【課題】 高速でＳｎターゲットをプラズマ生成部に供給でき、かつ、デブリの発生を極力抑制することができ、さらには、１３．５ｎｍ近傍の発光スペクトルが鋭くできるＬＰＰ方式極端紫外光光源を提供すること。
【解決手段】 液体ＳｎＨ₄ 供給部２は、液体ＳｎＨ₄ を加圧する加圧・冷却室２ａと、液体ＳｎＨ₄ を液滴あるいは液体ジェットとしてチャンバ１内に供給するためのノズル部２ｂを有する。液体ＳｎＨ₄ は、加圧・冷却室２ａで加圧され、ノズル部２ｂから液体ジェットまたは液滴としてチャンバ１内に噴出される。噴出したＳｎＨ₄ の液体ジェットあるいは液滴はチャンバ１内の真空中を進み、レーザビーム照射部Ｂに到達する。ここで、レーザ装置５から出射され集光されたプラズマ生成用レーザビームが照射され、プラズマが生成される。これにより、１３．５ｎｍのＥＵＶ光が得られる。 （もっと読む）

本発明は、ＭＯＰＯ方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒーレンスを低くした半導体露光装置用に適した２ステージレーザ装置に関するものであり、発振段レーザ（５０）と増幅段レーザ（６０）とからなる露光用２ステージレーザ装置であって、発振段レーザ（５０）として発振レーザ光に発散を有するものが用いられ、増幅段レーザ（６０）は入力側ミラー（１）と出力側ミラー（２）とからなるファブリペローエタロン型共振器を備え、その共振器は安定共振器を構成している。
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【課題】 短パルス化とマルチライン発振を同時に達成するＥＵＶ光源装置用ドライバーレーザを実現する。
【解決手段】 このドライバーレーザは、出力されるレーザ光を短パルス化する手段と、エネルギーピーク値を示す発振スペクトルの発振を抑制する手段とを有する短パルス・マルチライン発振ＣＯ_２レーザ発振器と、該短パルス・マルチライン発振ＣＯ_２レーザ発振器から出力された短パルス化されたレーザ光を入力し、増幅して出力する少なくとも１台の増幅器を含む。 （もっと読む）

【課題】 高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】 ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、レーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数のレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステムと、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステムの動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ光源装置において、ミラーコーティングに有害であるとされるデブリから集光ミラーを保護する。
【解決手段】 ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバ１００と、該チャンバ内にターゲットとなる物質を供給するターゲット噴射装置１２０及びターゲット噴射ノズル１２１と、ターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ光源１１０と、プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光ミラー１０２と、プラズマから放出される粒子に含まれている中性粒子をイオン化して帯電粒子とするＸ線源１３２と、少なくとも、Ｘ線源によってイオン化された中性粒子をトラップするために、チャンバ内に磁場を形成する磁石１３０及び１３１とを含む。 （もっと読む）

【課題】エタロンの経時変化等による特性の変動が生じても波長検出に影響を及ぼさず、正確な波長制御が行えるレーザ装置を提供する。
【解決手段】このレーザ装置は、レーザ発振器と、第１の基準光源及びグレーティング型分光器を含み、第１の基準光源から出力される基準光の波長に基づいて、レーザ光の波長を検出する第１の波長検出手段と、第２の基準光源及びエタロン型分光器を含み、第２の基準光源から出力される基準光の波長に基づいて、レーザ光の波長を検出する第２の波長検出手段と、レーザ発振器を発振させて、第１の波長検出手段によって得られるレーザ光波長検出値と第２の波長検出手段によって得られるレーザ光波長検出値との差を算出して記憶し、その後にレーザ発振器を発振させたときに第２の波長検出手段によって得られるレーザ光波長検出値とレーザ光目標波長との差へ更に記憶した差を加算する制御手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度を高める。
【解決手段】 液滴生成室１００と、該液滴生成室と開口部１０１ａを介して接続されているプラズマ発生室１１０と、プラズマ生成室内にターゲット物質を供給するノズル１０２と、ノズルから供給されるターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下するターゲット物質の液滴１０８を生成するピエゾ素子１０３及びピエゾドライバ１０６と、生成されたターゲット物質の液滴１０８ａが、開口部を通過するのを妨げる液滴遮断ユニット１０７と、液滴遮断ユニットが所定のタイミングで動作するように制御する制御部１１５と、レーザ光を出射するレーザ光源１１１と、レーザ光源から出射したレーザ光を、液滴生成室において生成され、開口部を通過してプラズマ発生室に導入されたターゲット物質の液滴１０８ｂに照射させるレンズ１１２とを含む。 （もっと読む）