洗浄部材、基板洗浄装置、基板処理装置
本発明は基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置の洗浄部材に係る。洗浄部材は、防水性のコア部を具備し、該コア部の表面を多孔質高分子素材で被覆した被覆層を設けたことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を洗浄するのに用いられる洗浄部材に関し、洗浄部材から排出される汚染物質を減らし、被洗浄基板の逆汚染を防止し、基板に対して高い洗浄力を安定して提供できる洗浄部材、該洗浄部材を備えた基板洗浄装置及び基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に、洗浄液を供給し、該基板と洗浄部材の相対的運動により、該基板の洗浄面の汚染物を除去する方法は、汚染物除去効果が大きく、操作も簡便な物理洗浄として一般的に行われてきた。ここで使用される洗浄部材には単一の吸水性高分子材料を筒型、円板型などに成型したものが多く用いられている。また、この高分子材料は気孔径が数μｍ〜３００μｍ程度の多孔質である場合が多いので、成型時に粒子を含有し易い。事前に洗浄を十分に行えば含有粒子は減少するが、完全に除去することができるものではなく、洗浄部材の体積が増すほど、より含有粒子を取りきるのは困難である。
【０００３】
高分子材は吸水性が高いため高分子材からなる洗浄部材で基板を洗浄すると、洗浄液とともに汚染物質が洗浄部材の内部に進入する。洗浄部材は汚染粒子を気孔内にトラップするが、外部に排出するので、逆汚染の原因ともなる。Ｃｕ等の金属膜を形成した基板を洗浄した場合は、数枚の洗浄で容易に目視観察できるほど洗浄部材がＣｕで汚染される。吸水性洗浄部材の特性上汚染しつつ洗っているのが実情である。
【特許文献１】特開平５−３１７７８３号公報
【特許文献２】特許第２８７５２１３号公報
【０００４】
そのため特許文献１に開示すように、洗浄部材に洗浄液を噴射したり、超音波振動子を備え、超音波照射をした液槽内で洗浄部材を洗浄するなどセルフクリーニング法も提案されているが、内部まで汚染が浸透していることが多いため、常に十分な清浄度を保つのは困難であった。これらの問題に対し界面活性剤などの薬液やガス溶解水によるゼータ電位制御などで、流出した汚染物が再付着しにくくなるように対処してきた。しかし連続使用により汚染が除々に内部まで浸透していき、蓄積量が増していくのは避けられない。また、基板の膜種などにより使用洗浄液の制約もあるため、根本的な解決が必要である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、洗浄部材から排出される汚染物質が少なく、被洗浄基板の逆汚染を防止し、基板に対して高い洗浄力を安定して維持できる洗浄部材、基板洗浄装置、基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置の洗浄部材であって、防水性のコア部を具備し、該コア部の表面を多孔質高分子素材で被覆した被覆層を設けたことを特徴とする。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系ポリマー、アクリル酸系ポリマー、その他の附加重合体、アクリルアミド系ポリマー、ポリオキシエチレン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、縮合系ポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンアウルホン酸、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂のいずれかの高分子材で形成されることを特徴とする。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材の被覆層の厚さは５μｍ以上１５ｍｍ以下であることを特徴とする。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記コア部が、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、シリコンゴム、フォスファゼンゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂のいずれかの防水素材で構成されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材の被覆層の湿潤時の硬度が１００以下であることを特徴とする。なお、ここで硬度測定に用いた硬度計は、株式会社テクロック社製デュロメータＧＳ−７４３Ｇである。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材の被覆層の間又は該被覆層と前記コア部の間に防水性素材からなる防水層を形成したことを特徴とする。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置において、前記洗浄部材に請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄部材を用いたことを特徴とする。
【００１３】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の基板洗浄装置において、前記洗浄部材の前記多孔質高分子素材の被覆層の有無をモニタするのに硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えたことを特徴とする。
【００１４】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の基板洗浄装置において、前記洗浄部材の気孔分布、硬度が前記多孔質高分子素材の被覆層から前記コア部の状態に変化した場合、交換信号を出力する手段を設けたことを特徴とする。
【００１５】
請求項１０に記載の発明は、基板に所定の処理を施す基板処理部と、該基板処理部で所定の処理が終了した基板を洗浄する基板洗浄部を備えた基板処理装置において、前記基板先浄部に請求項７乃至９のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１及び２に記載の発明によれば、洗浄部材を防水性のコア部の表面を多孔質高分子素材で被覆した被覆層を設けたので、基板と直接接触する部分は柔軟性の高い吸水性多孔質高分子素材の被覆層となり、優れた洗浄能力を保ちつつ、洗浄部材内部、即ちコア部杓への汚染物進入を遮断し、逆汚染を減少させることができる洗浄部材を提供できる。
【００１７】
請求項３に記載の発明によれば、多孔質高分子素材の被覆層の厚さは５μｍ以上１５μｍ以下とするので、多孔質高分子素材の被覆層が薄く、汚染物の蓄積する部分の体積が小さくなり、逆汚染が減少する。
【００１８】
請求項４に記載の発明によれば、コア部が、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、ンリコンゴム、フォスファゼンゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂のいずれかの防水素材で構成されているので、コア部分は防水性で且つ弾性を有するので、多孔質高分子素材の被覆層が薄くても洗浄部材全体としては柔軟性を及び汚染物除去能力を保ちつつ、洗浄部材内部、即ちコア部内への汚染物の進入を遮断するから、蓄積する汚染物の量が少なくなり逆汚染を減少させることができる。
【００１９】
請求項５に記載の発明によれば、多孔質高分子素材の被覆層の湿潤時の硬度を１００以下（株式会杜テクロック杜製デュロメータＧＳ−７４３Ｇの硬度計を使用）としたので、基板と直接接触する多孔質高分子素材からなる被覆層の柔軟性が維持され、基板へ損傷を与えることがない。ちなみに硬度が１００を越えると基板に傷が付く恐れがある。
【００２０】
請求項６に記載の発明によれば、多孔質高分子素材の被覆層の間又は被覆層とコア部の間に防水性素材からなる防水層を形成したので、防水性素材層から内側には汚染液や汚染物が進入（浸透）することなく、この防水層から外側の被覆層の厚さを薄くすることで、汚染液や汚染物質の蓄積量を少なくでき、逆汚染を減少させることができ、且つ被覆層全体の厚さを大きくすることで、洗浄部材全体が柔軟性を確保できる。また、コア部を構成する素材に防水性を考慮することがないので、専らコア部として優れた特性を有する材料を選定できるので材料選定幅が広くなる。
【００２１】
請求項７に記載の発明によれば、基板洗浄装置の洗浄部材に請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄部材を用いるので、洗浄部材からの逆汚染が少なく、長期間洗浄能力を発揮できる基板洗浄装置を提供できる。
【００２２】
請求項８に記載の発明によれば、洗浄部材の多孔質高分子素材の被覆層の有無をモニタするのに硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えたので、常時洗浄部材の被覆層の状態を観測でき、被覆層の有無や破損状態等を観測することができ、洗浄部材の交換時期を速やかに予測できる基板洗浄装置を提供できる。
【００２３】
請求項９に記載の発明によれば、洗浄部材の気孔分布及び／又は硬度が多孔質高分子素材の被覆層の気孔分布及び／又は硬度からコア部の気孔分布及び／又は硬度に変化した場合、交換信号を出力する手段を設けたので、洗浄部材の交換時期を正確に知ることができる基板洗浄装置を提供できる。
【００２４】
請求項１０に記載の発明によれば、基板処理装置の基板洗浄部に請求項７乃至９のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いるので、基板処理部で所定の処理が終了した基板を常に高い清浄度で逆汚染がなく洗浄できる基板処理装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態例を図面に基づいて説明する。図１及び図２は本発明に係る洗浄部材を使用する基板洗浄装置の実施例の概略構成を示す図であり、図１はペン型洗浄部材を使用する基板洗浄装置を、図２はロール型洗浄部材を使用する基板洗浄装置の構成を示す図である。
【００２６】
図１の基板洗浄装置は、図示するように、基板Ｗの外周部を複数本（図では４本）の係合ピン１１で保持し、該保持した基板Ｗを係合ピン１１ごと回転させる基板保持回転機構１０を備えている。この基板洗浄装置において、回転する基板Ｗに洗浄部材保持回転機構１２で保持回転する円板状の洗浄部材１３を当接させ、基板Ｗの表面に洗浄液供給ノズル１４から洗浄液を供給しながら、基板Ｗと洗浄部材１３の相対運動により、基板Ｗの上面を洗浄する。なお、洗浄部材保持回転機構１２は揺動アーム１５に回転自在に支持され、洗浄部材１３は回転しながら、基板Ｗの上面を左右に揺動するようになっている。
【００２７】
また、図２の基板洗浄装置は、複数本（図では６本）のスピンドル２１を備え、該スピンドル２１の上部の回転ローラ２２で基板Ｗの外周部を挟持し、該基板Ｗを回転させる基板保持回転機構２０を備えている。この基板洗浄装置において、回転する基板Ｗの上下面に円筒状の洗浄部材２３を当接し、該洗浄部材２３を洗浄部材回転駆動機構（図示せず）で回転させ、更に基板Ｗの上下面に洗浄液供給ノズル２４（下面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルの図示は省略）から洗浄液を供給しながら、基板Ｗと洗浄部材２３の相対運動により、基板Ｗの上下面を洗浄するものである。
【００２８】
図３乃至図５はそれぞれ上記円板状の洗浄部材（ペン型洗浄部材）１３の構成例を示す図である。図３に示す洗浄部材１３は円板状（又は円柱状）のコア部１３ａを具備し、該コア部１３ａの下端面に多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂを一体的に設けた構成である。なお、図３（ａ）は外観図、図３（ｂ）は断側面図である。図４に示す洗浄部材１３は円板状（又は円柱状）のコア部１３ａを具備し、該コア部１３ａの下端面及び外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂを一体的に設けた構成である。なお、図４（ａ）は外観図、図４（ｂ）は断側面図である。図５に示す洗浄部材１３は略半円球状のコア部１３ａを具備し、該コア部１３ａの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂを一体的に設けた構成である。なお、図５（ａ）は外観図、図５（ｂ）は断側面図である。
【００２９】
図６、図７は上記ロール型の洗浄部材２３の構成例を示す図である。図６に示す洗浄部材２３は円筒状のコア部２３ａを具備し、該コア部２３ａの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂを一体的に設けた構成である。図７に示す洗浄部材２３は円筒状のコア部２３ａを具備し、該コア部２３ａの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−１を設け、その外周面に防水性素材からなる防水層２３ｃを設け、その外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−２を設けた構成である。即ち、図７に示す洗浄部材は、コア部２３ａの外周部に設けた多孔質高分子素材層からなる被覆層２３ｂ−１と被覆層２３ｂ−２の間に防水性素材からなる防水層２３ｃを形成した構成である。防水層２３ｃ及び被覆層２３ｂ−１、２３ｂ−２は一体的に形成されても良い。なお、図６、図７において、２７は貫通するシャフト（回転軸部材）が嵌挿入される貫通孔である。
【００３０】
基板Ｗと洗浄部材１３又は洗浄部材２３との摩擦により、洗浄部材１３又は２３の表面の被覆層１３ｂ又は２３ｂは削れていき洗浄効果が低下するため、被覆層１３ｂ又は２３ｂの表層部が１０μｍ程度磨耗すれば洗浄部材１３又は２３を交換する必要がある。直径３００ｍｍの円筒状洗浄部材２３の場合は、表層１０μｍは該洗浄部材２３の全体積の約０．２％である。洗浄部材１３又は２３の表面層以外の部分は汚染物剥離に直接寄与しない部分である。
【００３１】
一方多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂ又は２３ｂの体積が増すほど汚染物の保持可能力が増加する。柔軟性さえあれば、洗浄部材１３又は洗浄部材２３の全体が吸水性多孔質である必要は必ずしもない。よって、本発明に係る洗浄部材１３又は２３は上記のように、基板Ｗと直接接触する被覆層１３ｂ又は２３ｂには柔軟性の高い吸水性の多孔質高分子素材を用い、コア部１３ａ又は２３ａには防水性弾性素材を用いることで、洗浄部材全体の柔軟性及び汚染物除去能力を保ちつつ、洗浄部材１３又は２３の内部への汚染物進入を遮断して、逆汚染量を減少させるようにしている。被覆層１３ｂ又は２３ｂが薄い方が、汚染物が蓄積する部分が少なくなるが、気孔を十分含むことで柔軟性を持たせ、押付け圧の幅を考慮して、表層部厚さは１０μｍ〜１５ｍｍとする。
【００３２】
コア部１３ａ又は２３ａの素材としては、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、シリコンゴム、フォスファゼン（ＰＨ‘ＯＳＰＨＡＺＥＮＥ）ゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂、軟質プラスチックフォームのいずれかを用いる。これらの素材は防水性を有し且つ弾性を有するから、汚染物はコア部１３ａ又は２３ａに進入することなく、且つ洗浄部材１３又は２３の全体の柔軟性は維持される。
【００３３】
被覆層１３ｂ又は２３ｂの素材としては、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系ポリマー、アクリル酸系ポリマー、その他の附加重合体、アクリルアミド系ポリマー、ポリオキシエチレン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、縮合系ポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンアウルホン酸、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂のいずれかの高分子材を用いる。これらの素材は、柔軟性・吸水性を有する素材であるから、基板Ｗに損傷を与えにくく、且つ高い汚染物の除去能力を有する。
【００３４】
防水性を有し且つ弾性を有する上記素材で構成されたコア部１３ａ又は２３ａの最表面に、上記素材からなる被覆層１３ｂ又は２３ｂを熱溶着、接着剤による接着、圧着、熱圧着、スプレーコーティングのいずれかの方法を用いて設ける。
【００３５】
図７に示すように、洗浄部材２３を防水性を有する素材からなるコア部２３ａの外周面に柔軟性及び高い吸水性を有する多孔質高分子素材の被覆層２３ｂ−１で覆い、該被覆層２３ｂ−１の外周を防水性を有する素材からなる防水層２３ｃで覆い、更に該防水層２３ｃの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−２で覆う構成を採用する洗浄部材２３では、防水層２３ｃによりコア部２３ａの外周面を覆う被覆層２３ｂ−１に汚染液や粒子が進入するのを阻止すると共に、コア部２３ａ及び被覆層２３ｂ−１から基板Ｗに接触する被覆層２３ｂ−２への汚染物の流出を防止できる。基板に接触する部分（最表面部）や洗浄部材の取り付け部分（コア部を含めコア部を貫通するシャフト等の洗浄部材２３を固定する固定具との接触部）が従来の洗浄部材と同じ材質の多孔材質でできているので、本発明の洗浄部材が従来の洗浄部材と、洗浄液とのなじみ易さ、機能及び動作の点で実質的に同じであるため、洗浄装置の使用者は、従来の洗浄部材を本発明の洗浄部材に特別の細工を施さずに容易に交換できる。固定具の汚染は防水層２３ｃで遮断するため、基板Ｗには影響しない。
【００３６】
なお、図７では、防水層２３ｃをコア部２３ａの外周部に形成した多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−１と被覆層２３ｂ−２の間に設ける構成としているが、図８に示すようにコア部２３ａと多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂの間に防水層２３ｃを設けても、図７に示す洗浄部材２３と略同じ作用効果が得られる。図７、図８に示すように、防水層２３ｃを設けることにより、洗浄部材２３の両端部に防水対策を施すことにより、コア部２３ａは必ずしも防水材で構成することなく、コア部２３ａの防水性を考慮することなく、コア部２３ａに適した性能の材料を使用すればよく、コア部２３ａに使用される材料の選定範囲が広くなる。
【００３７】
図９は洗浄部材１３又は２３の一部を用いて汚染粒子の進入排出の状態を観念的に示す図である。図において、黒丸１は進入汚染粒子を、白丸２は初期残留汚染粒子を、３は気孔を示す。従来のように洗浄部材全体が吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材でなる場合は、図９（ａ）に示すように、吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる洗浄部材１３又は２３内部に多くの汚染液や進入汚染粒子１が吸収され易く、初期残留汚染粒子２も内部から排出する恐れが多い。図３乃至図５に示すようにコア部１３の外表面を多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂで覆っている場合、図９（ｂ）に示すように、被覆層２３ｂ（図では２３ｂで示す）にのみ汚染液や進入汚染粒子１が取り込まれるため、進入汚染粒子１の量が少ない。また、初期残留汚染粒子２の量も少ないから、その排出も少ない。
【００３８】
図６に示すように、防水性素材からなるコア部２３ａの外周面を吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材の被覆層２３ｂで覆っている場合は、図９（ｂ）に示すように、被覆層２３ｂにのみ汚染液や進入汚染粒子１が取り込まれるため、進入汚染粒子１の量が少ない。また、初期残留汚染粒子２の量も少ないから、その排出も少ない。また、図７に示すように吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−１と２３ｂ−２の間に防水層２３ｃが介在している場合は、図９（ｃ）に示すように防水層２３ｃの外周にある被覆層２３ｂ−２にのみ汚染液や進入汚染粒子１が取り込まれるため、進入汚染粒子１の量が少ない。また、初期残留汚染粒子２の量も少ないから、その排出も少ない。
【００３９】
図１０はロール型の洗浄部材の外周面に複数の突起部が形成された構成の洗浄部材の汚染状態を説明するための図で、図１０（ａ）は外周面の突起部２３ｄ及びロール本体２３ｅの洗浄部材２３全体を吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材で構成した場合で、図１０（ｂ）は突起部２３ｄ及びロール本体２３ｅは防水性を有する素材で構成し、突起部２３ｄの外表面及びロール本体２３ｅの外表面に吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる被覆層２６を形成している。上記実施例において、突起部はロール本体の外周に円周方向に隔てて配置されかつそれと一体的に形成されていても良い。また、各突起部はロール本体の長さに亘ってロール本体の軸線に沿って連続的に伸びた構造でも、複数に区切られた構造でもよい。
【００４０】
上記のように構成した洗浄部材２３を上面に洗浄液２５を供給している基板Ｗの上に接触させ矢印ａに示すように回転させた場合、図１０（ａ）のように洗浄部材２３全体を吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材で構成した場合、矢印Ｂに示すように汚染した洗浄液や汚染粒子が突起部２３ｄを通ってロール本体２３ｅに吸収され多くの汚染した洗浄液や汚染粒子が洗浄部材２３内に蓄積される。従って、洗浄部材２３内から排出される汚染液や汚染粒子の数量も多く、基板Ｗが逆汚染される確率が高くなる。これに対して、突起部２３ｄの外表面及びロール本体２３ｅの外表面にのみ吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる被覆層２６を形成した場合は、防水性を有する素材からなる突起部２３ｄ内やロール本体２３ｅ内には汚染した洗浄液や汚染粒子が進入することなく、薄い被覆層２６のみに汚染した洗浄液や汚染粒子が蓄積されることになり、その量が極めて少なく、従って排出される汚染液や汚染粒子の数量も極めて少なく、基板Ｗが逆汚染される確率が低くなる。
【００４１】
図３、図４、図５、図６、図７、図８、及び図１０（ｂ）に示すように構成された洗浄部材を基板Ｗの処理面に接触させると共に、処理液を供給し両者の相対的運動により、該処理面を処理するように基板処理装置を構成し、該基板処理装置に洗浄部材１３又は２３の多孔質高分子素材の被覆層に基板Ｗを接触させ摩擦することで汚染物を除去する機構を備えることにより、洗浄部材１３又は２３を常に汚染物が無いか或いは極めて少ない、清浄状態に維持することができる。
【００４２】
また、図１に示す洗浄装置の洗浄部材１３に図３乃至図５に示す構成の洗浄部材を用い、洗浄部材１３の多孔質高分子素材の被覆層１３ｂの有無をモニタするのに超微小硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えることにより、洗浄部材１３の被覆層１３ｂの状態を知ることができ、適正な交換時期に洗浄部材１３を交換することが可能となる。同様に、図２に示す洗浄装置の洗浄部材２３に図６、図７、図８、及び図１０（ｂ）に示す構成の洗浄部材を用い、洗浄部材２３の多孔質高分子素材の被覆層２３ｂ、２６の有無をモニタするのに超微小硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えることにより、洗浄部材２３の被覆層２３ｂ、２６の状態を知ることができ、適正な交換時期に洗浄部材２３を交換することが可能となる。
【００４３】
また、上記のように構成された基板処理装置又は基板洗浄装置において、洗浄部材１３，２３の気孔分布、硬度が多孔質高分子素材の被覆層からコア部に変化した場合、交換信号を出すようにすれば、洗浄部材の適正交換時期を知ることができる。
【００４４】
図１１は図４に示す構成の洗浄部材を洗浄しながら、洗浄部材１３の被覆層１３ｂの状態をモニタする洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。本洗浄部材洗浄機構は図１に示す基板洗浄装置の基板Ｗの外側所定位置（待機位置）に配置されている。洗浄部材洗浄機構３０は、洗浄槽３１を備え、該洗浄槽３１内底部に観察壁３２が配置されている。該観察壁３２は透明な材料（例えば、水晶等）で構成され、その中央部にＣＣＤ３３が配置され、該ＣＣＤ３３の出力信号は画像処理装置３４に取り込まれ画像処理され、画像処理信号は制御装置３５に出力されるようになっている。
【００４５】
また、洗浄槽３１内には洗浄液Ｑ中のパーティクル数及び／又は洗浄液Ｑの成分濃度等を測定する液性状センサ３６が配置され、該液性状センサ３６の出力信号も制御装置３５に出力されるようになっている。制御装置３５は画像処理装置３４からの画像処理信号及び液性状センサ３６の出力信号から例えば洗浄液交換信号Ｓ１や洗浄部材交換信号Ｓ２を作成し、制御盤（図示せず）に出力するようになっている。
【００４６】
洗浄槽３１内には洗浄液供給管３７より洗浄液Ｑが供給されており、該供給液Ｑ中に図１の揺動アーム１５に回転自在に支持され、洗浄部材保持回転機構１２に保持された洗浄部材１３が上方から浸漬され、観察壁３２上面に所定の圧力で押圧され、矢印Ａ方向に回転することにより、洗浄部材１３は洗浄される。この洗浄において、被覆層１３ｂは薄いから吸込まれたパーティクルが効果的に排出される。この洗浄部材１３の洗浄中に超音波発振器３８から超音波が発振され、洗浄液Ｑが励起され、洗浄作用を促進させる。洗浄液Ｑ内のパーティクル数や洗浄液Ｑの成分濃度等は液性状センサ３６で観測され、洗浄液Ｑが交換状態になったら、排液弁３９を開放し、洗浄槽３１内の洗浄液を排出すると共に、排液後洗浄液供給管３７から新たな洗浄液Ｑを供給する。
【００４７】
ＣＣＤ３３は透明な観察壁３２を通して洗浄部材１３の被覆層１３ｂの状態を観測し、その出力信号は上記のように画像処理装置３４に出力され、該画像処理装置３４で画像処理された画像処理信号は制御装置３５に取り込まれる。制御装置３５は画像処理信号から洗浄部材１３の多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂの状態を知ることができ、適正な交換時期に洗浄部材交換信号Ｓ２を制御盤に出力する。これにより、適正な時期に洗浄部材１３の交換をすることができる。例えば被覆層１３ｂが極めて薄くなったり、コア部１３ａの一部が露出した場合に直ちに洗浄部材１３の交換信号Ｓ２を出力する。なお、図示は省略するが、図３及び図５に示す洗浄部材も、図１１に示す構成の洗浄部材洗浄機構を用いての洗浄部材１３の洗浄及び被覆層１３ｂの状態をモニタすることができる。
【００４８】
図１２は図６に示す構成の洗浄部材２３を洗浄しながら、洗浄部材２３の被覆層２３ｂの状態をモニタする洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。本洗浄部材洗浄機構は図２に示す基板洗浄装置の基板Ｗの外側所定位置（待機位置）に配置されている。洗浄部材洗浄機構４０は、洗浄槽４１を備え、該洗浄槽４１内底部に観察壁４２が配置されている。該観察壁４２は透明な材料（例えば、水晶等）で構成され、その中央部にＣＣＤ４３が配置され、該ＣＣＤ４３の出力信号は画像処理装置４４に取り込まれ画像処理され、画像処理信号は制御装置４５に出力されるようになっている。
【００４９】
また、洗浄槽４１内には洗浄液Ｑ中のパーティクル数及び／又は洗浄液Ｑの成分濃度等を測定する液性状センサ４６が配置され、該液性状センサ４６の出力信号も制御装置４５に出力されるようになっている。制御装置４５は画像処理装置４４からの画像処理信号及び液性状センサ４６の出力信号から例えば洗浄液交換信号Ｓ１や洗浄部材交換信号Ｓ２を作成し、洗浄液供給バルブ５０や洗浄部材交換信号発生部５２に出力するようになっている。
【００５０】
洗浄槽４１内には洗浄液供給バルブ５０を開放することにより洗浄液供給管５１より洗浄液Ｑが供給されるようになっており、図示しない排液バルブを開放することにより、洗浄液Ｑを排液できるようになっている。また、洗浄槽４１内には観察壁４２上面にある洗浄部材２３を矢印Ａ、Ａ方向に移動させることにより、洗浄部材２３を所定の圧力で挟持又は解放する洗浄治具４８、４８が配置されている。該洗浄治具４８、４８は洗浄治具駆動装置４７で矢印Ａ、Ａ方向に移動されるようになっている。観察壁４２上面に所定の圧力で押圧され、且つ洗浄治具４８、４８で挟持された洗浄部材２３を矢印Ｂ方向に回転することにより、洗浄部材２３は洗浄される。この洗浄において、被覆層２３ｂは薄いから吸込まれたパーティクルは効率よく吐き出される。この洗浄部材２３の洗浄中に超音波発振器４９から超音波が発振され、洗浄液Ｑが励起され、洗浄作用を促進させる。洗浄液Ｑ内のパーティクル数や洗浄液Ｑの成分濃度等は液性状センサ４６で観測され、洗浄液Ｑが交換状態になったら、図示しない排液弁を開放し、洗浄槽４１内の洗浄液Ｑを排出すると共に、排液後洗浄液供給バルブ５０を開放し、洗浄液供給管５１から新たな洗浄液Ｑを供給する。
【００５１】
ＣＣＤ４３は透明な観察壁４２を通して洗浄部材２３の被覆層２３ｂの状態を観測し、その出力信号は上記のように画像処理装置４４に出力され、該画像処理装置４４で画像処理された画像処理信号は制御装置４５に取り込まれる。制御装置４５は画像処理信号から洗浄部材２３の多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂの状態を知ることがでる。例えば、洗浄部材２３の表面の被覆層２３ｂが極めて薄くなったり、コア部２３ａの一部が露出したら直ちに洗浄部材交換信号Ｓ２を洗浄部材交換信号発生部５２に出力する。なお、図示は省略するが、図７及び図１０（ｂ）に示す洗浄部材も、図１２に示す構成の洗浄部材洗浄機構を用いての洗浄部材２３の洗浄及び被覆層２３ｂの状態をモニタすることができる。
【００５２】
図１３は本発明に係る基板処理装置（めっき装置）の平面構成例を示す図である。本基板処理装置は、例えばスミフボックス等の内部に多数の半導体ウエハ等の基板を収納した搬送ボックス６０を着脱自在にした矩形状の装置フレーム６１を備えている。この装置フレーム６１の内部には、中央部に位置して、第１基板搬送ロボット６２、仮置台６３、及び第２基板搬送ロボット６４が直列に配置されている。
【００５３】
そして両側に位置して、一対の基板洗浄・乾燥ユニット６５、基板洗浄ユニット６６、めっき前処理ユニット６７、めっき前処理及びめっきユニット６８が配置されている。更に、搬送ボックス６０と反対側に位置して、めっき前処理ユニット６７にめっき前処理液を供給するめっき前処理液供給部６９と、めっき前処理及びめっきユニット６８にめっき液を供給するめっき液供給部７０が配置されている。基板洗浄ユニット６６には図１又は図２に示す構成の基板洗浄装置を用いている。
【００５４】
第１搬送ロボット６２により搬送ボックス６０から１枚の基板Ｗを取り出して仮置台６３のドライ用基板保持部に搬送し載置する。該ドライ用基板保持部（図示せず）で保持する基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４でめっき前処理ユニット６７に搬送し、該めっき前処理ユニット６７でめっき前処理を行う。めっき前処理の終了した基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４でめっき前処理及びめっきユニット６８に搬送し、ここでめっき前処理及びめっき処理を行い、めっき処理の終了した基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４で図１又は図２に示す構成を有する基板洗浄ユニット６６に搬送する。
【００５５】
基板洗浄ユニット６６では、基板Ｗの上下面を洗浄し、基板Ｗの表面に付着したパーティクルや不要物を除去する。該パーティクルや不要物が除去された基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４で仮置台６３のウエット用基板保持部（図示せず）に搬送し載置する。
【００５６】
第１基板搬送ロボット６２は、仮置台６３のウエット用基板保持部から基板Ｗを取り出し、基板洗浄・乾燥ユニット６５に搬送し、ここで、基板Ｗの表面の化学洗浄及び純水洗争を行って、スピン乾燥させる。このスピン乾燥後の基板Ｗを第１基板搬送ロボット６２で搬送ボックス６０内に戻す。これにより基板Ｗの処理は終了する。
【００５７】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明に係る洗浄部材を用いる基板洗浄装置の概略構成例を示す図である。
【図２】本発明に係る洗浄部材を用いる基板洗浄装置の概略構成例を示す図である。
【図３】本発明に係るペン型の洗浄部材の一実施例の構成例を示す図である。
【図４】本発明に係るペン型の洗浄部材の他の実施例の構成例を示す図である。
【図５】本発明に係るペン型の洗浄部材の更に別の実施例の構成例を示す図である。
【図６】本発明に係るロール型の洗浄部材の他の実施例の構成例を示す図である。
【図７】本発明に係るロール型の洗浄部材の構成例を示す図である。
【図８】本発明に係るロール型の洗浄部材の構成例を示す図である。
【図９】従来の洗浄部材と本発明に係る洗浄部材の汚染及び汚染排出状態を説明するための図である。
【図１０】従来の洗浄部材と本発明に係る洗浄部材の汚染及び汚染排出状態を説明するための図である。
【図１１】本発明に係る基板洗浄装置の洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。
【図１２】本発明に係る基板洗浄装置の洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。
【図１３】本発明に係る基板処理装置の構成例を示す図である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を洗浄するのに用いられる洗浄部材に関し、洗浄部材から排出される汚染物質を減らし、被洗浄基板の逆汚染を防止し、基板に対して高い洗浄力を安定して提供できる洗浄部材、該洗浄部材を備えた基板洗浄装置及び基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に、洗浄液を供給し、該基板と洗浄部材の相対的運動により、該基板の洗浄面の汚染物を除去する方法は、汚染物除去効果が大きく、操作も簡便な物理洗浄として一般的に行われてきた。ここで使用される洗浄部材には単一の吸水性高分子材料を筒型、円板型などに成型したものが多く用いられている。また、この高分子材料は気孔径が数μｍ〜３００μｍ程度の多孔質である場合が多いので、成型時に粒子を含有し易い。事前に洗浄を十分に行えば含有粒子は減少するが、完全に除去することができるものではなく、洗浄部材の体積が増すほど、より含有粒子を取りきるのは困難である。
【０００３】
高分子材は吸水性が高いため高分子材からなる洗浄部材で基板を洗浄すると、洗浄液とともに汚染物質が洗浄部材の内部に進入する。洗浄部材は汚染粒子を気孔内にトラップするが、外部に排出するので、逆汚染の原因ともなる。Ｃｕ等の金属膜を形成した基板を洗浄した場合は、数枚の洗浄で容易に目視観察できるほど洗浄部材がＣｕで汚染される。吸水性洗浄部材の特性上汚染しつつ洗っているのが実情である。
【特許文献１】特開平５−３１７７８３号公報
【特許文献２】特許第２８７５２１３号公報
【０００４】
そのため特許文献１に開示すように、洗浄部材に洗浄液を噴射したり、超音波振動子を備え、超音波照射をした液槽内で洗浄部材を洗浄するなどセルフクリーニング法も提案されているが、内部まで汚染が浸透していることが多いため、常に十分な清浄度を保つのは困難であった。これらの問題に対し界面活性剤などの薬液やガス溶解水によるゼータ電位制御などで、流出した汚染物が再付着しにくくなるように対処してきた。しかし連続使用により汚染が除々に内部まで浸透していき、蓄積量が増していくのは避けられない。また、基板の膜種などにより使用洗浄液の制約もあるため、根本的な解決が必要である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、洗浄部材から排出される汚染物質が少なく、被洗浄基板の逆汚染を防止し、基板に対して高い洗浄力を安定して維持できる洗浄部材、基板洗浄装置、基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため請求項１に記載の発明は、基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置の洗浄部材であって、防水性のコア部を具備し、該コア部の表面を多孔質高分子素材で被覆した被覆層を設けたことを特徴とする。
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系ポリマー、アクリル酸系ポリマー、その他の附加重合体、アクリルアミド系ポリマー、ポリオキシエチレン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、縮合系ポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンアウルホン酸、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂のいずれかの高分子材で形成されることを特徴とする。
【０００８】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材の被覆層の厚さは５μｍ以上１５ｍｍ以下であることを特徴とする。
【０００９】
請求項４に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記コア部が、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、シリコンゴム、フォスファゼンゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂のいずれかの防水素材で構成されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材の被覆層の湿潤時の硬度が１００以下であることを特徴とする。なお、ここで硬度測定に用いた硬度計は、株式会社テクロック社製デュロメータＧＳ−７４３Ｇである。
【００１１】
請求項６に記載の発明は、請求項１に記載の洗浄部材において、前記多孔質高分子素材の被覆層の間又は該被覆層と前記コア部の間に防水性素材からなる防水層を形成したことを特徴とする。
【００１２】
請求項７に記載の発明は、基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置において、前記洗浄部材に請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄部材を用いたことを特徴とする。
【００１３】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の基板洗浄装置において、前記洗浄部材の前記多孔質高分子素材の被覆層の有無をモニタするのに硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えたことを特徴とする。
【００１４】
請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の基板洗浄装置において、前記洗浄部材の気孔分布、硬度が前記多孔質高分子素材の被覆層から前記コア部の状態に変化した場合、交換信号を出力する手段を設けたことを特徴とする。
【００１５】
請求項１０に記載の発明は、基板に所定の処理を施す基板処理部と、該基板処理部で所定の処理が終了した基板を洗浄する基板洗浄部を備えた基板処理装置において、前記基板先浄部に請求項７乃至９のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１及び２に記載の発明によれば、洗浄部材を防水性のコア部の表面を多孔質高分子素材で被覆した被覆層を設けたので、基板と直接接触する部分は柔軟性の高い吸水性多孔質高分子素材の被覆層となり、優れた洗浄能力を保ちつつ、洗浄部材内部、即ちコア部杓への汚染物進入を遮断し、逆汚染を減少させることができる洗浄部材を提供できる。
【００１７】
請求項３に記載の発明によれば、多孔質高分子素材の被覆層の厚さは５μｍ以上１５μｍ以下とするので、多孔質高分子素材の被覆層が薄く、汚染物の蓄積する部分の体積が小さくなり、逆汚染が減少する。
【００１８】
請求項４に記載の発明によれば、コア部が、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、ンリコンゴム、フォスファゼンゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂のいずれかの防水素材で構成されているので、コア部分は防水性で且つ弾性を有するので、多孔質高分子素材の被覆層が薄くても洗浄部材全体としては柔軟性を及び汚染物除去能力を保ちつつ、洗浄部材内部、即ちコア部内への汚染物の進入を遮断するから、蓄積する汚染物の量が少なくなり逆汚染を減少させることができる。
【００１９】
請求項５に記載の発明によれば、多孔質高分子素材の被覆層の湿潤時の硬度を１００以下（株式会杜テクロック杜製デュロメータＧＳ−７４３Ｇの硬度計を使用）としたので、基板と直接接触する多孔質高分子素材からなる被覆層の柔軟性が維持され、基板へ損傷を与えることがない。ちなみに硬度が１００を越えると基板に傷が付く恐れがある。
【００２０】
請求項６に記載の発明によれば、多孔質高分子素材の被覆層の間又は被覆層とコア部の間に防水性素材からなる防水層を形成したので、防水性素材層から内側には汚染液や汚染物が進入（浸透）することなく、この防水層から外側の被覆層の厚さを薄くすることで、汚染液や汚染物質の蓄積量を少なくでき、逆汚染を減少させることができ、且つ被覆層全体の厚さを大きくすることで、洗浄部材全体が柔軟性を確保できる。また、コア部を構成する素材に防水性を考慮することがないので、専らコア部として優れた特性を有する材料を選定できるので材料選定幅が広くなる。
【００２１】
請求項７に記載の発明によれば、基板洗浄装置の洗浄部材に請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄部材を用いるので、洗浄部材からの逆汚染が少なく、長期間洗浄能力を発揮できる基板洗浄装置を提供できる。
【００２２】
請求項８に記載の発明によれば、洗浄部材の多孔質高分子素材の被覆層の有無をモニタするのに硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えたので、常時洗浄部材の被覆層の状態を観測でき、被覆層の有無や破損状態等を観測することができ、洗浄部材の交換時期を速やかに予測できる基板洗浄装置を提供できる。
【００２３】
請求項９に記載の発明によれば、洗浄部材の気孔分布及び／又は硬度が多孔質高分子素材の被覆層の気孔分布及び／又は硬度からコア部の気孔分布及び／又は硬度に変化した場合、交換信号を出力する手段を設けたので、洗浄部材の交換時期を正確に知ることができる基板洗浄装置を提供できる。
【００２４】
請求項１０に記載の発明によれば、基板処理装置の基板洗浄部に請求項７乃至９のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いるので、基板処理部で所定の処理が終了した基板を常に高い清浄度で逆汚染がなく洗浄できる基板処理装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態例を図面に基づいて説明する。図１及び図２は本発明に係る洗浄部材を使用する基板洗浄装置の実施例の概略構成を示す図であり、図１はペン型洗浄部材を使用する基板洗浄装置を、図２はロール型洗浄部材を使用する基板洗浄装置の構成を示す図である。
【００２６】
図１の基板洗浄装置は、図示するように、基板Ｗの外周部を複数本（図では４本）の係合ピン１１で保持し、該保持した基板Ｗを係合ピン１１ごと回転させる基板保持回転機構１０を備えている。この基板洗浄装置において、回転する基板Ｗに洗浄部材保持回転機構１２で保持回転する円板状の洗浄部材１３を当接させ、基板Ｗの表面に洗浄液供給ノズル１４から洗浄液を供給しながら、基板Ｗと洗浄部材１３の相対運動により、基板Ｗの上面を洗浄する。なお、洗浄部材保持回転機構１２は揺動アーム１５に回転自在に支持され、洗浄部材１３は回転しながら、基板Ｗの上面を左右に揺動するようになっている。
【００２７】
また、図２の基板洗浄装置は、複数本（図では６本）のスピンドル２１を備え、該スピンドル２１の上部の回転ローラ２２で基板Ｗの外周部を挟持し、該基板Ｗを回転させる基板保持回転機構２０を備えている。この基板洗浄装置において、回転する基板Ｗの上下面に円筒状の洗浄部材２３を当接し、該洗浄部材２３を洗浄部材回転駆動機構（図示せず）で回転させ、更に基板Ｗの上下面に洗浄液供給ノズル２４（下面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルの図示は省略）から洗浄液を供給しながら、基板Ｗと洗浄部材２３の相対運動により、基板Ｗの上下面を洗浄するものである。
【００２８】
図３乃至図５はそれぞれ上記円板状の洗浄部材（ペン型洗浄部材）１３の構成例を示す図である。図３に示す洗浄部材１３は円板状（又は円柱状）のコア部１３ａを具備し、該コア部１３ａの下端面に多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂを一体的に設けた構成である。なお、図３（ａ）は外観図、図３（ｂ）は断側面図である。図４に示す洗浄部材１３は円板状（又は円柱状）のコア部１３ａを具備し、該コア部１３ａの下端面及び外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂを一体的に設けた構成である。なお、図４（ａ）は外観図、図４（ｂ）は断側面図である。図５に示す洗浄部材１３は略半円球状のコア部１３ａを具備し、該コア部１３ａの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂを一体的に設けた構成である。なお、図５（ａ）は外観図、図５（ｂ）は断側面図である。
【００２９】
図６、図７は上記ロール型の洗浄部材２３の構成例を示す図である。図６に示す洗浄部材２３は円筒状のコア部２３ａを具備し、該コア部２３ａの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂを一体的に設けた構成である。図７に示す洗浄部材２３は円筒状のコア部２３ａを具備し、該コア部２３ａの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−１を設け、その外周面に防水性素材からなる防水層２３ｃを設け、その外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−２を設けた構成である。即ち、図７に示す洗浄部材は、コア部２３ａの外周部に設けた多孔質高分子素材層からなる被覆層２３ｂ−１と被覆層２３ｂ−２の間に防水性素材からなる防水層２３ｃを形成した構成である。防水層２３ｃ及び被覆層２３ｂ−１、２３ｂ−２は一体的に形成されても良い。なお、図６、図７において、２７は貫通するシャフト（回転軸部材）が嵌挿入される貫通孔である。
【００３０】
基板Ｗと洗浄部材１３又は洗浄部材２３との摩擦により、洗浄部材１３又は２３の表面の被覆層１３ｂ又は２３ｂは削れていき洗浄効果が低下するため、被覆層１３ｂ又は２３ｂの表層部が１０μｍ程度磨耗すれば洗浄部材１３又は２３を交換する必要がある。直径３００ｍｍの円筒状洗浄部材２３の場合は、表層１０μｍは該洗浄部材２３の全体積の約０．２％である。洗浄部材１３又は２３の表面層以外の部分は汚染物剥離に直接寄与しない部分である。
【００３１】
一方多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂ又は２３ｂの体積が増すほど汚染物の保持可能力が増加する。柔軟性さえあれば、洗浄部材１３又は洗浄部材２３の全体が吸水性多孔質である必要は必ずしもない。よって、本発明に係る洗浄部材１３又は２３は上記のように、基板Ｗと直接接触する被覆層１３ｂ又は２３ｂには柔軟性の高い吸水性の多孔質高分子素材を用い、コア部１３ａ又は２３ａには防水性弾性素材を用いることで、洗浄部材全体の柔軟性及び汚染物除去能力を保ちつつ、洗浄部材１３又は２３の内部への汚染物進入を遮断して、逆汚染量を減少させるようにしている。被覆層１３ｂ又は２３ｂが薄い方が、汚染物が蓄積する部分が少なくなるが、気孔を十分含むことで柔軟性を持たせ、押付け圧の幅を考慮して、表層部厚さは１０μｍ〜１５ｍｍとする。
【００３２】
コア部１３ａ又は２３ａの素材としては、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、シリコンゴム、フォスファゼン（ＰＨ‘ＯＳＰＨＡＺＥＮＥ）ゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂、軟質プラスチックフォームのいずれかを用いる。これらの素材は防水性を有し且つ弾性を有するから、汚染物はコア部１３ａ又は２３ａに進入することなく、且つ洗浄部材１３又は２３の全体の柔軟性は維持される。
【００３３】
被覆層１３ｂ又は２３ｂの素材としては、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系ポリマー、アクリル酸系ポリマー、その他の附加重合体、アクリルアミド系ポリマー、ポリオキシエチレン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、縮合系ポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンアウルホン酸、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂のいずれかの高分子材を用いる。これらの素材は、柔軟性・吸水性を有する素材であるから、基板Ｗに損傷を与えにくく、且つ高い汚染物の除去能力を有する。
【００３４】
防水性を有し且つ弾性を有する上記素材で構成されたコア部１３ａ又は２３ａの最表面に、上記素材からなる被覆層１３ｂ又は２３ｂを熱溶着、接着剤による接着、圧着、熱圧着、スプレーコーティングのいずれかの方法を用いて設ける。
【００３５】
図７に示すように、洗浄部材２３を防水性を有する素材からなるコア部２３ａの外周面に柔軟性及び高い吸水性を有する多孔質高分子素材の被覆層２３ｂ−１で覆い、該被覆層２３ｂ−１の外周を防水性を有する素材からなる防水層２３ｃで覆い、更に該防水層２３ｃの外周面に多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−２で覆う構成を採用する洗浄部材２３では、防水層２３ｃによりコア部２３ａの外周面を覆う被覆層２３ｂ−１に汚染液や粒子が進入するのを阻止すると共に、コア部２３ａ及び被覆層２３ｂ−１から基板Ｗに接触する被覆層２３ｂ−２への汚染物の流出を防止できる。基板に接触する部分（最表面部）や洗浄部材の取り付け部分（コア部を含めコア部を貫通するシャフト等の洗浄部材２３を固定する固定具との接触部）が従来の洗浄部材と同じ材質の多孔材質でできているので、本発明の洗浄部材が従来の洗浄部材と、洗浄液とのなじみ易さ、機能及び動作の点で実質的に同じであるため、洗浄装置の使用者は、従来の洗浄部材を本発明の洗浄部材に特別の細工を施さずに容易に交換できる。固定具の汚染は防水層２３ｃで遮断するため、基板Ｗには影響しない。
【００３６】
なお、図７では、防水層２３ｃをコア部２３ａの外周部に形成した多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−１と被覆層２３ｂ−２の間に設ける構成としているが、図８に示すようにコア部２３ａと多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂの間に防水層２３ｃを設けても、図７に示す洗浄部材２３と略同じ作用効果が得られる。図７、図８に示すように、防水層２３ｃを設けることにより、洗浄部材２３の両端部に防水対策を施すことにより、コア部２３ａは必ずしも防水材で構成することなく、コア部２３ａの防水性を考慮することなく、コア部２３ａに適した性能の材料を使用すればよく、コア部２３ａに使用される材料の選定範囲が広くなる。
【００３７】
図９は洗浄部材１３又は２３の一部を用いて汚染粒子の進入排出の状態を観念的に示す図である。図において、黒丸１は進入汚染粒子を、白丸２は初期残留汚染粒子を、３は気孔を示す。従来のように洗浄部材全体が吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材でなる場合は、図９（ａ）に示すように、吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる洗浄部材１３又は２３内部に多くの汚染液や進入汚染粒子１が吸収され易く、初期残留汚染粒子２も内部から排出する恐れが多い。図３乃至図５に示すようにコア部１３の外表面を多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂで覆っている場合、図９（ｂ）に示すように、被覆層２３ｂ（図では２３ｂで示す）にのみ汚染液や進入汚染粒子１が取り込まれるため、進入汚染粒子１の量が少ない。また、初期残留汚染粒子２の量も少ないから、その排出も少ない。
【００３８】
図６に示すように、防水性素材からなるコア部２３ａの外周面を吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材の被覆層２３ｂで覆っている場合は、図９（ｂ）に示すように、被覆層２３ｂにのみ汚染液や進入汚染粒子１が取り込まれるため、進入汚染粒子１の量が少ない。また、初期残留汚染粒子２の量も少ないから、その排出も少ない。また、図７に示すように吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂ−１と２３ｂ−２の間に防水層２３ｃが介在している場合は、図９（ｃ）に示すように防水層２３ｃの外周にある被覆層２３ｂ−２にのみ汚染液や進入汚染粒子１が取り込まれるため、進入汚染粒子１の量が少ない。また、初期残留汚染粒子２の量も少ないから、その排出も少ない。
【００３９】
図１０はロール型の洗浄部材の外周面に複数の突起部が形成された構成の洗浄部材の汚染状態を説明するための図で、図１０（ａ）は外周面の突起部２３ｄ及びロール本体２３ｅの洗浄部材２３全体を吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材で構成した場合で、図１０（ｂ）は突起部２３ｄ及びロール本体２３ｅは防水性を有する素材で構成し、突起部２３ｄの外表面及びロール本体２３ｅの外表面に吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる被覆層２６を形成している。上記実施例において、突起部はロール本体の外周に円周方向に隔てて配置されかつそれと一体的に形成されていても良い。また、各突起部はロール本体の長さに亘ってロール本体の軸線に沿って連続的に伸びた構造でも、複数に区切られた構造でもよい。
【００４０】
上記のように構成した洗浄部材２３を上面に洗浄液２５を供給している基板Ｗの上に接触させ矢印ａに示すように回転させた場合、図１０（ａ）のように洗浄部材２３全体を吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材で構成した場合、矢印Ｂに示すように汚染した洗浄液や汚染粒子が突起部２３ｄを通ってロール本体２３ｅに吸収され多くの汚染した洗浄液や汚染粒子が洗浄部材２３内に蓄積される。従って、洗浄部材２３内から排出される汚染液や汚染粒子の数量も多く、基板Ｗが逆汚染される確率が高くなる。これに対して、突起部２３ｄの外表面及びロール本体２３ｅの外表面にのみ吸水性及び柔軟性を有する多孔質高分子素材からなる被覆層２６を形成した場合は、防水性を有する素材からなる突起部２３ｄ内やロール本体２３ｅ内には汚染した洗浄液や汚染粒子が進入することなく、薄い被覆層２６のみに汚染した洗浄液や汚染粒子が蓄積されることになり、その量が極めて少なく、従って排出される汚染液や汚染粒子の数量も極めて少なく、基板Ｗが逆汚染される確率が低くなる。
【００４１】
図３、図４、図５、図６、図７、図８、及び図１０（ｂ）に示すように構成された洗浄部材を基板Ｗの処理面に接触させると共に、処理液を供給し両者の相対的運動により、該処理面を処理するように基板処理装置を構成し、該基板処理装置に洗浄部材１３又は２３の多孔質高分子素材の被覆層に基板Ｗを接触させ摩擦することで汚染物を除去する機構を備えることにより、洗浄部材１３又は２３を常に汚染物が無いか或いは極めて少ない、清浄状態に維持することができる。
【００４２】
また、図１に示す洗浄装置の洗浄部材１３に図３乃至図５に示す構成の洗浄部材を用い、洗浄部材１３の多孔質高分子素材の被覆層１３ｂの有無をモニタするのに超微小硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えることにより、洗浄部材１３の被覆層１３ｂの状態を知ることができ、適正な交換時期に洗浄部材１３を交換することが可能となる。同様に、図２に示す洗浄装置の洗浄部材２３に図６、図７、図８、及び図１０（ｂ）に示す構成の洗浄部材を用い、洗浄部材２３の多孔質高分子素材の被覆層２３ｂ、２６の有無をモニタするのに超微小硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えることにより、洗浄部材２３の被覆層２３ｂ、２６の状態を知ることができ、適正な交換時期に洗浄部材２３を交換することが可能となる。
【００４３】
また、上記のように構成された基板処理装置又は基板洗浄装置において、洗浄部材１３，２３の気孔分布、硬度が多孔質高分子素材の被覆層からコア部に変化した場合、交換信号を出すようにすれば、洗浄部材の適正交換時期を知ることができる。
【００４４】
図１１は図４に示す構成の洗浄部材を洗浄しながら、洗浄部材１３の被覆層１３ｂの状態をモニタする洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。本洗浄部材洗浄機構は図１に示す基板洗浄装置の基板Ｗの外側所定位置（待機位置）に配置されている。洗浄部材洗浄機構３０は、洗浄槽３１を備え、該洗浄槽３１内底部に観察壁３２が配置されている。該観察壁３２は透明な材料（例えば、水晶等）で構成され、その中央部にＣＣＤ３３が配置され、該ＣＣＤ３３の出力信号は画像処理装置３４に取り込まれ画像処理され、画像処理信号は制御装置３５に出力されるようになっている。
【００４５】
また、洗浄槽３１内には洗浄液Ｑ中のパーティクル数及び／又は洗浄液Ｑの成分濃度等を測定する液性状センサ３６が配置され、該液性状センサ３６の出力信号も制御装置３５に出力されるようになっている。制御装置３５は画像処理装置３４からの画像処理信号及び液性状センサ３６の出力信号から例えば洗浄液交換信号Ｓ１や洗浄部材交換信号Ｓ２を作成し、制御盤（図示せず）に出力するようになっている。
【００４６】
洗浄槽３１内には洗浄液供給管３７より洗浄液Ｑが供給されており、該供給液Ｑ中に図１の揺動アーム１５に回転自在に支持され、洗浄部材保持回転機構１２に保持された洗浄部材１３が上方から浸漬され、観察壁３２上面に所定の圧力で押圧され、矢印Ａ方向に回転することにより、洗浄部材１３は洗浄される。この洗浄において、被覆層１３ｂは薄いから吸込まれたパーティクルが効果的に排出される。この洗浄部材１３の洗浄中に超音波発振器３８から超音波が発振され、洗浄液Ｑが励起され、洗浄作用を促進させる。洗浄液Ｑ内のパーティクル数や洗浄液Ｑの成分濃度等は液性状センサ３６で観測され、洗浄液Ｑが交換状態になったら、排液弁３９を開放し、洗浄槽３１内の洗浄液を排出すると共に、排液後洗浄液供給管３７から新たな洗浄液Ｑを供給する。
【００４７】
ＣＣＤ３３は透明な観察壁３２を通して洗浄部材１３の被覆層１３ｂの状態を観測し、その出力信号は上記のように画像処理装置３４に出力され、該画像処理装置３４で画像処理された画像処理信号は制御装置３５に取り込まれる。制御装置３５は画像処理信号から洗浄部材１３の多孔質高分子素材からなる被覆層１３ｂの状態を知ることができ、適正な交換時期に洗浄部材交換信号Ｓ２を制御盤に出力する。これにより、適正な時期に洗浄部材１３の交換をすることができる。例えば被覆層１３ｂが極めて薄くなったり、コア部１３ａの一部が露出した場合に直ちに洗浄部材１３の交換信号Ｓ２を出力する。なお、図示は省略するが、図３及び図５に示す洗浄部材も、図１１に示す構成の洗浄部材洗浄機構を用いての洗浄部材１３の洗浄及び被覆層１３ｂの状態をモニタすることができる。
【００４８】
図１２は図６に示す構成の洗浄部材２３を洗浄しながら、洗浄部材２３の被覆層２３ｂの状態をモニタする洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。本洗浄部材洗浄機構は図２に示す基板洗浄装置の基板Ｗの外側所定位置（待機位置）に配置されている。洗浄部材洗浄機構４０は、洗浄槽４１を備え、該洗浄槽４１内底部に観察壁４２が配置されている。該観察壁４２は透明な材料（例えば、水晶等）で構成され、その中央部にＣＣＤ４３が配置され、該ＣＣＤ４３の出力信号は画像処理装置４４に取り込まれ画像処理され、画像処理信号は制御装置４５に出力されるようになっている。
【００４９】
また、洗浄槽４１内には洗浄液Ｑ中のパーティクル数及び／又は洗浄液Ｑの成分濃度等を測定する液性状センサ４６が配置され、該液性状センサ４６の出力信号も制御装置４５に出力されるようになっている。制御装置４５は画像処理装置４４からの画像処理信号及び液性状センサ４６の出力信号から例えば洗浄液交換信号Ｓ１や洗浄部材交換信号Ｓ２を作成し、洗浄液供給バルブ５０や洗浄部材交換信号発生部５２に出力するようになっている。
【００５０】
洗浄槽４１内には洗浄液供給バルブ５０を開放することにより洗浄液供給管５１より洗浄液Ｑが供給されるようになっており、図示しない排液バルブを開放することにより、洗浄液Ｑを排液できるようになっている。また、洗浄槽４１内には観察壁４２上面にある洗浄部材２３を矢印Ａ、Ａ方向に移動させることにより、洗浄部材２３を所定の圧力で挟持又は解放する洗浄治具４８、４８が配置されている。該洗浄治具４８、４８は洗浄治具駆動装置４７で矢印Ａ、Ａ方向に移動されるようになっている。観察壁４２上面に所定の圧力で押圧され、且つ洗浄治具４８、４８で挟持された洗浄部材２３を矢印Ｂ方向に回転することにより、洗浄部材２３は洗浄される。この洗浄において、被覆層２３ｂは薄いから吸込まれたパーティクルは効率よく吐き出される。この洗浄部材２３の洗浄中に超音波発振器４９から超音波が発振され、洗浄液Ｑが励起され、洗浄作用を促進させる。洗浄液Ｑ内のパーティクル数や洗浄液Ｑの成分濃度等は液性状センサ４６で観測され、洗浄液Ｑが交換状態になったら、図示しない排液弁を開放し、洗浄槽４１内の洗浄液Ｑを排出すると共に、排液後洗浄液供給バルブ５０を開放し、洗浄液供給管５１から新たな洗浄液Ｑを供給する。
【００５１】
ＣＣＤ４３は透明な観察壁４２を通して洗浄部材２３の被覆層２３ｂの状態を観測し、その出力信号は上記のように画像処理装置４４に出力され、該画像処理装置４４で画像処理された画像処理信号は制御装置４５に取り込まれる。制御装置４５は画像処理信号から洗浄部材２３の多孔質高分子素材からなる被覆層２３ｂの状態を知ることがでる。例えば、洗浄部材２３の表面の被覆層２３ｂが極めて薄くなったり、コア部２３ａの一部が露出したら直ちに洗浄部材交換信号Ｓ２を洗浄部材交換信号発生部５２に出力する。なお、図示は省略するが、図７及び図１０（ｂ）に示す洗浄部材も、図１２に示す構成の洗浄部材洗浄機構を用いての洗浄部材２３の洗浄及び被覆層２３ｂの状態をモニタすることができる。
【００５２】
図１３は本発明に係る基板処理装置（めっき装置）の平面構成例を示す図である。本基板処理装置は、例えばスミフボックス等の内部に多数の半導体ウエハ等の基板を収納した搬送ボックス６０を着脱自在にした矩形状の装置フレーム６１を備えている。この装置フレーム６１の内部には、中央部に位置して、第１基板搬送ロボット６２、仮置台６３、及び第２基板搬送ロボット６４が直列に配置されている。
【００５３】
そして両側に位置して、一対の基板洗浄・乾燥ユニット６５、基板洗浄ユニット６６、めっき前処理ユニット６７、めっき前処理及びめっきユニット６８が配置されている。更に、搬送ボックス６０と反対側に位置して、めっき前処理ユニット６７にめっき前処理液を供給するめっき前処理液供給部６９と、めっき前処理及びめっきユニット６８にめっき液を供給するめっき液供給部７０が配置されている。基板洗浄ユニット６６には図１又は図２に示す構成の基板洗浄装置を用いている。
【００５４】
第１搬送ロボット６２により搬送ボックス６０から１枚の基板Ｗを取り出して仮置台６３のドライ用基板保持部に搬送し載置する。該ドライ用基板保持部（図示せず）で保持する基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４でめっき前処理ユニット６７に搬送し、該めっき前処理ユニット６７でめっき前処理を行う。めっき前処理の終了した基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４でめっき前処理及びめっきユニット６８に搬送し、ここでめっき前処理及びめっき処理を行い、めっき処理の終了した基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４で図１又は図２に示す構成を有する基板洗浄ユニット６６に搬送する。
【００５５】
基板洗浄ユニット６６では、基板Ｗの上下面を洗浄し、基板Ｗの表面に付着したパーティクルや不要物を除去する。該パーティクルや不要物が除去された基板Ｗを第２基板搬送ロボット６４で仮置台６３のウエット用基板保持部（図示せず）に搬送し載置する。
【００５６】
第１基板搬送ロボット６２は、仮置台６３のウエット用基板保持部から基板Ｗを取り出し、基板洗浄・乾燥ユニット６５に搬送し、ここで、基板Ｗの表面の化学洗浄及び純水洗争を行って、スピン乾燥させる。このスピン乾燥後の基板Ｗを第１基板搬送ロボット６２で搬送ボックス６０内に戻す。これにより基板Ｗの処理は終了する。
【００５７】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明に係る洗浄部材を用いる基板洗浄装置の概略構成例を示す図である。
【図２】本発明に係る洗浄部材を用いる基板洗浄装置の概略構成例を示す図である。
【図３】本発明に係るペン型の洗浄部材の一実施例の構成例を示す図である。
【図４】本発明に係るペン型の洗浄部材の他の実施例の構成例を示す図である。
【図５】本発明に係るペン型の洗浄部材の更に別の実施例の構成例を示す図である。
【図６】本発明に係るロール型の洗浄部材の他の実施例の構成例を示す図である。
【図７】本発明に係るロール型の洗浄部材の構成例を示す図である。
【図８】本発明に係るロール型の洗浄部材の構成例を示す図である。
【図９】従来の洗浄部材と本発明に係る洗浄部材の汚染及び汚染排出状態を説明するための図である。
【図１０】従来の洗浄部材と本発明に係る洗浄部材の汚染及び汚染排出状態を説明するための図である。
【図１１】本発明に係る基板洗浄装置の洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。
【図１２】本発明に係る基板洗浄装置の洗浄部材洗浄機構の構成例を示す図である。
【図１３】本発明に係る基板処理装置の構成例を示す図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置の洗浄部材であって、
防水性のコア部を具備し、該コア部の表面を多孔質高分子素材で被覆した被覆層を設けたことを特徴とする洗浄部材。
【請求項２】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系ポリマー、アクリル酸系ポリマー、その他の附加重合体、アクリルアミド系ポリマー、ポリオキシエチレン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、縮合系ポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンアウルホン酸、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂のいずれかの高分子材で形成されることを特徴とする洗浄部材。
【請求項３】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材の被覆層の厚さは５μｍ以上１５ｍｍ以下であることを特徴とする洗浄部材。
【請求項４】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記コア部が、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、シリコンゴム、フォスファゼンゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂のいずれかの防水素材で構成されていることを特徴とする洗浄部材。
【請求項５】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材の被覆層の湿潤時の硬度が１００以下であることを特徴とする洗浄部材。
【請求項６】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材の被覆層との間又は該被覆層と前記コア部の間に防水性素材からなる防水層を形成したことを特徴とする洗浄部材。
【請求項７】
基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置において、
前記洗浄部材に請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄部材を用いたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板洗浄装置において、
前記洗浄部材の前記多孔質高分子素材の被覆層の有無をモニタするのに硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板洗浄装置において、
前記洗浄部材の気孔分布、硬度が前記多孔質高分子素材の被覆層から前記コア部の状態に変化した場合、交換信号を出力する手段を設けたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１０】
基板に所定の処理を施す基板処理部と、該基板処理部で所定の処理が終了した基板を洗浄する基板洗浄部を備えた基板処理装置において、
前記基板洗浄部に請求項７乃至９のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１】
基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置の洗浄部材であって、
防水性のコア部を具備し、該コア部の表面を多孔質高分子素材で被覆した被覆層を設けたことを特徴とする洗浄部材。
【請求項２】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系ポリマー、アクリル酸系ポリマー、その他の附加重合体、アクリルアミド系ポリマー、ポリオキシエチレン系ポリマー、ポリエーテル系ポリマー、縮合系ポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリスチレンアウルホン酸、ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂のいずれかの高分子材で形成されることを特徴とする洗浄部材。
【請求項３】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材の被覆層の厚さは５μｍ以上１５ｍｍ以下であることを特徴とする洗浄部材。
【請求項４】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記コア部が、軟質プラスチックフォーム、フッ素ゴム、シリコンゴム、フォスファゼンゴム、ウレタン系ゴムを含む軟質ゴム及びエポキシ樹脂のいずれかの防水素材で構成されていることを特徴とする洗浄部材。
【請求項５】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材の被覆層の湿潤時の硬度が１００以下であることを特徴とする洗浄部材。
【請求項６】
請求項１に記載の洗浄部材において、
前記多孔質高分子素材の被覆層との間又は該被覆層と前記コア部の間に防水性素材からなる防水層を形成したことを特徴とする洗浄部材。
【請求項７】
基板の洗浄面に洗浄部材を接触させると共に洗浄液を供給し両者の相対的運動により、該洗浄面を洗浄する基板洗浄装置において、
前記洗浄部材に請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄部材を用いたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板洗浄装置において、
前記洗浄部材の前記多孔質高分子素材の被覆層の有無をモニタするのに硬度計又は薄膜硬度計又はＣＣＤを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項９】
請求項８に記載の基板洗浄装置において、
前記洗浄部材の気孔分布、硬度が前記多孔質高分子素材の被覆層から前記コア部の状態に変化した場合、交換信号を出力する手段を設けたことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１０】
基板に所定の処理を施す基板処理部と、該基板処理部で所定の処理が終了した基板を洗浄する基板洗浄部を備えた基板処理装置において、
前記基板洗浄部に請求項７乃至９のいずれか１項に記載の基板洗浄装置を用いることを特徴とする基板処理装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公表番号】特表２００８−５４１４１３（Ｐ２００８−５４１４１３Ａ）
【公表日】平成２０年１１月２０日（２００８．１１．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−５５２４５１（Ｐ２００７−５５２４５１）
【出願日】平成１８年９月７日（２００６．９．７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００６／３１８２１２
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０３２４１４
【国際公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【出願人】（００００００２３９）株式会社荏原製作所 (1,477)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２０年１１月２０日（２００８．１１．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年９月７日（２００６．９．７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００６／３１８２１２
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０３２４１４
【国際公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【出願人】（００００００２３９）株式会社荏原製作所 (1,477)
【Ｆターム（参考）】
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