【課題】保存安定性に優れ、液晶表示素子を長時間使用でも高品位な表示を持続可能な液晶配向剤を提供する。
【解決手段】液晶配向剤は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸および該ポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種の重合体を含有する液晶配向剤であって、前記テトラカルボン酸二無水物が、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物を含み、このビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物に異性体の存在割合が７０モル％以上である。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、優れた顔料分散性能を有する新規共重合体を提供すること、特に、カラーフィルタにおいて、緑色画素の高輝度化及び高コントラスト化を達成することができる顔料分散剤として使用できる新規共重合体を提供することである。
【解決手段】本発明の新規共重合体は、３級アミノ基を有する繰り返し単位を含むブロック鎖（Ａ）と、下記式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキル基を表し、Ｑは、置換基としてアルキル基を有していてもよい含酸素飽和ヘテロ環基、又は、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基を表し、ｎは、０〜６のいずれかの整数を表す。）で表される繰り返し単位を含むブロック鎖（Ｂ）を含有し、アミン価が８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、密集コンタクトホールパターン形成において、ホールブリッジの発生を抑制することができるブリッジ耐性に優れ、さらに解像性を十分満足するフォトレジスト組成物を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］単環のラクトン基を含む構造単位（Ｉ−１）及び酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有する重合体、［Ｂ］多環のラクトン基を含む構造単位（Ｉ−２）及び酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有する重合体、並びに［Ｃ］感放射線性酸発生体を含有するフォトレジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】色度特性及び耐熱性に優れる着色層を形成することができ、かつ、分散性及び保存安定性が良好なカラーフィルタ用着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）；（Ａ）顔料を含む着色剤、（Ｂ）下記式（１）で表される繰り返し単位と、架橋性官能基を有する繰り返し単位を含み、アミン価が８０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇである共重合体、及び（Ｃ）架橋剤を含有することを特徴とするカラーフィルタ用着色組成物。


〔式（１）において、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を示し、Ｚは、−ＮＲ²Ｒ³（但し、Ｒ²及びＲ³は、相互に独立に、水素原子又は置換若しくは非置換の炭化水素基を示す。）又は置換若しくは非置換の含窒素複素環基を示し、Ｘ¹は、２価の連結基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジスト膜に対する高い屈折率と高い吸光係数とを有し、耐パターン倒れ性に優れるレジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される化合物に由来する構造単位（Ｉ）と、ラクトン構造を有する構造単位及び環状カーボネート構造を有する構造単位からなる群より選択される少なくとも１種の構造単位（ＩＩ）とを含む重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。式（１）中、Ｒ^１は、水素原子又は炭素数１〜２０の１価の有機基である。ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立して、０〜２の整数である。
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【課題】部分的に形成した接着層と剥離層とを有する仮固定材を介して仮固定する方法において、基材と支持体とを貼り合わせる際、基材や支持体と仮固定材との間で浮きなく、仮固定材を形成できる基材の処理方法を提供する。
【解決手段】（１）重合体（Ａ）、および前記重合体（Ａ）と実質的に非混和性の化合物（Ｂ）を含有する仮固定用組成物により、基材上に、接着層および剥離層をこの順に形成する工程；（２）前記剥離層の一部を除き、接着層を介して、前記基材と支持体を仮固定する工程；（４）前記接着層の一部を除き、基材上に、接着層の残部、剥離層の残部および支持体をこの順に形成する工程；ならびに（５）支持体から加工後の基材を剥離する工程；をこの順で有する基材の仮固定方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、レジスト下層膜に求められる屈折率及び減衰係数についての特性を満たすと共に、形成されるレジスト下層膜パターンの高い曲がり耐性を維持しつつ、高い耐熱性を有するレジスト下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、並びにパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、［Ａ］下記式（１）で表される構造単位（Ｉ）を有する重合体を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。下記式（１）中、Ａｒ¹及びＡｒ^２は、それぞれ独立して、下記式（２）で表される２価の基である。下記式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立して、２価の芳香族基である。Ｒ^３は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−又は−ＳＯ_２−である。ａは、０〜３の整数である。但し、ａが２以上の場合、複数のＲ^２及びＲ^３は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
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【課題】 活性放射線、例えば、ｇ線、ｉ線等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーもしくはＦ２エキシマレーザー、ＥＵＶに代表される遠紫外線、もしくは電子線などに感応する化学増幅型レジストとして、解像度、環境耐性に加え、保存安定性に優れる感放射性組成物を提供すること。
【解決手段】 少なくとも１個の水素原子が窒素原子に結合した構造を持つ化合物の上記窒素原子に結合した水素原子の１個以上を、特定の基で保護した化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】高品質なカラーフィルタを高い生産効率で製造することを可能とする着色組成物を提供すること。より具体的には、カラーフィルタを製造する際の現像工程や加熱工程で生ずる様々な問題（画素パターンの濁り、水ムラ、輝度の低下、異物の発生）を解決する着色組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）特定のオキシム系光重合開始剤、（Ｄ）２個以上の重合性不飽和結合を有する化合物及び（Ｅ）多官能チオールを含有することを特徴とする着色組成物。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＥＦ、ＤＯＦ及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する（メタ）アクリレート単位（Ｉ）、単環の脂環式基を有する酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）及びラクトン基を含む構造単位（ＩＩＩ）を有する重合体、並びに［Ｂ］感放射線性酸発生体、を含有するフォトレジスト組成物。 （もっと読む）