フッ素樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミドなどのプラスチックフィルム、セロハン、アセテート、金属箔、ポリイミドと金属箔の積層フィルム、目止め効果があるグラシン紙、パーチメント紙、またはポリエチレン、クレーバインダー、ポリビニルアルコール、でんぷん、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）などで目止め処理した紙、ガラスを挙げることができる。
【０１０７】
これらの基板を構成する物質には、本発明の効果に悪影響を及ぼさない範囲において、さらに、顔料、染料、酸化防止剤、劣化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤及び／又は電磁波防止剤などの添加剤を含んでもよい。また、基板の表面の一部には、基板と異なる材質が形成されていてもよい。
【０１０８】
基板の用途も特に限定されないが、本発明のインクジェット用インクから得られる硬化膜は耐エッチング液性、耐めっき性、アルカリ水溶液に対する剥離性に優れているため、基板表面に金属製の回路を有する電子回路基板等の製造に用いられることが好ましい。回路を形成する金属は、特に限定されるものではないが、金、銀、銅、アルミ又はＩＴＯが好ましい。
【０１０９】
基板の厚さは、特に限定されないが、通常、１０μｍ〜２ｍｍ程度であり、使用する目的により適宜調整されるが、１５〜５００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがさらに好ましい。
【０１１０】
基板の硬化膜を形成する面には、必要により撥水処理、コロナ処理、プラズマ処理、又はブラスト処理などの易接着処理を施したり、表面に易接着層やカラーフィルター用保護膜を設けたりしてもよい。
【実施例】
【０１１１】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１１２】
＜インクジェット用インク及び硬化膜パターン形成基板の作製＞
まず、実施例１〜２及び比較例１〜３に係るインクジェット用インク及びそれから得られた硬化膜パターン形成基板について説明する。
【０１１３】
［実施例１］
樹脂（Ａ）として、マルカリンカーＭ Ｓ−１Ｇ（商品名；丸善石油化学株式会社製、重量平均分子量：１，６００−２、４００）を用い、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）としてビスフェノールＦ型酸変性エポキシアクリレートであるネオポール８４７６（商品名；日本ユピカ（株）製、重量平均分子量：５０００）を用い、希釈剤（Ｃ）として２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ブチルメタクリレートを用い、光重合開始剤（Ｄ）として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドであるＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ（商品名；チバスペシャルティーケミカルズ（株）製）、及び重合禁止剤としてフェノチアジンを下記組成割合にて混合・溶解した後、ＰＴＦＥ製のメンブレンフィルター（１μｍ）でろ過し、インクジェット用インク１を調製した。
（Ａ） マルカリンカーＭ Ｓ−１Ｇ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ４．００ｇ
（Ｃ） ＴＰＯ １．１４ｇ
その他 フェノチアジン ０．００５１ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク１の粘度を測定した結果、４０ｍＰａ・ｓであった。
【０１１４】
インクジェット用インク１をインクジェットカートリッジに注入し、これをインクジェット装置（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製のＤＭＰ−２８１１）に装着し、１０ｐｌ用のヘッドを用いて、吐出電圧（ピエゾ電圧）１６Ｖ、ヘッド温度７０℃、駆動周波数５ｋＨｚ、塗布回数１回の吐出条件で、ポリイミド上に銅箔を積層した厚さ３５μｍの銅張積層板であるバイロフレックス（商品名；東洋紡績（株）製）の銅表面上に所定のパターンを形成した。
インクジェット用インク１をパターン形成した基板に、波長３６５ｎｍの紫外線を２５０ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ露光量で照射し、インクジェット用インク１を硬化させることで、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板１を得た。
【０１１５】
［実施例２］
ポリビニルフェノールとして、マルカリンカーＭ Ｓ−２Ｇ（商品名；丸善石油化学株式会社製、重量平均分子量：４，０００−６，０００）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク２を調製した。
（Ａ） マルカリンカーＭ Ｓ−２Ｇ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ４．２０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．１８ｇ
その他 フェノチアジン ０．００５３ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク２の粘度を測定した結果、４５ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク２を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板２を得た。
【０１１６】
［比較例１］
ビニルフェノールを用いた重合体から成る樹脂を除き、実施例１と同様の組成で、実施例１と同様にして、インクジェット用インク３を調製した。
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ２．５０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．１４ｇ
その他 フェノチアジン ０．００４８ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク３の粘度を測定した結果、６６ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク３を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板３を得た。
【０１１７】
［比較例２］
ビニルフェノールを用いた重合体から成る樹脂の代わりに、ノボラック系フェノ
ール樹脂であるＢＲＧ―５５５（昭和高分子株式会社製、重量平均分子量：６００）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク４を調製した。
ＢＲＧ−５５５ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ２．８０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．１８ｇ
その他 フェノチアジン ０．００５３ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク４の粘度を測定した結果、９２ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク４を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板４を得た。
【０１１８】
［比較例３］
ポリビニルフェノールとして、マルカリンカーＭ Ｓ−４Ｇ（商品名；丸善石油化学株式会社製、重量平均分子量：９，０００−１１，０００）を用い、下記組成割合とした以外は、実施例１と同様にして、インクジェット用インク５を調製した。
マルカリンカーＭ Ｓ−４Ｇ ０．６０ｇ
（Ｂ） ネオポール８４７６ ５．００ｇ
（Ｃ） ２−ヒドロキシエチルメタクリレート ２．００ｇ
（Ｃ） ブチルメタクリレート ４．４０ｇ
（Ｄ） ＴＰＯ １．５０ｇ
その他 フェノチアジン ０．００６８ｇ
Ｅ型粘度計（東機産業（株）製 ＴＶ−２２、以下同じ）を用い、２５℃のインクジェット用インク５の粘度を測定した結果、４７ｍＰａ・ｓであった。
インクジェット用インク５を用い、実施例１と同様の方法で、厚さ１０μｍの硬化膜パターンを形成した基板５を得た。
【０１１９】
＜インクジェット用インク及びパターン状硬化膜の評価＞
続いて、インクジェット用インクの吐出性、硬化膜の硬化性、耐エッチング性、耐めっき性、及びアルカリ剥離性を評価した。各試験方法は以下のとおりで、評価結果を表１に示す。
【０１２０】
インクの吐出性試験
得られた基板１〜５上のパターンの乱れ、印刷のかすれを観察して、インクの吐出性を評価した。評価基準は以下のとおりである。
◎：パターンの乱れ、印刷のかすれが全くない。
○：パターンの乱れ、印刷のかすれが殆どない。
△：パターンの乱れ、印刷のかすれが僅かに発生。
×：パターンの乱れ、印刷のかすれが多い。
【０１２１】
膜の硬化性試験
基板表面を指触し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
○：硬化膜表面に指触跡が全く残らない。
△：硬化膜表面に指触跡が僅かに残る。
×：硬化膜表面に指触跡が完全に残る。
【０１２２】
耐エッチング性試験
基板を１３％ＦｅＣｌ３水溶液に５０℃で×２分間漬し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：硬化膜には全く変化なし。
○：硬化膜には僅かに変色が見られるが、剥がれは全く見られない。
△：硬化膜は完全に変色し、僅かに剥がれも見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。
【０１２３】
耐めっき性試験
基板を市販の無電解ニッケルめっき液（商品名：ニムデンＮＰＲ−４、Ｎｉ濃度４．５ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に６０℃×１５分間浸し、硬化膜の表面状態を顕微鏡観察した。また、無電解金めっき液（商品名：ゴブライトＴＡＭ−５５、Ａｕ濃度１ｇ／Ｌ、上村工業（株）製）に９０℃×２０分間浸し、同様の観察を行った。評価基準は以下のとおりである。
◎：硬化膜には全く変化なし。
○：硬化膜には僅かに変色が見られるが、剥がれは全く見られない。
△：硬化膜は完全に変色し、僅かに剥がれも見られる。
×：硬化膜は完全に剥がれた。
【０１２４】
アルカリ剥離性試験
耐エッチング性を評価した後の基板を濃度５％のＮａＯＨ水溶液に５０℃×１分間漬し、硬化膜の剥離性を顕微鏡観察した。また、まず耐ニッケルめっき性を評価し、次に耐金めっき性を評価した後の基板を濃度５％のＮａＯＨ水溶液に５０℃×１分間漬し、硬化膜の剥離性を顕微鏡観察した。評価基準は以下のとおりである。
◎：完全に剥離した。
○：一部剥離した。
×：全く剥離しなかった。
【０１２５】
【表１】
【０１２６】
表１に示す結果から明らかなように、本発明にかかる基板１〜２にはパターンの乱れ、印刷のかすれが殆ど見られず、インクの吐出性が良好であった。また、基板１〜４上の指触による膜の硬化性を評価したところ、硬化膜表面に指触跡が全く残らず、膜の硬化性が良好であった。
【０１２７】
また、基板１〜２は耐エッチング性、耐ニッケルめっき性、耐金めっき性、及びアルカリ剥離性が良好であり、その中でも特に基板２は耐エッチング性および耐ニッケルめっき性、耐金めっき性に優れており、また基板１，２はアルカリ剥離性に優れていた。
【０１２８】
一方、樹脂（Ａ）を含有していない比較例１は、耐ニッケルめっき性及び耐金めっき性が不良であり、耐ニッケルめっき性評価後及び耐金めっき性評価後の基板表面に変色が見られた。さらに、アルカリ剥離性が極めて不良で全く剥離しなかった。
【０１２９】
樹脂（Ａ）の代わりにノボラック系フェノール樹脂を用いた比較例２は、アルカリ剥離性が極めて不良で全く剥離しなかった。
【０１３０】
また、樹脂（Ａ）として分子量が９，０００〜１１，０００のポリビニルフェノールを使用した比較例３は、インクの吐出性が悪く、基板５上の印刷パターンの乱れ、かすれが多く、均一な膜が得られなかった。そのため、インクの吐出性以外の評価は中断した。
【０１３１】
以上説明したように、本発明によれば、インクの吐出性、膜の硬化性、耐エッチング性、及び耐めっき性の優れたアルカリ剥離可能なインクジェット用インクを得ることができる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含むインクジェット用インク。
（式（１）中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数、ｎは０〜１００の数である）
【請求項２】
樹脂（Ａ）において、ｎが０である、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項３】
樹脂（Ａ）の重量平均分子量が１，６００〜６，０００である、請求項１〜２に記載のインクジェット用インク。
【請求項４】
さらにカルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）を含有する、請求項１〜３に記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
樹脂（Ａ）の含有量が０．５〜２０重量％である、請求項４に記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである請求項４または５に記載のインクジェット用インク。
【請求項７】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が酸変性エポキシ（メタ）アクリレートである請求項４〜６のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量３００〜１２，０００の酸変性エポキシアクリレートである、請求項４〜７のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）がビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートである請求項４〜８のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
希釈剤（Ｃ）の２５℃の粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓである、請求項４〜９のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１１】
希釈剤（Ｃ）が、カルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである、請求項４〜１０のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１２】
希釈剤（Ｃ）が一般式（２）で表されるカルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートである、請求項４〜１１のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
（一般式（２）中、Ｒ1は水素又は炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ2は環状構造を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレンであり、ｎは１〜３０の整数である。）
【請求項１３】
樹脂（Ａ）が重量平均分子量４，０００〜６，０００であるポリビニルフェノールであり、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量５００〜１１，０００のビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートであり、希釈剤（Ｃ）が２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートであり、光重合開始剤（Ｄ）が２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドである、請求項４〜１２のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１４】
２５℃の粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓである、請求項１〜１３に記載のインクジェット用インク。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のインクジェット用インクをインクジェット方式により基板上に塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のインクジェット用インクから得られる硬化膜。
【請求項１７】
パターン状に形成されている、請求項１６に記載の硬化膜。
【請求項１８】
請求項１７に記載の硬化膜を用いたエッチングレジスト膜又はめっきレジスト膜を形成する工程と、その後のエッチング工程又はめっき工程と、その後の前記膜を剥離する工程とを有する、基板の製造方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法により得られた基板を有する電子部品。
【請求項２０】
請求項１９に記載の電子部品を有する表示素子
【請求項１】
下記一般式（１）で表され、重量平均分子量が１,０００〜８，０００である樹脂（Ａ）を含むインクジェット用インク。
（式（１）中、Ｘはラジカル重合性モノマー由来の構成単位であり、ｍは１以上の整数、ｎは０〜１００の数である）
【請求項２】
樹脂（Ａ）において、ｎが０である、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項３】
樹脂（Ａ）の重量平均分子量が１，６００〜６，０００である、請求項１〜２に記載のインクジェット用インク。
【請求項４】
さらにカルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）、希釈剤（Ｃ）、および光重合開始剤（Ｄ）を含有する、請求項１〜３に記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
樹脂（Ａ）の含有量が０．５〜２０重量％である、請求項４に記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである請求項４または５に記載のインクジェット用インク。
【請求項７】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が酸変性エポキシ（メタ）アクリレートである請求項４〜６のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量３００〜１２，０００の酸変性エポキシアクリレートである、請求項４〜７のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）がビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートである請求項４〜８のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
希釈剤（Ｃ）の２５℃の粘度が０．１〜１００ｍＰａ・ｓである、請求項４〜９のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１１】
希釈剤（Ｃ）が、カルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートまたは多官能（メタ）アクリレートである、請求項４〜１０のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１２】
希釈剤（Ｃ）が一般式（２）で表されるカルボキシル基を含まない単官能（メタ）アクリレートである、請求項４〜１１のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
（一般式（２）中、Ｒ1は水素又は炭素数１〜３のアルキルであり、Ｒ2は環状構造を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレンであり、ｎは１〜３０の整数である。）
【請求項１３】
樹脂（Ａ）が重量平均分子量４，０００〜６，０００であるポリビニルフェノールであり、カルボキシル基を１以上有するモノマーまたはオリゴマー（Ｂ）が重量平均分子量５００〜１１，０００のビスフェノールＦ型の酸変性エポキシアクリレートであり、希釈剤（Ｃ）が２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートであり、光重合開始剤（Ｄ）が２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドである、請求項４〜１２のいずれか一項に記載のインクジェット用インク。
【請求項１４】
２５℃の粘度が２〜２００ｍＰａ・ｓである、請求項１〜１３に記載のインクジェット用インク。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のインクジェット用インクをインクジェット方式により基板上に塗布し、塗布されたインクに光を照射することによって硬化膜を形成する、硬化膜形成方法。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載のインクジェット用インクから得られる硬化膜。
【請求項１７】
パターン状に形成されている、請求項１６に記載の硬化膜。
【請求項１８】
請求項１７に記載の硬化膜を用いたエッチングレジスト膜又はめっきレジスト膜を形成する工程と、その後のエッチング工程又はめっき工程と、その後の前記膜を剥離する工程とを有する、基板の製造方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法により得られた基板を有する電子部品。
【請求項２０】
請求項１９に記載の電子部品を有する表示素子
【公開番号】特開２０１０−１９５９７２（Ｐ２０１０−１９５９７２Ａ）
【公開日】平成２２年９月９日（２０１０．９．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−４４０６７（Ｐ２００９−４４０６７）
【出願日】平成２１年２月２６日（２００９．２．２６）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月９日（２０１０．９．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月２６日（２００９．２．２６）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【Ｆターム（参考）】
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