【課題】 投影光学系の結像特性の変動量をより正確に求める。
【解決手段】 単位露光エネルギー当たりの結像特性の変動量を露光係数として、基板を露光するための露光光が第１波長帯域である場合の投影光学系の光学特性の変動量のデータを用いて第１波長帯域の露光係数を算出し、第２波長帯域の露光係数を第１波長帯域の露光係数を用いて算出し、第２波長帯域の露光係数を用いて第２波長帯域の露光光を用いて基板を露光する場合の投影光学系の結像特性の変動量を算出する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系３０において、第１レンズ群３２、第２レンズ群３４、第３レンズ群３６、第４レンズ群３８を備え、第１レンズ群３２と第２、３レンズ群３４、３６との間に、偏光ビームスプリッタ４０を配置する。そして、マスクＰＭの光軸上点からのマージナル光線ＭＬ１、ＭＬ２が偏光ビームスプリッタ４０の入射面に対し垂直入射するように、第１レンズ群３２の光学特性が定められている。 （もっと読む）

【課題】収差の発生を抑制できる投影光学系を提供する。
【解決手段】投影光学系は、第１面からの照射光を第２面に供給して、第１面の像を第２面に投影する。投影光学系は、照射光の光路に配置可能であり、照射光のうち、第１偏光成分の光と第２偏光成分の光との間で発生する位相差を低減する位相差補償部材Ｅ１と、光路に位相差補償部材Ｅ１が配置されるように位相差補償部材Ｅ１をリリース可能に保持する保持機構１０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】改善された検査装置、反射屈折対物系および屈折対物系を提供する。
【解決手段】検査装置５００は、第１ビーム５２２を受け、第１ビーム５２４をウェーハ５０８から反射するべく誘導するように構成された反射屈折対物系５０４と、反射したビームによって作り出された第１の像を検出する第１センサ５１０、第２ビーム５２４をウェーハ５０８から反射するべく誘導するように構成された屈折対物系５０６と、反射したビームによって作り出された第２の像を検出する第２センサ５１２を備える。検査装置５００は、ウェーハから反射されたビームによって作り出された第３の像を検出するように構成される第３センサ５１４も備えることができ、第１および第２の像は、ＣＤ測定に使用され、第３の像は、ＯＶ測定に使用され得る。第２ビームは、約２００ｎｍ〜約４２５ｎｍのスペクトル範囲を、第３ビームは約４２５ｎｍ〜約８５０ｎｍのスペクトル範囲を有する。 （もっと読む）

【課題】光学要素を取り付けるのに十分な設計空間を、特に対物系の前方部分に確保する投影対物系を提供する。
【解決手段】物体視野が形成される物体平面（２０、１００、３００、２１０３）と、入射瞳（ＶＥ）と、前記物体平面において前記入射瞳（ＶＥ）を鏡像化することによって得られる、鏡像化入射瞳平面（１０３）内の鏡像化入射瞳（ＲＥ）と、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と、光軸（ＨＡ）と、少なくとも第１の鏡（Ｓ１）と第２の鏡（Ｓ２）とを備える。この投影対物系の入射瞳のバック・フォーカスが負であり、物体視野の中心点から発生して、物体平面から像平面にかけて対物系を横断する主光線（ＣＲ、ＣＲＰ）が、少なくとも１つの交差点（ＣＲＯＳＳ）において光軸（ＨＡ）と交差し、すべての交差点（ＣＲＯＳＳ、ＣＲＯＳＳ１、ＣＲＯＳＳ２）の幾何学的位置が、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と鏡像化入射瞳平面（１０３）との間にある。 （もっと読む）

【課題】 極紫外スペクトル範囲（ＥＵＶ）内の波長に向けて構成された反射投影レンズを用いてマスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】 マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＰＬＳ）と、加熱光源（ＨＬＳ）と、反射投影レンズ（２６）と、好ましくは投影レンズ（２６）の外側に配置され、ドライバ（１２４）を用いて第１の位置と第２の位置との間で変位させることができる反射スイッチング要素（１２２；２２２；３２２；４２２；１４；１４，１４０）とを含む。この場合、スイッチング要素の第１の位置では、投影光（ＰＬ）のみが投影レンズ（２６）に入射することができ、スイッチング要素の第２の位置では、加熱光（ＨＬ）のみがこの投影レンズに入射することができる。 （もっと読む）

【課題】可視光全域に渡って諸収差を良好に補正した広い撮像領域に渡って高い解像力を有する反射屈折光学系を得ること。
【解決手段】物体側から順に、該物体側の面が凸形状で光軸周辺に設けられた正屈折力の光透過部と光透過部より外周側の物体側の面が反射面である裏面反射部とを有する第１の光学素子と、物体側に凹面を向けたメニスカス形状で光軸周辺の負屈折力の光透過部と光透過部より外周側で像面側の面が反射面である裏面反射部とを有する第２の光学素子とを有し、第２の光学素子の物体側と像側の面の曲率半径を各々ＲＭ２ａ、ＲＭ２ｂ、第２の光学素子の光軸上の厚さをｔ、第２の光学素子の材料の波長５８７．６ｎｍでの屈折率をＮｄとし、１/（｜ＲＭ２ｂ｜/２）−１/（｜ＲＭ２ａ｜+ｔ）＝１/ｓ’、｛（ｓ’−ｔ）ｘＮｄ｝/（Ｎｄ+１）＝Ｒａｐｌとおいたとき、Ｒａｐｌ×０．８＜｜ＲＭ２ａ｜＜Ｒａｐｌ×１．２を満足する。 （もっと読む）

【課題】構成レンズの枚数の増加を抑制しながら、十分な露光領域と大きな開口数とを確保しつつ両側テレセントリックとしながらも、コンパクト化を図った上で製造コストを低減した投影光学系を提供する。
【解決手段】第１物体の像を第２物体上に投影するための投影光学系において、前記第１物体側から前記第２物体に向かって順に、正の屈折力を有する第１レンズ群と、負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の負レンズを持つ第２レンズ群と、正の屈折力をする第３レンズ群と、開口絞りと、正の屈折力を有する第４レンズ群と、負の屈折力を有し、互いに向き合った凹面の組を形成する一対の負レンズを持つ第５レンズ群と、正の屈折力を持つ第６レンズ群とから構成され、０．３＜ｆ１／ｆａ＜１．３、−０．３６＜ｆ２／ｆａ＜−０．０８、０．１３＜ｆ３／ｆａ＜０．５の条件を満足する。 （もっと読む）

【課題】複数枚のマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光において、露光ムラを防止できるマイクロレンズアレイ及びそれを使用したスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】マイクロレンズアレイ１は、ガラス板１１の上面及び下面に、夫々単位マイクロレンズアレイが積層され、上板１０及び下板１３により各単位マイクロレンズアレイが保持されている。各単位マイクロレンズアレイと、ガラス板１１には、位置合わせ用のマークが形成されていて、単位マイクロレンズアレイとガラス板１１とは、これらのマークにより位置合わせされて相互に積層されている。 （もっと読む）

【課題】有効利用する波長において、ＥＵＶ光源、特に、ＥＵＶプラズマ光源の光源パワー及び光源位置を十分な精度を持って測定することができる測定手段を備えたＥＵＶ照明システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、ＥＵＶ光源（３）の、又はＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）がＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲がＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される。 （もっと読む）

【課題】 良好な結像性能と小型化を両立する投影光学系を提供する。
【解決手段】 投影光学系は、物体面に配置された物体の中間像を形成する第１の反射光学系と前記中間像を像面に投影する第２の反射光学系とを含む。前記第１の反射光学系は、前記物体面から出射され前記物体面に直交する第１方向に沿って入射した光を反射する第１の平面鏡と、前記第１の平面鏡からの光を反射する第１の光学系と、前記第１の光学系からの光を反射して前記中間像の形成位置に向け前記第１方向に沿って出射する第２の平面鏡とを有する。前記第２の平面鏡における光の反射位置と前記中間像の形成位置との間の前記第１方向における距離は前記第１の平面鏡における光の反射位置と前記物体面との間の前記第１方向における距離よりも短い。 （もっと読む）

【課題】反射屈折投影対物系、投影露光装置、及び半導体構成要素及び他の微細構造化構成要素を製造する方法を提供する。
【解決手段】物体平面の物体視野を像平面の像視野上に結像するためのマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系は、物体視野を第１の実中間像上に結像する第１の部分対物系、第１の中間像を第２の実中間像上に結像する第２の部分対物系、及び第２の中間像を像視野上に結像する第３の部分対物系を含む。第２の部分対物系は、厳密に１つの凹ミラー及び少なくとも１つのレンズを有する反射屈折対物系である。第１の折り返しミラー及び第２の折り返しミラーが設けられる。第２の部分対物系のレンズの少なくとも１つの面は、０．２％よりも低い反射率を有する。代替的又は追加的に、第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。 （もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィを可能にする真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用するのに適する反射屈折投影対物レンズを提供する。
【解決手段】物体面１０１上に設けられたパターンを像面１０２上に結像するための反射屈折投影対物レンズ１００であって、物体面上に設けられたパターンを第１中間像１０３に結像する第１対物レンズ部１１０、第１中間像を第２中間像１０４に結像する第２対物レンズ部１２０、及び第２中間像を像面上に結像する第３対物レンズ部１３０、を備え、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡１２１と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡１２２とが、第２中間像の上流側に配置され、ひとみ面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、すべての凹面鏡が、ひとみ面から光学的に離して配置される。 （もっと読む）

【課題】集積回路を製造するためのマイクロリソグラフィーにおいて、マスク乃至レチクル形態の対象物をEUV照射によって照らすために使用される公知の照明システム及びそれらを備えた投影露光システムを指定サイズのEUVにより処理能力が増加する乃至所定のEUV処理能力によりサイズが減少されるよう、更に発達させることである。
【解決手段】光学軸の方向にEUV照射を集束するコレクタ、二次光源を発生するための第一光学要素、上記二次光源の位置に配置された第二光学要素及び第一光学要素と合わせて最大５つとなる更なる光学要素をコレクターと照明領域の間に備える照明システムにおいて、光学要素と光学軸が６０°よりも大きいか３０°よりも小さい入射角で交わり、光学軸の少なくとも一つの軸部分が少なくとも二つの光学要素の間において照明主要面に対して傾斜していることを特徴とする、照明システムによって成し遂げられる。 （もっと読む）

【課題】異なる視野点における結像収差の補正が容易なマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系を提供すること。
【解決手段】反射屈折投影対物系は、物体面に配置された軸外物体視野を投影対物系の像面に配置された軸外像視野上に結像するように配置された複数の光学要素を含む。光学要素は、物体面から到来する放射線から第１の中間像を発生させ、かつ第１の瞳面を含む第１の屈折対物系部分と、第１の中間像を第２の中間像へと結像する少なくとも１つの凹面ミラーを含み、かつ第１の瞳面と光学的に共役な第２の瞳面を含む第２の対物系部分と、第２の中間像を像面上に結像し、かつ第１及び第２の瞳面と光学的に共役な第３の瞳面を含む第３の屈折対物系部分とを形成する。物体面と第１の瞳面の間に配置された光学要素は、第１の瞳面に光学的に近く配置された負のレンズ群を含むフーリエレンズ群を形成する。 （もっと読む）

【課題】照明光ビームを案内及び成形するための複数の光学面を含む照明光学ユニットを設定する方法及び装置等を提供する。
【解決手段】設定される照明パラメータが、像視野に結像される物体視野にわたって予め定められる。設定は、最初に、複数の視野点における複数の照明角度に関する照明光学ユニットの強度重み付き照明パラメータの実際の値を決定する段階を含む。次に、少なくとも１つの照明パラメータに対する照明光学ユニットの光学面のうちの少なくとも１つの変形の影響が決定される。更に、照明パラメータの望ましい値が予め定められる。照明パラメータの実際の値が予め定められた範囲内で照明パラメータの望ましい値に対応するように、変形の影響が決定された少なくとも１つの光学面の望ましい形状が決定される。最後に、光学面の実際の形状が望ましい形状に対応するように、光学面に対して機械応力を作用する少なくとも１つのアクチュエータを用いて光学面が変形される。 （もっと読む）

【課題】３枚のレンズで結像光学系を構成し、像側に最も近いレンズの大きさを抑えて露光ヘッドの小型化を図りつつ、ワーキングディスタンスを長くとる。
【解決手段】光を発光する発光素子と、発光素子が発光した光が透過する第１のレンズと、第１のレンズを支持する第１の光透過性基板と、第１のレンズを透過した光が透過する第２のレンズと、第２のレンズを支持する第２の光透過性基板と、第２のレンズを透過した光が透過する第３のレンズと、発光素子と対向する面で第３のレンズを支持するとともに、第1の光透過性基板及び第２の光透過性基板の厚さよりも薄い第３の光透過性基板と、を備える。 （もっと読む）

【課題】３枚のレンズで結像光学系を構成し、物体側の２枚のレンズのレンズ間隔を、大きくとりつつも正確に規定することを可能とする。
【解決手段】光を発光する発光素子と、発光素子が発光した光を透過する凸形状の第１のレンズ、及び第１のレンズを発光素子と対向する面で支持する第１の光透過性基板を有する第１のレンズアレイと、第１のレンズを透過した光が透過する凸形状の第２のレンズ、及び第２のレンズを発光素子と対向する面の反対の面で支持する第２の光透過性基板を有する第２のレンズアレイと、第２のレンズを透過した光が透過する第３のレンズを有する第３のレンズ、及び第３のレンズを支持する第３の光透過性基板を有する第３のレンズアレイと、第１のレンズを透過した光を絞る開口絞りを有し、第１のレンズアレイと第２のレンズアレイとに挟まれて配設されたスペーサーと、を備える。 （もっと読む）

【課題】瞳ファセットを視野ファセットに割り当てる方法を提供する。
【解決手段】照明光の部分ビームに対する照明チャンネルの定義のために投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法。最初に、少なくとも１つの照明パラメータが識別される。次に、可能な照明チャンネルを評価する評価関数が事前定義される。これに、評価変数を計算する段階が続く。評価ターゲット範囲を達成する評価変数を有する照明チャンネルが事前選択される。少なくとも１つの外乱変数及びこの外乱変数への照明関数の依存性が識別される。外乱変数は、事前定義された外乱変数変動範囲で変更され、評価変数の変動が評価関数に基づいて計算される。変動範囲全体において評価ターゲット範囲に留まる、変更された評価変数を有する照明チャンネルが選択される。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の温度変化による投影光学系の光学特性の変動を高い精度で予測しその影響を低減する。
【解決手段】原版のパターンの像を投影光学系ＰＯによって基板Ｗ上に形成して該基板Ｗを露光する露光装置１００は、前記投影光学系ＰＯの温度計測箇所の温度を計測する温度計測部ＴＰと、前記温度計測部ＴＰによって計測された温度の変化に基づいて前記投影光学系ＰＯの光学特性の変化を予測し、その予測に基づいて前記光学特性の変化による前記基板Ｗに形成される像の状態の変化を低減する処理を実行するコントローラＣＴと、を備え、前記コントローラＣＴは、前記温度計測箇所の温度の変化に対する２次遅れ応答関数に従って前記光学特性の変化を予測する。 （もっと読む）