【課題】展開時のインフレーターガスの洩れが抑制され、膨脹時間持続性に優れるカーテンエアーバッグの製造に適する液状シリコーンゴムコーティング剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｓｉ原子結合アルケニル基を２個以上含有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）ＳｉＨ基を２個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｃ）付加反応触媒、（Ｄ）比表面積５０ｍ²／ｇ以上の微粉末シリカ、（Ｅ）エポキシ基とＳｉ原子結合アルコキシ基とを有する有機ケイ素化合物、及び（Ｆ）オキシジルコニウム化合物を各々所定量含有してなる液状シリコーンゴムコーティング剤組成物。 （もっと読む）

【課題】微細なフォトマスクパターンを高精度で形成することが可能なフォトマスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】遮光層１２とクロム系化合物の反射防止層１３とが順次積層されたフォトマスク基板１１の反射防止層１３上にレジスト膜１７を形成する。レジスト膜１７はアスペクト比が大きくならないように比較的薄膜であることが必要であり３５０ｎｍ以下であることが好ましく、一般的なレジスト材料からなる場合には７５ｎｍ以上であることが好ましい。レジスト膜１７を加工してレジストパターンを得た後、酸素含有塩素系ドライエッチング（（Ｃｌ＋Ｏ）系）でクロム系化合物の反射防止層１３のパターニングを行ない、続いて、酸素含有塩素系ドライエッチング（（Ｃｌ＋Ｏ）系）に対して実質的なエッチングが生じない程度のエッチング耐性を示す遮光層１２を酸素非含有塩素系ドライエッチング（Ｃｌ系）してパターニングする。 （もっと読む）

【課題】硬化物から低分子シロキサン成分の揮発量が少なく、揮発した低分子シロキサンが周囲に付着することによるくもりや濁りの発生、接点障害の原因、接着阻害、表面の疎水化などの問題がない硬化物が得られる付加硬化型シリコーンゴム組成物、及びその硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一分子中に少なくとも２個の珪素原子と結合するアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン：１００質量部、
（Ｂ）ＳｉＨ官能基を一分子中に少なくとも２個含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン：０．３〜２０質量部、
（Ｃ）付加反応触媒：触媒量
を含有してなり、かつ、重合度が１０以下でＳｉＨ官能基を一分子中に１個以上含有するオルガノポリシロキサンの含有量が（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）の合計量に対し０．５質量％以下である付加硬化型シリコーンゴム組成物、及びこの組成物を硬化させてなるシリコーンゴム硬化物。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜材料であって、エッチング速度が速く、このためレジスト下層膜として用いると、エッチング中のレジストパターンの膜減りが少なく、パターンの変形も小さく抑えることが出来る。また、架橋密度が高いために熱架橋後に緻密な膜を形成でき、そのために上層レジスト膜とのミキシングを防止でき、現像後のレジストパターンが良好である反射防止膜材料を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する重合体を含むことを特徴とする反射防止膜材料。
【化５３】
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【課題】
本発明は、電子材料等に使用される、粒径の安定性に優れた有機基で修飾されたゼオライト微粒子の製造法、該製造方法により得られる有機基で修飾されたゼオライト微粒子、またそれを用いた半導体絶縁膜等に使用されるゼオライト含有膜を提供する。
【解決手段】
有機基で修飾されたゼオライトの合成において、構造規定剤を用いて粒子形が８０ｎｍ以下のゼオライト結晶を形成させて該ゼオライト種結晶の生成液を得る第１工程と、第１工程で得られた生成液に、有機基含有加水分解性シラン化合物を添加する第２工程と、第１工程より高い温度で熟成反応を行う第３工程とを含んでなる有機基で修飾されたゼオライト微粒子分散液の製造方法、及び該方法によって得られるゼオライト微粒子分散液を提供する。また、該ゼオライト微粒子を含有する膜形成用組成物、該組成物を基板上に塗布し燒結工程を経て得た多孔性ケイ素含有膜、該多孔性ケイ素含有膜を有する半導体装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、上記の事情に鑑み、ペリクルをマスクに貼着しても、マスクの平坦度が損なわれないようなペリクルを提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明のペリクルは、そのペリクルフレームのマスクに張り付く側の平坦度が３０μｍ以下であり、かつそのペリクルフレームのペリクル膜側の平坦度が１５μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】（１）アルコキシ基を配位子に有するチタン化合物と、（２）１分子あたり少なくとも１つの珪素原子に結合した水素原子を有する有機珪素化合物との反応生成物からなるヒドロシリル化反応制御剤。
【効果】本発明のヒドロシリル化制御剤は、酸素及び水蒸気（湿分乃至水分）の欠如下でヒドロシリル化触媒の触媒機能を確実に抑制することができ、これを用いたヒドロシリル化反応硬化性組成物は、酸素及び／又は水蒸気下で室温でも容易に硬化することができるものである。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ドライゲルコンバージョン法によって、膜中のゼオライト成分を増加させた、表面物性が制御可能で、かつ平滑性の高い膜が得られるゼオライト含有膜の製造方法を提供する。
【解決手段】
非晶状態の酸化ケイ素部分を有する材料とゼオライト様繰り返し部分を有する材料とから、非晶状態の酸化ケイ素部分とゼオライト様繰り返し部分とを含有する前駆体膜を形成させる工程と、ゼオライト様繰り返し部分を成長させるために、該前駆体膜を水蒸気存在下に加熱処理して、ドライゲルコンバージョン法を適用する工程とを含んでなるゼオライト含有膜の製造方法であって、該非晶状態の酸化ケイ素部分を有する材料、及び／又は該ゼオライト様繰り返し部分を有する材料が、少なくとも一つの炭素原子を含有する有機基の炭素原子と結合したケイ素原子を含んでなるゼオライト含有膜の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】定着ロール及び定着ベルト用として、耐熱性に優れるシリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）珪素原子結合アルケニル基を２個以上有するオルガノポリシロキサン、（Ｃ）珪素原子結合水素原子を２個以上含有し、更に珪素原子結合アルコキシ基及び／又はアリーロキシ基を２個以上含有し、２５℃での粘度が１，０００ｍＰａ・ｓ以下の液状オルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｄ）無機質充填剤、（Ｅ）付加反応触媒、必要により（Ｂ）珪素原子結合水素原子を２個以上含有し、その他の官能基を有しない２５℃での粘度が１，０００ｍＰａ・ｓ以下のオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含有してなり、かつ（Ｂ），（Ｃ）中のＳｉＨ基／（Ａ）中の珪素原子結合アルケニル基＝０．２〜２．０で、（Ｃ）ＳｉＨ基に対する（Ｂ）ＳｉＨ基のモル比が（Ｂ）／（Ｃ）＜１である定着ロール又はベルト用シリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示すレジスト材料用高分子化合物及び該高分子化合物をベース樹脂とする超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物。


（式中、Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、又は炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基であり、Ｘはメチレン基、酸素原子又は硫黄原子である。Ｒ²は水素原子又は酸不安定基を示す。ｍは１〜３の整数、ｎは１又は２であり、ｍ＋ｎ＝４、ａ＝１である。） （もっと読む）