【課題】従来の光ファイバよりも大きな実効断面積を実現することができる光ファイバを提供する。
【解決手段】コア部２と、前記コア部２を包囲し、前記コア部２の屈折率よりも低い屈折率のクラッド部３と、を備える光ファイバ１であって、前記クラッド部３は、内部に設けられる複数個の空孔部５が前記コア部２に対して周回状に形成された第１と第２の空孔部層５１，５２と、を備える。前記コア部２の実効屈折率分布が一番高く、前記第１の空孔部層５１の実効屈折率分布が一番小さくなるように空孔部５を構成して、屈折率分布がＷ型分布となるように形成したので、従来の光ファイバよりも大きな実効断面積を実現できる。 （もっと読む）

【課題】光ファイバのコア部内へ紫外線光を効率良く閉じ込めて伝送できること、透過率の高い光ファイバ材料で構成した光ファイバを提供すること、そして光ファイバ内に入射した紫外線光によって生じる劣化（吸収損失の増大）を少なくすることができる光ファイバの構造を提供すること。
【解決手段】高屈折率の円形状のコア部とその周りを覆う低屈折率のクラッド部とからなる光ファイバにおいて、前記コア部に少なくともＳｉ−Ｈ基とＯＨ基とを含有しているＳｉＯＮを用いたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】シングルモード動作と大きな実効断面積とを両立させることが容易な光ファイバを提供する。
【解決手段】ＰＢＧＦ１Ｂは、コア領域１０と、このコア領域１０を取り囲むクラッド領域２０Ｂと、このクラッド領域２０Ｂを取り囲むジャケット領域３０とを有し、ファイバ軸に沿って一様である屈折率分布を有する光ファイバである。クラッド領域２０Ｂは、ファイバ軸に垂直な断面において、低屈折率背景領域２２に高屈折率領域２１が三角格子状に配列された二次元周期構造を有する。コア領域１０は、断面の中央部における二次元周期構造の７つの格子点の欠陥によって形成されている。クラッド領域２０Ｂは、断面において半径方向に連続的に高屈折率領域が取り除かれた帯状の周期構造欠陥領域２３を含む。 （もっと読む）

【課題】端面の損傷や空孔に充填されたＵＶ硬化型樹脂の陥没を低減することができ、通常のＳＭＦと低損失で接続することができる光ファイバ、光ファイバ端面部構造及び光コネクタを提供する。
【解決手段】コア４１の周囲に複数の空孔４３を有する光ファイバにおいて、光ファイバ端部１６に硬化後の２５℃でのヤング率が８〜５００ＭＰａのＵＶ硬化型光透過性樹脂を充填・硬化し、その光ファイバの端面２０を研磨処理した。 （もっと読む）

複数の押出し成形された非円形ケインを含むフォトニック結晶ファイバであって、押出し成形された非円形ケインのそれぞれが少なくとも１つの孔を備える。フォトニック結晶ファイバを製造する方法であって、ガラス材料を非円形の外断面を有するガラス管に加熱成形する工程、ガラス管を線引きして複数のケインを得る工程、ケインを積層してプリフォーム構造を生成する工程、および、プリフォーム構造を線引きしてフォトニック結晶ファイバを得る工程を含む。
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第１の屈折率,ｎ_１を有するシリカ系コア及びコアを囲む少なくとも１つのシリカ系クラッドを有し、少なくとも１つのシリカ系クラッドが屈折率を下げる非周期的ガス入り空孔を含み、空孔の少なくとも８０％の最大断面径が２０００ｎｍ未満であり、少なくとも１つのシリカ系クラッドに直に接し、その内側にある、ファイバ層のＮＡが少なくとも０.２である、光ファイバ。
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本明細書において説明される多くの構造の中には、所望の分散スペクトルを提供するように設計されたフォトニック・バンドギャップ・ファイバが含まれる。さらに、広い伝送帯域およびより低い伝送損失を達成するための設計も議論される。たとえば、いくつかのファイバ設計では、クラッディングにおける高屈折率材料のより小さい寸法および大きなコアのサイズは、広いスペクトル範囲にわたって小さい平坦な分散を提供する。他の例では、コアに最も近い高屈折率リング形領域の厚さは、所望の波長において負の分散またはゼロの分散を提供するように、十分に大きな寸法を有する。さらに、同心状のリングまたは円に沿って分布した低屈折率クラッディングの特徴が、広いバンドギャップを達成するために使用されることが可能である。
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