サンプル内の検体を検出または定量化するためのアッセイを実施するためのシステムおよび方法
【課題】同時に複数の核酸アッセイを実施するための自動分析器を提供すること。
【解決手段】複数の診断アッセイを同時に実行する自動分析器は、サンプル槽内に含有される流体サンプルに対して当該アッセイの個別の側面が実行される、複数のステーションを含む。当該分析器は、サンプルを自動的に調製し、サンプルをインキュベートし、検体単離手順をあらかじめ形成し、対象検体の存在を確認し、対象検体の量を分析するためのステーションを含む。自動容器移送システムは、サンプル槽を1つのステーションから次のステーションへ移動させるものである。自動診断アッセイを実行するための方法は、対象検体を単離および増幅するための自動プロセスを含み、一実施形態においては、増幅プロセスのリアルタイムモニタリングのための方法を含む。
【解決手段】複数の診断アッセイを同時に実行する自動分析器は、サンプル槽内に含有される流体サンプルに対して当該アッセイの個別の側面が実行される、複数のステーションを含む。当該分析器は、サンプルを自動的に調製し、サンプルをインキュベートし、検体単離手順をあらかじめ形成し、対象検体の存在を確認し、対象検体の量を分析するためのステーションを含む。自動容器移送システムは、サンプル槽を1つのステーションから次のステーションへ移動させるものである。自動診断アッセイを実行するための方法は、対象検体を単離および増幅するための自動プロセスを含み、一実施形態においては、増幅プロセスのリアルタイムモニタリングのための方法を含む。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
反応槽内における核酸増幅阻害物質の存在を減らすための方法であって、該方法は、
(a)反応槽に表面処理剤および核酸含有材料を提供するステップと、
(b)前記反応槽の内容物を攪拌し、これにより、前記反応槽の内面を前記表面処理剤でコーティングするステップと、
(c)前記核酸含有材料中に存在する場合には、前記反応槽の内容物を、前記反応槽内の対象核酸を単離するのに十分な試薬および条件に曝露するステップと、
(d)ステップ(c)の間に、前記反応槽の内容物の少なくとも一部を除去するステップと、
(e)前記反応槽に洗浄液を提供するステップと、
(f)前記核酸含有材料中に存在する場合には、前記反応槽の内容物を、前記反応槽内の前記対象核酸を単離するのに十分な試薬および条件に曝露するステップと、
(g)ステップ(f)の間に、前記反応槽の内容物の少なくとも一部を除去するステップと、
(h)前記対象核酸中に存在する標的配列を増幅するのに十分な試薬および条件に、前記反応槽の内容物を曝露するステップと、を包含し、
前記表面処理剤は、ステップ(d)およびステップ(g)の間に核酸増幅阻害物質の存在を減らすのに十分な量で前記反応槽に提供され、
前記表面処理剤は核酸増幅反応の阻害物質でない、
方法。
【請求項2】
前記表面処理剤は、前記核酸含有材料が前記反応槽に提供される前に、前記反応槽に提供される、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記表面処理剤は、前記核酸含有材料が前記反応槽に提供された後に、前記反応槽に提供される、請求項1に記載の方法。
【請求項4】
前記対象核酸を固定化するために固体支持材料を前記反応槽に提供するステップをさらに包含する、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項5】
前記固体支持材料は、磁気反応性粒子を備える、請求項4に記載の方法。
【請求項6】
前記反応槽の内容物は、ステップ(c)およびステップ(f)の間に磁場に曝露される、請求項5に記載の方法。
【請求項7】
前記表面処理剤は、前記固体支持材料が前記反応槽に提供された後に、前記反応槽に提供される、請求項4から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
前記表面処理剤は、前記固体支持材料が前記反応槽に提供される前に、前記反応槽に提供される、請求項4から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
反応槽内における核酸増幅阻害物質の存在を減らすための方法であって、該方法は、
(a)反応槽から核酸含有材料の少なくとも一部を除去するステップと、
(b)ステップ(a)の後に、前記反応槽に洗浄液および表面処理剤を提供するステップと、
(c)前記反応槽の内容物を攪拌し、これにより、前記反応槽の内面を前記表面処理剤でコーティングするステップと、
(d)前記核酸含有材料中に存在する場合には、前記反応槽の内容物を、前記反応槽内の対象核酸を単離するのに十分な試薬および条件に曝露するステップと、
(e)ステップ(d)の間に、前記反応槽の内容物の少なくとも一部を除去するステップと、
(f)前記対象核酸中に存在する標的配列を増幅するのに十分な試薬および条件に、前記反応槽の内容物を曝露するステップと、
を包含し、
前記表面処理剤は、ステップ(e)の間に核酸増幅阻害物質の存在を減らすのに十分な量で前記反応槽に提供され、
前記表面処理剤は、核酸増幅反応の阻害物質でない、
方法。
【請求項10】
前記洗浄液および前記表面処理剤は、前記反応槽に同時に提供される、請求項9に記載の方法。
【請求項11】
前記洗浄液および前記表面処理剤は、前記反応槽に別々に提供される、請求項9に記載の方法。
【請求項12】
ステップ(a)の前に、前記対象核酸を固定化するための固体支持材料を前記反応槽に提供するステップをさらに包含する、請求項9から11のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
前記固体支持材料は、磁気反応性粒子を含む、請求項12に記載の方法。
【請求項14】
前記反応槽の内容物は、ステップ(d)の間に磁場に曝露される、請求項13に記載の方法。
【請求項15】
前記表面処理剤は、前記阻害物質が前記反応槽の内面に接着することを防止する、請求項1から14までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項16】
前記表面処理剤は、洗剤を含まない、請求項1から15までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項17】
前記表面処理剤は、シリコンオイルを備える、請求項1から16までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項18】
前記反応槽は、疎水性材料を備える、請求項1から17までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項19】
前記反応槽は、ポリプロピレンを備える、請求項18に記載の方法。
【請求項20】
前記阻害物質は、前記核酸含有材料によって提供される、請求項1から19までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項21】
前記阻害物質は、ヘモグロビンである、請求項20に記載の方法。
【請求項22】
前記阻害物質は、前記洗浄液によって提供される、請求項1から19までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項23】
前記阻害物質は、アニオン洗剤である、請求項22に記載の方法。
【請求項24】
前記標的配列を増幅するための前記試薬は、プライマー、ヌクレオシド三リン酸、および、前記対象核酸にハイブリダイズされた前記プライマーの3´端を延長することができる核酸ポリメラーゼを含む、請求項1から23までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項1】
反応槽内における核酸増幅阻害物質の存在を減らすための方法であって、該方法は、
(a)反応槽に表面処理剤および核酸含有材料を提供するステップと、
(b)前記反応槽の内容物を攪拌し、これにより、前記反応槽の内面を前記表面処理剤でコーティングするステップと、
(c)前記核酸含有材料中に存在する場合には、前記反応槽の内容物を、前記反応槽内の対象核酸を単離するのに十分な試薬および条件に曝露するステップと、
(d)ステップ(c)の間に、前記反応槽の内容物の少なくとも一部を除去するステップと、
(e)前記反応槽に洗浄液を提供するステップと、
(f)前記核酸含有材料中に存在する場合には、前記反応槽の内容物を、前記反応槽内の前記対象核酸を単離するのに十分な試薬および条件に曝露するステップと、
(g)ステップ(f)の間に、前記反応槽の内容物の少なくとも一部を除去するステップと、
(h)前記対象核酸中に存在する標的配列を増幅するのに十分な試薬および条件に、前記反応槽の内容物を曝露するステップと、を包含し、
前記表面処理剤は、ステップ(d)およびステップ(g)の間に核酸増幅阻害物質の存在を減らすのに十分な量で前記反応槽に提供され、
前記表面処理剤は核酸増幅反応の阻害物質でない、
方法。
【請求項2】
前記表面処理剤は、前記核酸含有材料が前記反応槽に提供される前に、前記反応槽に提供される、請求項1に記載の方法。
【請求項3】
前記表面処理剤は、前記核酸含有材料が前記反応槽に提供された後に、前記反応槽に提供される、請求項1に記載の方法。
【請求項4】
前記対象核酸を固定化するために固体支持材料を前記反応槽に提供するステップをさらに包含する、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
【請求項5】
前記固体支持材料は、磁気反応性粒子を備える、請求項4に記載の方法。
【請求項6】
前記反応槽の内容物は、ステップ(c)およびステップ(f)の間に磁場に曝露される、請求項5に記載の方法。
【請求項7】
前記表面処理剤は、前記固体支持材料が前記反応槽に提供された後に、前記反応槽に提供される、請求項4から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項8】
前記表面処理剤は、前記固体支持材料が前記反応槽に提供される前に、前記反応槽に提供される、請求項4から6のいずれか一項に記載の方法。
【請求項9】
反応槽内における核酸増幅阻害物質の存在を減らすための方法であって、該方法は、
(a)反応槽から核酸含有材料の少なくとも一部を除去するステップと、
(b)ステップ(a)の後に、前記反応槽に洗浄液および表面処理剤を提供するステップと、
(c)前記反応槽の内容物を攪拌し、これにより、前記反応槽の内面を前記表面処理剤でコーティングするステップと、
(d)前記核酸含有材料中に存在する場合には、前記反応槽の内容物を、前記反応槽内の対象核酸を単離するのに十分な試薬および条件に曝露するステップと、
(e)ステップ(d)の間に、前記反応槽の内容物の少なくとも一部を除去するステップと、
(f)前記対象核酸中に存在する標的配列を増幅するのに十分な試薬および条件に、前記反応槽の内容物を曝露するステップと、
を包含し、
前記表面処理剤は、ステップ(e)の間に核酸増幅阻害物質の存在を減らすのに十分な量で前記反応槽に提供され、
前記表面処理剤は、核酸増幅反応の阻害物質でない、
方法。
【請求項10】
前記洗浄液および前記表面処理剤は、前記反応槽に同時に提供される、請求項9に記載の方法。
【請求項11】
前記洗浄液および前記表面処理剤は、前記反応槽に別々に提供される、請求項9に記載の方法。
【請求項12】
ステップ(a)の前に、前記対象核酸を固定化するための固体支持材料を前記反応槽に提供するステップをさらに包含する、請求項9から11のいずれか一項に記載の方法。
【請求項13】
前記固体支持材料は、磁気反応性粒子を含む、請求項12に記載の方法。
【請求項14】
前記反応槽の内容物は、ステップ(d)の間に磁場に曝露される、請求項13に記載の方法。
【請求項15】
前記表面処理剤は、前記阻害物質が前記反応槽の内面に接着することを防止する、請求項1から14までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項16】
前記表面処理剤は、洗剤を含まない、請求項1から15までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項17】
前記表面処理剤は、シリコンオイルを備える、請求項1から16までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項18】
前記反応槽は、疎水性材料を備える、請求項1から17までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項19】
前記反応槽は、ポリプロピレンを備える、請求項18に記載の方法。
【請求項20】
前記阻害物質は、前記核酸含有材料によって提供される、請求項1から19までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項21】
前記阻害物質は、ヘモグロビンである、請求項20に記載の方法。
【請求項22】
前記阻害物質は、前記洗浄液によって提供される、請求項1から19までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項23】
前記阻害物質は、アニオン洗剤である、請求項22に記載の方法。
【請求項24】
前記標的配列を増幅するための前記試薬は、プライマー、ヌクレオシド三リン酸、および、前記対象核酸にハイブリダイズされた前記プライマーの3´端を延長することができる核酸ポリメラーゼを含む、請求項1から23までのいずれか一項に記載の方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図6A】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図23A】
【図23B】
【図23C】
【図24】
【図25】
【図25A】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【図45A】
【図46】
【図47】
【図48】
【図49】
【図50】
【図51】
【図52】
【図53】
【図54】
【図55】
【図56】
【図57】
【図58】
【図59】
【図60】
【図61】
【図62】
【図63】
【図64】
【図65】
【図66】
【図67】
【図68A】
【図68B】
【図68C】
【図68D】
【図68E】
【図68F】
【図69】
【図70】
【図71】
【図72】
【図73】
【図74】
【図75】
【図75A】
【図76A】
【図76B】
【図77】
【図78】
【図79】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図6A】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図23A】
【図23B】
【図23C】
【図24】
【図25】
【図25A】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【図45A】
【図46】
【図47】
【図48】
【図49】
【図50】
【図51】
【図52】
【図53】
【図54】
【図55】
【図56】
【図57】
【図58】
【図59】
【図60】
【図61】
【図62】
【図63】
【図64】
【図65】
【図66】
【図67】
【図68A】
【図68B】
【図68C】
【図68D】
【図68E】
【図68F】
【図69】
【図70】
【図71】
【図72】
【図73】
【図74】
【図75】
【図75A】
【図76A】
【図76B】
【図77】
【図78】
【図79】
【公開番号】特開2012−80894(P2012−80894A)
【公開日】平成24年4月26日(2012.4.26)
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願2011−268077(P2011−268077)
【出願日】平成23年12月7日(2011.12.7)
【分割の表示】特願2008−501021(P2008−501021)の分割
【原出願日】平成18年3月10日(2006.3.10)
【出願人】(500506530)ジェン−プロウブ インコーポレイテッド (58)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成24年4月26日(2012.4.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−268077(P2011−268077)
【出願日】平成23年12月7日(2011.12.7)
【分割の表示】特願2008−501021(P2008−501021)の分割
【原出願日】平成18年3月10日(2006.3.10)
【出願人】(500506530)ジェン−プロウブ インコーポレイテッド (58)
【Fターム(参考)】
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