【課題】場所によって昇温性能が偏ることのないセラミックヒータを得る。
【解決手段】ハニカム状の抵抗体セラミック４の電極平面の全域に金属膜８ａ，８ｂを形成し、金属膜８ａ，８ｂの全域にプレート状の発泡金属１０，１２を被せて拡散接合する。発泡金属１０，１２に接合面積が発泡金属１０，１２のみかけ面積よりも小さい電極１４，１６を拡散接合した。発泡金属１０，１２の表面のほぼ中央に電極１４，１６を発泡金属１０，１２から略垂直方向に立設して接合した。抵抗体セラミック４は六面体状で、互いに反対側の表面を電極平面として金属膜８ａ，８ｂを形成して発泡金属１０，１２を接合し、各発泡金属１０，１２にそれぞれ電極１４，１６を接合した。 （もっと読む）

【課題】貫通孔が形成された切削インサートをホルダのインサート取付座に安定的に固定することが可能な切削インサートのクランプ機構、ホルダ、切削インサート、及び切削工具を提供する。
【解決手段】貫通孔３３が形成された切削インサート３を、固定部材１１によってホルダのインサート取付座４２に装着するために、固定部材１１は、インサート取付座４２から突出してインサート取付座４２に着座した切削インサート３の貫通孔３３を貫通する軸部１３と、この軸部１３の先端側に設けられるとともにインサート取付座４２側に移動可能とされて軸部１３の軸線Ｌ１３回りの一部から軸線Ｌ１３に直交する方向に張り出すように形成された頭部１４とを備えていて、この頭部１４が、切削インサート３の軸線Ｌ１３方向先端側における貫通孔３３の開口部に形成された拡径部３３ｂと係合して切削インサート３がクランプされる。 （もっと読む）

【課題】（１１０）面に優先的に結晶配向が制御された強誘電体薄膜をシード層やバッファ層を設けることなく、簡便に得ることが可能な、強誘電体薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】結晶面が（１１１）軸方向に配向した下部電極を有する基板の下部電極上に、強誘電体薄膜形成用組成物を塗布し、加熱して結晶化させることにより下部電極上に強誘電体薄膜を製造する方法の改良であり、強誘電体薄膜が（１１０）面に優先的に結晶配向が制御された配向制御層により構成され、配向制御層を結晶化後の層厚を５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内にすることにより形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＡｌまたはＡｌ合金のアノードとの低いコンタクト抵抗が得られると共に短波長領域の良好な透過率が得られる有機ＥＬ用透明導電膜およびこの透明導電膜を用いた有機ＥＬ素子を提供すること。
【解決手段】 有機ＥＬ素子１０の電界発光層２とＡｌまたはＡｌ合金の金属膜３との間に形成される有機ＥＬ用透明導電膜１であって、金属成分元素の含有割合が、原子比で、Ａｌ：０．７〜７％、Ｍｇ：１０〜２５％、残部ＺｎであるＡｌ−Ｍｇ−Ｚｎ系酸化物からなる。 （もっと読む）

【課題】工具本体のインサート取付座に対する切削インサートの位置精度を確保でき、該切削インサートの装着が容易でクランプ剛性をも確保でき、かつ、切れ刃の切れ味を高めることができる切削インサートを提供すること。
【解決手段】菱形板状のインサート本体２と、インサート本体２の厚さ方向を向くすくい面３と、インサート本体２の周壁のうちすくい面３の鋭角な角部４に対応するように形成され、該すくい面３に交差する逃げ面５と、インサート本体２のすくい面３と逃げ面５との交差稜線をなす切れ刃６と、インサート本体２を貫通して形成された取付孔７と、を備え、すくい面３の鋭角な角部４の頂角は、２０°〜３５°であり、インサート本体２の周壁のうち逃げ面５以外の部位には、焼結肌からなるインサート拘束面１９が、すくい面３に達するように形成され、逃げ面５は、切れ刃６に隣接する研磨面を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の電磁波遮蔽用組成物を用いて形成された電磁波遮蔽物、並びに該遮蔽物が形成された電磁波遮蔽性構造体は、長年使用しても高導電率を維持することができ、経年安定性に優れる。
【解決手段】本発明の電磁波遮蔽用組成物は、金属ナノ粒子が分散媒に分散した組成物であって、金属ナノ粒子が７５質量％以上の銀ナノ粒子を含有し、金属ナノ粒子は炭素骨格が炭素数３の有機分子主鎖の保護剤で化学修飾され、金属ナノ粒子が一次粒径５０〜２００ｎｍの範囲内の金属ナノ粒子を数平均で７０％以上含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】（１００）面に優先的に結晶配向が制御された強誘電体薄膜をシード層やバッファ層を設けることなく、簡便に得ることが可能な、強誘電体薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】結晶面が（１１１）軸方向に配向した下部電極を有する基板の下部電極上に、強誘電体薄膜形成用組成物を塗布し、加熱して結晶化させることにより下部電極上に強誘電体薄膜を製造する方法の改良であり、強誘電体薄膜が（１００）面に優先的に結晶配向が制御された配向制御層により構成され、配向制御層を結晶化後の層厚を３５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内にすることにより形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｔｉ合金、ステンレス鋼等の難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、硬質被覆層が、（ａ）０．０１〜１μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ａｌ_ａTｉ_１−ａ）N（ａはＡｌの含有割合を示し、原子比で０．４≦ａ≦０．７５）を満足するＡｌとＴｉの複合窒化物からなるＡ層、（ｂ）０．０１〜１μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ａｌ_ｂCｒ_１−ｂ）N（ｂはＡｌの含有割合を示し、原子比で０．４≦ｂ≦０．７５）を満足するＡｌとＣｒの複合窒化物からなるＢ層、（ｃ）０．０１〜１μｍの平均層厚を有する窒化クロムからなるＣ層、前記Ａ層、Ｂ層、Ｃ層からなる単位被覆ユニットを２回以上積層した全体膜厚０．５〜６μｍを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アンテナ間の相互結合の低減と各アンテナの高性能化との両立を図ることができ、小型化，薄型化及び低コスト化を図ることができるアンテナ装置を提供すること。
【解決手段】四角形状とされた基板本体２と、該基板本体に金属箔でパターン形成されたグランドパターンＧＮＤと、基端がグランドパターンに接続されていると共に先端側が開放端として延在して基板本体に金属で設けられ、別々の給電点ＦＰが設けられた第１及び第２アンテナエレメント３Ａ，３Ｂとを備え、これらアンテナエレメントが、基板本体の互いに対向する両辺部側に互いに離間して設けられていると共に開放端が両辺部に沿った方向の互いに逆向きに配され、グランドパターンが、第１及び第２アンテナエレメントの間に形成された主グランド部Ｇ１と、少なくとも一方のアンテナエレメントの開放端と逆方向の角部に形成された角部グランド部Ｇ２とを有している。 （もっと読む）

【課題】 規則化温度の低い膜を成膜することができると共にパーティクルの発生が抑制可能な磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットが、一般式：｛（Ｆｅ_ｘＰｔ_{１００−ｘ}）_{（１００−ｙ）}Ａ_ｙ｝_{（１００−ｚ）}Ｃ_ｚ、ここでＡがＳｂおよびＳｎの少なくとも一方からなる金属であり、原子比により３０≦ｘ≦８０、１≦ｙ≦２０、３≦ｚ≦６５で表される組成を有した焼結体からなる。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、ＳｂＰｔ合金粉およびＳｎＰｔ合金粉の少なくとも一方と、ＦｅＰｔ合金粉と、Ｐｔ粉と、グラファイト粉またはカーボンブラック粉と、の混合粉末を、真空または不活性ガス雰囲気中でホットプレスする工程を有している。 （もっと読む）