【課題】安定剤としてハイドロタルサイトおよび有機酸亜鉛塩を用いた塩化ビニル系樹脂組成物の着色性、耐熱性、電気絶縁性を改善することによって、電線被被覆材料として好適な電線被覆用塩化ビニル系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】塩化ビニル系樹脂１００質量部に、（ａ）ハイドロタルサイト化合物０．００１〜１０質量部、（ｂ）有機酸亜鉛塩０．００１〜１０質量部及び（ｃ）テレフタル酸ジアルキルエステル化合物５〜１００質量部を含有することを特徴とする電線被覆用塩化ビニル系樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】透明性、接着性、耐久性に優れ、屈折率の調整が容易であり、しかも製造法が簡便な粘着剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される重合性化合物を含有する粘着剤組成物。
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【課題】チョコレートと、ナッツ類、焼菓子等の食品素材とを複合した複合チョコレートにおいて、チョコレート部分に発生する低温ファットブルームを、チョコレート部分の物性を変えることなく、ごく少量の添加量で防止することができるブルーム防止剤を提供すること。
【解決手段】下記の（１）並びに（２）及び／又は（３）を満たす３飽和トリグリセリドを有効成分とすることを特徴とする低温ブルーム防止剤。
（１）構成脂肪酸組成における炭素数２０の飽和脂肪酸含量≧５質量％
（２）構成脂肪酸組成における炭素数２０の飽和脂肪酸含量（質量％）／構成脂肪酸組成における炭素数２２以上の飽和脂肪酸含量（質量％）≧０．３
（３）構成脂肪酸組成における炭素数２２以上の飽和脂肪酸含量≦４０質量％ （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィにより微細なパターン形成でき、２００℃を超える熱処理を行なわずに絶縁膜が形成でき、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁膜として使用した場合にキャリヤーがトラップされて電荷移動度が低下するという問題のない感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）〜（４）で表わされるユニットを有するポリシロキサン化合物及び光ラジカル発生剤を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】光電変換素子の形成に好適な剥離耐性を有する新規な化合物である縮合多環芳香族炭化水素化合物、及び該化合物を用いた光電変換素子の提供。
【解決手段】式(I)で表わされる縮合多環芳香族炭化水素化合物。


（式中、環Ａは芳香族六員環を３〜８個有する縮合多環芳香族炭化水素基であり、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はアンカー基を表し、Ｒ3は、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又はアンカー基などを表す。） （もっと読む）

【課題】セメント組成物の流動性を損なわずに収縮を低減させることのできるセメント用粉末収縮低減剤及び該収縮低減剤を含有するセメント組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）成分としての吸油量８０ｇ〜１６０ｇ／１００ｇの無機粉体に（ｂ）成分としての下記一般式（１）で表される化合物を含浸させたことを特徴とするセメント用粉末収縮低減剤、及び該収縮低減剤を含有するセメント組成物である。
ＲＯ−（ＡＯ）_ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒは、炭素数１〜８の炭化水素基を表し、ＡＯは、炭素数２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは、１〜１００の数を表す。） （もっと読む）

【課題】印刷法やフォトリソグラフィにより微細なパターン形成が可能な材料を用いて、ゲート絶縁膜を有する有機薄膜トランジスタを提供すること。
【解決手段】基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁膜、有機半導体膜、ソース電極、及びドレイン電極を備える有機薄膜トランジスタにおいて、当該ゲート絶縁膜として、ラジカル重合性基を有するポリシロキサン化合物と光ラジカル発生剤とを含有する光硬化性組成物から得られたゲート絶縁膜を用いる。該有機薄膜トランジスタは、前記ゲート電極が形成された前記基板に、ラジカル重合性基を有するポリシロキサン化合物と光ラジカル発生剤とを含有する光硬化性組成物を印刷法により塗布する工程及び当該光硬化性組成物からなる層に活性エネルギー線を照射し硬化させて前記ゲート絶縁膜を形成する工程等により製造される。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂に添加しても樹脂の透明性を下げることも、樹脂を着色することなく、ポリカーボネート樹脂の加工温度にも耐えられる耐熱性を有する上、帯電防止効果の持続性にも優れたポリカーボネート樹脂用帯電防止剤及び該帯電防止剤を添加したポリカーボネート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂用帯電防止剤は一般式Ｒ^１Ｃ（Ｏ）ＸＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３⁻Ｍ・・・（１）で表される化合物からなる；但し、式（１）中のＲ^１は炭素原子数１〜３０のアルキル基、Ｘは酸素原子又は−Ｎ(ＣＨ_３)−基であり、Ｍは、アルカリ金属イオン、アンモニウムイオン又は一般式Ｐ^＋（Ｒ^２）（Ｒ^３）（Ｒ^４）（Ｒ^５）・・・（２）で表されるホスホニウムイオンであり、式（２）中のＲ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は各々独立に炭素数１〜１８のアルキル基である。 （もっと読む）

【課題】不純物の含有量をできる限り低減した有機スルホン酸銅（ＩＩ）の製造方法を提供する。
【解決手段】銅、有機スルホン酸、水及び酸素を反応させることを特徴とする有機スルホン酸銅（ＩＩ）の製造方法。
【効果】効率がよく、不純物の低減が可能な有機スルホン酸銅（ＩＩ）の製造方法が可能となり、電解銅めっきの電解質として所望されている不純物金属をｐｐｂレベルにまで低減させた有機スルホン酸銅（ＩＩ）、更には、水溶液の形態の有機スルホン酸銅（ＩＩ）を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、従来知られている摩耗防止剤と比較して、摩耗防止効果の高い潤滑油、並びに当該潤滑油添加剤を配合した潤滑油組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明の潤滑油添加剤は、下記の一般式（１）で表される化合物であって、一般式（１）におけるｎの平均（平均重合度）が１．１〜２．０である化合物（Ｘ）を必須成分として含有することを特徴とする：
【化１】


（式中、Ａは、炭素原子数２〜２０の炭化水素基を表し、ｎは１〜１０の数を表す。） （もっと読む）