【課題】各波長域に対応する複数の液晶パネルにおける液晶層の層厚の面内ばらつきに起因する色相ムラを効果的に解消することのできる投射型表示装置および光学ユニットを提供すること。
【解決手段】投射型表示装置において、各色光が入射する３つの反射型の液晶パネル１００（赤色用液晶パネル１００Ｒ、緑色用液晶パネル１００Ｇ、青色用液晶パネル１００Ｂ）では、青色用液晶パネル１００Ｂにおいて共通電極２１を構成するＩＴＯ膜の膜厚は、赤色用液晶パネル１００Ｒおよび緑色用液晶パネル１００Ｇにおいて共通電極２１を構成するＩＴＯ膜の膜厚に比して薄い。また、赤色用液晶パネル１００Ｒおよび緑色用液晶パネル１００Ｇで共通電極２１の構成するＩＴＯ膜の膜厚は等しい。 （もっと読む）

【課題】端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域に感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造された電気光学装置を提供すること。
【課題手段】液晶装置において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の所定領域に感光性樹脂層８０を形成する際、遮光膜形成工程において、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側の端縁に形成された第１傾斜端面１０ｉに遮光膜８５を形成しておく。そして、感光性樹脂層形成工程において電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇ側にポジタイプの感光性樹脂層８０を塗布し、その後、露光現像工程において感光性樹脂層８０を露光、現像する。露光を行った際、第１傾斜端面１０ｉに向かう光は、遮光膜８５で遮られるので、第１傾斜端面１０ｉから電気光学装置用基板１０ｓの内部に入射することがない。 （もっと読む）

【課題】 配線容量の低減を図り、液晶表示装置の高精細化や狭額縁化を図る。
【解決手段】 走査線及び信号線の交点に配列されるスイッチング素子１２と、マトリクス状に配置されスイッチング素子によって駆動される画素電極と、画素電極の印加電圧を保持するための保持容量とを有するアレイ基板２と、対向電極を有し、アレイ基板２と所定の間隔を隔てて対向配置される対向基板３とを備え、これらアレイ基板２と対向基板３の間に液晶層が封入されてなる液晶表示パネル１を備えた液晶表示装置である。アレイ基板２の電源配線及び電気信号配線の少なくとも一部（例えば保持容量配線１３や額縁領域の引き出し配線４１）は、配線上に誘電率の低い絶縁性着色層（青色絶縁性着色層２１）が積層された構造を有する。 （もっと読む）

【課題】素子の配列の正確度が向上した液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁マザー基板を提供し、波長が３５５ｎｍ未満であり、絶縁マザー基板が１０％以上の吸光率を有するようなレーザ光を照射して、絶縁マザー基板の内部にアラインマークを形成し、形成したアラインマークを基準に絶縁マザー基板上に多数の素子を形成し、絶縁マザー基板をカットして複数の絶縁単位基板を形成することを含む液晶表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】溶液の広がりや飛散若しくは誤滴下等による寄生容量やリークパスの発生を防止することのできる有機デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機デバイスの製造方法は、基板１０上に導電性有機材料を含む溶液を配置する工程と、前記溶液を乾燥することにより導電性有機膜１５を形成する工程と、不所望な領域に配置された前記導電性有機膜１５ａ，１５ｂ，１８に光Ｌを照射し、前記導電性有機膜１５ａ，１５ｂ，１８の導電性を低下させる工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＲＡＳ法によって透明導電膜及び／又は反射防止膜を形成しても、電極が劣化することがない導電性フリット材とそれを電極材料として用いた透明面状ヒーター並びに電磁波シールド体を提供することである。
【解決手段】本発明の導電性フリット材は、金属Ａｇと、ガラスとを含有し、ＰｂＯを質量％で２．５〜２０％含有することを特徴とする。また本発明の透明面状ヒーター又は電磁波シールド体は、ガラス基板と、ガラス基板表面に形成された透明導電膜と、透明導電膜に通電するための、少なくとも一対の電極とを備え、電極が、金属Ａｇと、ガラスとを含有し、ＰｂＯを質量％で２．５〜２０％含有する導電性フリット材からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来に比較して、調光性、可視光に対する透明性、可撓性に優れ、安価な調光フィルムを提供すること。
【解決手段】一対の透明電極フィルムの間に液晶層が挟持されてなる調光フィルムにおいて、透明高分子フィルムの液晶層側の面に、有機分を含有する金属酸化物薄膜と、金属薄膜とが積層された透明電極を有しており、かつ、金属薄膜の少なくとも一方面には、有機分を含有する金属酸化物薄膜よりも薄い金属酸化物薄膜が形成されている透明電極フィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクを使用することなく、微細な加工パターンを高い位置精度で形成する方法、代表的には半導体装置を製造する工程の中でのコンタクト開口に関する方法を提示する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成し、薄膜上に層間絶縁膜を形成し、層間絶縁膜及び薄膜に開口部を形成する位置と重なる領域に液滴吐出法によりレンズ材料となる液状物質を着弾させマイクロレンズを形成し、レーザ光をマイクロレンズに照射し薄膜に集光することにより、薄膜及び層間絶縁膜の一部を除去して開口部を形成する。 （もっと読む）

【課題】 半導体回路とカラーフィルターの位置合わせが容易な構造体、反射型表示装置、半導体回路の製造方法および反射型表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 実質的に透明な板状の基材３としてコーニング社製無アルカリガラス１７３７(厚さ０.５mm)を用い、その厚さ方向の一方の面にR(赤)、G(緑)、B(青)のカラーフィルター層４を形成し、そのうえに透明樹脂からなる保護層を形成した。前記カラーフィルターが基材３の反対側に臨む面に、実質的に透明な薄膜トランジスタと前記薄膜トランジスタに導通される電気的接点を有する実質的に透明な導電材料によって構成される配線とを有する半導体回路を、前記フィルター配列パターンと位置合わせを行って設けた。 （もっと読む）

【課題】反射表示部に位相差板を備える半透過型ＩＰＳ方式の液晶表示装置において、製造工程を簡素化する。
【解決手段】カラーフィルタ層３６を平坦化するための平坦化層３７の形成の際に、スリット状の開口部を備えたグリッド偏光子マスクを用いて、平坦化層３７の材料を局所的に光硬化させる。その後、全体を硬化させることで、平坦化層３７の表面に配向規制力を持たせる。配向規制力を持たせた平坦化層の上に位相差板の材料を塗布し、硬化させ、配向した位相差板を形成する。 （もっと読む）

【課題】金属膜の応力に起因する基板の反りを緩和して、表示不良の発生を少なくできる
電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板上に金属膜を形成する工程を含む電気光学装置の製造方法であっ
て、ガラス基板上に金属膜を形成した後、当該金属膜に対してパターニング処理を行う前
に、金属膜が形成されたガラス基板を加熱処理することにより、ガラス基板の反りを緩和
することを特徴とする。例えば、加熱処理温度を１５０〜３００℃の範囲内で、加熱処理
時間を５〜６０分の範囲内とすることができる。 （もっと読む）

【課題】素子の微細化の向上及び製造コストの低下を図る。
【解決手段】下部基板１０上に下部電極２を成膜し、その上に非線形抵抗膜４を成膜する。非線形抵抗膜４の上に、例えば導電性粒子１８を含む絶縁膜６を成膜し、その上に上部電極８を成膜する。図中、符号１２は液晶、１４は対向電極、１６は上部基板を示している。非線形抵抗膜４の導電性粒子１８に対応する微小領域のみで非線形抵抗膜４の機能が得られため、導電性粒子１８の密度を変えることにより非線形抵抗膜４の機能する領域を微細加工によらずに調整できる。 （もっと読む）

【課題】 漏光による光電流の発生を防止し、ＴＦＴ素子の特性を適切に防止することが可能な液晶表示装置、およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 一対の基板１Ａ，１Ｂと、一対の基板１Ａ，１Ｂに挟まれた液晶層７と、ＴＦＴ基板１Ａにマトリクス状に配置された複数の画素電極３４と、複数の画素電極３４に対応するようにＴＦＴ基板１Ａ上に配置されており、かつ各々が半導体層２を有する複数のＴＦＴ素子Ｔと、を備える液晶表示装置Ａ１であって、各々がＴＦＴ基板１Ａの面内方向において各半導体層２の四方を囲う複数の第１透明絶縁層４Ａと、ＴＦＴ基板１Ａの面内方向において複数の第１透明絶縁層４Ａの四方を囲う第２透明絶縁層４Ｂと、をさらに備えており、かつ、第１透明絶縁層４Ａは、その屈折率が第２透明絶縁層４Ｂの屈折率よりも小さい。 （もっと読む）

【目的】 エレクトロルミネッサンスパネル電極、エレクトロクロミック素子電極、液晶電極、透明面発熱体、色素増感型太陽電池の透明な電極等として有用な面抵抗が１Ω／□以下の透明導電フィルムを提供する。
【構成】 タングステン、ニッケルおよびステンレス等の金属線（２）で一部のガラス繊維が置換されたガラスクロス（１）にガラスクロスと同じ程度の屈折率を有する樹脂（３）を含浸硬化し、その表面に透明導電膜を被覆する。 （もっと読む）

【課題】 表示のための電圧信号をプログラムすることなく所望のパターンを常時表示させることが可能な液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、および電子機器を提供すること。
【解決手段】 液晶表示装置の製造方法が、ガラス基板１１の表面に電流のシフト量Ｉ_S＝（（Ｉ₁₀₀−Ｉ₀）／Ｉ₀）×１００が５以上かつ１５以下である非線形抵抗素子を形成する工程Ｐ１２と、ガラス基板１１とガラス基板１２とを貼り合わせる工程Ｐ３１と、一の領域に配置された非線形抵抗素子に第１の電圧を印加するとともに、他の領域に配置された非線形抵抗素子に第１の電圧と異なる第２の電圧を印加して焼き付けを行う工程Ｐ３６とを含み、Ｉ₁₀₀は、初期状態の非線形抵抗素子に電流Ｉ₀＝１×１０^-7［Ａ］が流れるような電圧振幅を持つ矩形波を印加し続けた場合において、当該矩形波の印加開始から１００秒後に流れる電流であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多層配線を形成する際における配線の加工に要する工程を簡便にすることを課題とする。また、開口径の比較的大きいコンタクトホールに液滴吐出技術やナノインプリント技術を用いた場合、開口の形状に沿った配線となり、開口の部分は他の箇所より凹む形状となりやすかった。
【解決手段】高強度、且つ、繰り返し周波数の高いパルスのレーザ光を透光性を有する絶縁膜に照射して貫通した開口を形成する。大きな接触面積を有する１つの開口を形成するのではなく、微小な接触面積を有する開口を複数設け、部分的な凹みを低減して配線の太さを均一にし、且つ、接触抵抗も確保する。 （もっと読む）

【課題】 可撓性基板上の配線を保護可能な実装構造体、実装構造体を備えた電気光学装置、電気光学装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】外力等により回路基板３が力を受けても、ダミー配線２７、２８が、基板５の端縁５ｂと回路基板３の縁３ａとが交差する部分と複数の配線２２との間で、端縁５ｂ、端縁４ａに交差するように回路基板３に設けられているので、この交差する部分と複数の配線２２との間をダミー配線２７、２８等により補強することができ、確実に配線２２の破断を防止することができる。ダミー配線２３〜２８は、端縁５ｂに直交する方向に設けられているので、傾斜する方向に沿って回路基板３が破断することを防止でき、配線２２が破断することを効果的に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】アレイ基板の製造工程を単純化して製造単価を節減して、画素電極オープン不良を防止する。
【解決手段】複数の画素領域が定義された基板２１０と、画素領域の所定部分に一方向に構成された複数のゲート配線と、絶縁膜を介して交差するデータ配線と、ゲート配線とデータ配線との交差地点に位置して、ゲート配線から延長されたゲート電極、アクティブ層、ソース電極及びドレイン電極を含む薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタでソース電極及びドレイン電極間のアクティブ層上に形成されたチャネル絶縁膜２４２と、画素領域でドレイン電極と接触して形成される画素電極２８１と、ゲート配線から延長されて一端に形成され、ゲート絶縁膜を介して透明電極パターンと接触するゲートパッド２７７と、データ配線から延長されて一端に形成され、アクティブ層パターン上に形成されたデータパッド２７８とを含む。 （もっと読む）