【課題】被測定物に対する面方向の分解能や測定位置の変更を容易に行うことができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】光源１０と、光源１０からの光を２つの光束に分割して、一方の光束を被測定物Ｔに照射し、他方の光束を参照ミラー４０に照射させると共に、これらから反射された光を合波させるスプリッタ２０と、スプリッタ２０によって合波された光により得られる画像を撮像するＣＣＤ５０と、２つの傾き状態に制御される複数の微小ミラーを有するＤＭＤと、複数の微小ミラーを制御して被測定物Ｔや参照ミラー４０への照射光等を絞り込み、その状態で撮像された画像に基づき、測定点の高さを測定する制御手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】参照面と被検面との間の距離の計測において、計測範囲の広範囲化の技術を提供する。
【解決手段】光源からの第１光を参照面に入射させ第２光を被検面に入射させる分割素子と、前記参照面で反射された前記第１光と前記被検面で反射された前記第２光との干渉光の位相をシフトさせる位相シフト部と、前記干渉光の強度を検出する検出部と、前記光源からの光の周波数を連続的に３つ以上の周波数に設定し前記３つ以上の周波数のそれぞれについて前記干渉光の位相をシフトさせながら前記干渉光の強度を検出するように前記検出部を制御し検出される前記干渉光の強度及び前記位相シフト部による前記干渉光の位相のシフト量に基づいて、前記参照面と前記被検面との間の光路長に相当する位相を特定し前記参照面と前記被検面との距離を求める処理部と前記処理部は前記３つ以上の周波数のそれぞれの間の周波数差が互いに異なるように前記３つ以上の周波数を設定する。 （もっと読む）

【課題】コヒーレンス走査干渉計及びこのコヒーレンス走査干渉計を用いた物体の高さ形状測定するための方法に対して、測定精度や測定特性の再現性に関する改良を行なうことである。
【解決手段】光源２と、干渉計と、経路長変更ユニットと、検出面を有するカメラ３とが備えられている。経路長変更ユニットは、測定ビームと基準ビームの光路長を変更するように構成されている。経路長変更ユニットは、経路目盛１１と経路検出器１２とを有しており、経路目盛１１と経路検出器１２とは、経路長変更ユニットによる測定ビームの光路長変更または基準ビームの光路長変更あるいはその両方の光路長変更の際に、経路検出器１２の同期的な動きが経路目盛１１に対して相対的に行なわれるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ノイズの少ない方法で、容易には測定できない位相特性を測定し、また、振幅特性を強調された方法で
測定する。
【解決手段】振幅及び位相を有する分析対象波面に対して、フーリエ変換処理を行い、該分析対象波面に対応する複数の異なる位相変化された変換波面を取得し、該複数の位相変化された変換波面の複数の強度マップを取得し、該複数の強度マップを用いて該分析対象の三次元画像形成波面の振幅及び位相を表示する出力を取得する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】改良されたレベルセンサアレンジメント及びその動作を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置内の基板上の少なくとも１つの実質的な反射層表面の位置を測定するための方法、並びに、関連付けられたレベルセンサ及びリソグラフィ装置が開示される。該方法は、広帯域光源を使用して少なくとも２つの干渉計測定を実行することを含む。各測定間で、広帯域ソースビームの成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが変化し、強度レベルのみが変化する場合、強度変化はビームの成分波長の少なくとも一部について異なる。あるいは、成分波長及び／又は成分波長全体にわたる強度レベルが異なる測定データを取得するための単一の測定及び後続の測定の処理を、位置を取得するためにも同様に適用することができる。 （もっと読む）

【課題】同じ支持板の径（面積）であっても、より光路長の変化を大きくすることのできる断層測定装置を提供する。
【解決手段】断層測定装置を、光を放出する光源と、光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割する第一の光分割部材と、第一の光の光路を変化させる光路可変部材と、第一の光と前記第二の光を結合させる光結合部材と、結合部材により結合した光の振幅を測定する振幅測定部材と、を有し、光路可変部材は、支持板４１と、支持板を支持し、かつ回転させる回転支持部材と、第一の光を第三の光と第四の光２４に分割する第二の光分割部材と、支持板上に配置される支持反射部材４３と、支持反射部材から反射された第三の光を再度支持反射部材に入射させる第一の固定反射部材４５と、支持反射部材から反射された第四の光を再度支持反射部材に入射させる第二の固定反射部材４８を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い校正原器を提供し、一つの校正原器で種々の形状計測装置の横座標の校正を可能にする。
【解決手段】形状計測装置の横座標を校正する際にワークの代わりに配置される校正原器２０に、入射角度に係わらず光を元来た方向に反射する再帰性光学素子２１を設け、この再帰性光学素子２１によって測定光Ｌｍを反射させる。校正原器２０は、再帰性光学素子２１によって反射するため、種々の曲率半径の測定光を元来た方向に反射することができ、これによって、種々の形状計測装置の横座標の校正に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】被計測物が様々な屈折率で、かつ様々な厚さの透明媒質の下に配置されていても、その被計測物の高さを容易に計測する。
【解決手段】高さ計測装置１は、照明光から分岐された第１照明光を被計測物６に導く対物レンズ２４と、照明光から分岐された第２照明光を参照ミラー２８に導く対物レンズ２６と、第２照明光の光路長を調整する移動部３６と、被計測物６及び参照ミラー２８で反射される２つの照明光の干渉像を撮像する高速度カメラ１２と、対物レンズ２４と被計測物６とを光軸方向に相対移動するピエゾ駆動装置１８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光干渉を利用して温度を適切に測定することができる温度計測システム、基板処理装置及び温度計測方法を提供する。
【解決手段】温度計測システム１は、光源１０、分光器１４、光伝達機構１１，１２、光路長算出部１６及び温度算出部２０を備える。光源１０は、測定光を発生させる。光伝達機構１１，１２は、測定対象物１３の表面１３ａ及び裏面１３ｂからの反射光を分光器１４へ出射する。分光器１４は、反射光の強度分布である干渉強度分布を測定する。光路長算出部１６は、フーリエ変換し光路長を算出する。温度算出部２０は、光路長と温度との関係に基づいて測定対象物１３の温度を算出する。光源１０は、分光器１４の波長スパンΔｗに基づいた条件を満たす半値半幅Δλの光源スペクトルを有する。分光器１４は、波長スパンΔｗと計測最大厚さｄとに基づいた条件を満たすサンプリング数Ｎ_ｃで強度分布を測定する。 （もっと読む）

【課題】収束光学系を有するレーザ干渉測定装置における測定面上の位置の校正が簡便かつ高精度に行えるレーザ干渉測定装置の横座標校正治具および横座標校正方法を提供すること。
【解決手段】横座標校正治具１０は、マーカを有する画像を投影する画像投影手段１９と、画像投影手段１９を第１回動軸線Ａ１まわりに回動自在に支持しかつ第１回動軸線が所定の回動中心Ｃを通る第１支持機構１１と、第１支持機構を第２回動軸線Ａ２まわりに回動自在に支持しかつ第２回動軸線が回動中心Ｃで第１回動軸線Ａ１と交叉する第２支持機構１２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】試料の表面形状の測定精度を大幅に向上させることのできる、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】対物レンズの下にビームスプリッター及びミラーを配し、試料表面を含めて、マイケルソン型などの干渉計を構成し、試料までの距離又はミラーまでの距離をピエゾアクチュエーターで走査し、それによりできる干渉波形をCCDカメラで撮影して動画ファイルデータとして記録し、データ収集間隔をナイキスト間隔（干渉波形の周期の１／２）よりも広く取って試料の表面形状を測定する、走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法において、得られた収集波形についてヒルベルト変換を行い、包絡線と位相を得、こうして得られた位相が０になる走査位置と試料の表面高さとの関係を用いて位相が0になる走査位置から試料表面の高さを算出する。 （もっと読む）

【課題】試料の表面形状を測定する際に、干渉波形の包絡線と位相との両方に基き試料の表面形状を算出できるようにした走査型白色干渉計による試料の表面形状の測定方法を提供する。
【解決手段】撮影した動画ファイルデータに基づき、試料の表面上の位置に対応する各画素において、ヒルベルト変換を用いて干渉波形の包絡線と位相を算出し、包絡線がピークになる走査位置と、位相が０になる走査位置を算出し、両位置の差から、試料表面の反射光の位相変化による位置ずれの値を検出し、その値の大きさから、その画素の試料表面が他の画素の試料表面と同種であるか異種であるかを判定し、同種のもの同士で干渉波形の位相が０になる走査位置のずれの平均値を算出しておき、各画素で、位相が０になる位置から対応する試料の表面上の物質での位相が０になる走査位置のずれの平均値を引くことで、反射光の位相変化の影響が消されて試料の表面形状が測定される。 （もっと読む）

【課題】走査型白色干渉計を用いて試料の表面形状を測定する際に、少ないデータ数で精度よく試料の表面形状を測定できるようにするデータ処理方法を提供する。
【解決手段】走査型白色干渉計のデータ処理方法は、干渉計で得た動画ファイルデータを読み出し、それぞれの画素において時間軸方向のデータに基き、ヒルベルト変換を用いて、時間軸上での位置で、干渉計の光路差が０になる走査距離に対応した干渉波形の最大のピークの位置を求め、それを全画素で表わす。 （もっと読む）

【課題】 本発明は隣接するスペクトルの重なりの影響を低減することができ、且つ、波数空間上のスペクトルをフィッティングして位相回復を行うよりも少ない計算量で位相回復を行うことができる計算方法、プログラムと、撮像装置を提供すること。
【解決手段】 撮像装置は、シアリング干渉計と、シアリング干渉計により得られる干渉パターンから被検体の情報を算出する算出手段を備える。
算出手段は、干渉パターンを窓フーリエ変換することにより得られる波数空間上の座標におけるフーリエ成分を表す式を３以上用い、それらのフーリエ成分を表す式を連立方程式として解くことで被検体の情報を算出する。 （もっと読む）

【課題】試料表面の変位量が大きくても、フェーズラッピングの問題が生ずることなく、試料の微細な表面形状を高分解能で測定できる形状測定装置を実現する。
【解決手段】白色光源から出射した照明光は、入射光をシャーリングする第１の光路と入射光に対して可変光路長ないし可変位相量を導入してフリンジスキャンを行う第２の光路とを有する干渉光学系及び対物レンズを経て試料に入射する。試料上には、シャーリングされた参照ビームにより形成される第１の照明領域とフリンジスキャンされた測定ビームにより形成される第２の照明領域が形成される。第１及び第２の照明領域から出射した反射光は、対物レンズ及び干渉光学系を介して２次元撮像装置に入射し、２つの照明領域の画像が合成された干渉画像が形成される。フリンジスキャンにより、２つの画像を構成する反射光間に白色干渉が発生し、干渉信号を検出することで、試料の形状又は孔の深さが測定される。 （もっと読む）

【課題】スペックル低減を、拡散板を動かすのではなく、ビームを動かして、質量及びモーメントだけでなく、付随する熱及び振動を低減することにより達成する。
【解決手段】コヒーレント光のスペックルを低減するシステム２５０において：拡散板２８６と；少なくとも１つのビームステアラー２７０および第１軸を有するビームステアリングシステムと；拡散板２８６とビームステアリングシステムとを相互接続する光学系であって、光を、少なくとも１つのビームステアラー２７０を介して拡散板２８６の連続する軸外領域に、そして拡散板２８６の連続する軸外領域から少なくとも１つのビームステアラー２７０に誘導することにより、拡散板２８６の連続する軸外領域からの光の角度分布が、第２軸を略中心とするようになり、かつ第２軸に略揃うようになって、スペックル低減システムから射出する光学系と；を備える。 （もっと読む）