【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】ネガ現像において得られる親水性有機化合物で形成されるレジストパターンに適用できるだけでなく、従来のポジ現像で得られる疎水性化合物からなるレジストパターンにも適用できるレジスト下層膜形成用組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：下記繰り返し単位を有するフェノール性水酸基発生可能な重合体、該重合体の加水分解物、及び前記重合体の加水分解縮合物のうち少なくとも一つ以上、及び


（Ｂ）成分：特定の加水分解性ケイ素化合物を含有する混合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物を含むものであることを特徴とするケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】エレクトロスピニング法により極細径、例えば直径が０．３μｍ〜５μｍのガラスフィラメントからなる不織布、特に、低誘電率、低損失な高周波回路基板を形成するための極肉薄、例えば厚さが５０μｍ〜１ｍｍのガラス不織布の製造装置及び方法並びにガラス不織布を提供する。
【解決手段】長尺状ガラス素材１２を供給するガラス素材供給手段１４と、供給されてきた該長尺状ガラス素材を所定速度で搬送する搬送手段１６と、搬送されてきた該長尺状ガラス素材を送り出す作用を行うとともに導電性材料から形成されかつ電極となるガイド電極手段と、送り出されてきた該長尺状ガラス素材を溶融軟化させる加熱手段と、該ガイド電極手段から所定間隔を介して対向して設置された導電性材料からなるターゲット部材と、該ガイド電極手段と該ターゲット部材との間に直流電圧を印加する直流電源手段２４とを有するようにした。 （もっと読む）

【課題】シリコーンエラストマー微粒子のゴム硬度が低くても、また粒径が小さくても、凝集性が低く、分散性に優れた、シリコーン微粒子及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】体積平均粒径が０．１〜１００μｍのシリコーンエラストマー球状微粒子１００質量部と、その表面を被覆するポリオルガノシルセスキオキサン０．５〜２５質量部とを有してなり、前記ポリオルガノシルセスキオキサンは粒状で大きさが６０ｎｍ以下であることを特徴とするシリコーン微粒子。 （もっと読む）

【課題】極細径のガラス長繊維を製造する製造装置及び方法並びに極細径のガラス繊維、特に、低誘電率、低損失な高周波回路基板を形成するために用いられる極細径の石英ガラス長繊維を提供する。
【解決手段】長尺状ガラス素材を供給するガラス素材供給手段と、供給されてきた該長尺状ガラス素材を所定速度で搬送する搬送手段と、搬送されてきたガラス素材を送り出す作用を行うとともに導電性材料から形成されかつ電極となるガイド電極手段と、送り出されてきた該長尺状ガラス素材を溶融軟化させる加熱手段と、該ガイド電極手段から所定間隔を介して対向して設置された導電性材料からなる回転ボビン手段と、該ガイド電極手段と該回転ボビン手段との間に直流電圧を印加する直流電源手段とを有する、エレクトロスピニング法の装置、該装置を用いる方法、該装置により得られる長繊維、とする。 （もっと読む）

【課題】高解像性と共に、良好なパターン形状を与えることができるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を使用した、保護膜を形成して行う液浸リソグラフィーにおけるパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基として、３級炭素にアダマンチルを含むメタアクリル系繰り返し単位及び３級炭素が環状構造を形成してるメタアクリル系繰り返し単位を有し、酸によってアルカリ溶解性が向上する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）下記一般式(３)で表される化合物、及び（Ｄ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】金属、特に金属被覆鋼材用として最適であり、クロムを含まず、塗料などのコーティングの前処理として、優れた加工性、密着性、耐食性を付与することができるノンクロメート金属表面処理剤、該処理剤により表面処理された表面処理鋼材及びその表面処理方法、並びにその上に上層被膜を有する塗装鋼材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】配位性官能基を含有するシランカップリング剤必須成分とし、これを水及び／又は有機溶媒に溶解してなることを特徴とする金属表面処理剤。 （もっと読む）

【課題】高温に暴露されても硬さ、引張り強さ、切断時伸び等の物理的特性の変化の少ない耐熱性に優れたシリコーンゴムとなるシリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも２個有する重合度が１００以上のオルガノポリシロキサン １００質量部、
（Ｂ）ＢＥＴ法による比表面積が５０ｍ^２／ｇ以上である補強性シリカ
１０〜１００質量部、
（Ｃ）ジルコニア−セリア固溶体 ０．０１〜１０質量部、
（Ｄ）硬化剤 有効量
を含有する耐熱性に優れたシリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）３，３，３−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルプロピオン酸スルホニウム塩、（Ｂ）式（１−２）で示される酸発生剤、


（式中、Ｒ⁴はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表す。Ｒ⁵は水素原子又はトリフルオロメチル基を表す。Ａｒ’はヘテロ原子を含んでもよい非置換又は置換の炭素数６〜２０のアリール基を示す。）（Ｃ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ現像液不溶又は難溶の樹脂であって、該酸不安定基が脱保護されたときにアルカリ現像液可溶となるベース樹脂、（Ｄ）有機溶剤を必須成分として含有するＡｒＦ液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。
【効果】疎水性が高く、液浸水への溶出が低く、酸拡散を制御できるため、高解像性のパターンプロファイルを構築できる。 （もっと読む）

【課題】容易に、しかも再現よくアミノ官能性ポリシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】加水分解・縮合触媒として塩基性イオン交換樹脂を用いて、下記一般式（１）
ＹＳｉ（ＯＲ¹）₃ ・・・（１）
（式中、Ｙはアミノ基含有１価炭化水素基、Ｒ¹は炭素数１〜４のアルキル基である。）
で表わされるケイ素化合物、又は該ケイ素化合物と下記一般式（２）
Ｙ_nＲ²_mＳｉ（ＯＲ¹）_4-n-m ・・・（２）
（式中、Ｙ及びＲ¹は上記と同じ、Ｒ²は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜８のアリール基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基より選択される基であり、ｎは０又は１、ｍは０、１又は２であり、ｎ＋ｍは０、１又は２である。ただし、ｎが１の場合にはｍは１である。）
で表わされるケイ素化合物を加水分解、縮合することを特徴とするアミノ官能性ポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）