【課題】外部からの紫外光による悪影響を回避可能な投射装置を提供する。
【解決手段】投射装置２０は、光学素子５０と、照射装置６０と、光変調器３０と、中間光学系７０と、投射光学系８０とを備える。投射装置２０は、走査デバイス６５により、ホログラム記録媒体５５上をコヒーレント光で走査して、ホログラム記録媒体５５で拡散されたコヒーレント光を中間光学系７０に入射して、この中間光学系７０でコヒーレント光の発散角を抑制した上で、被照明領域ＬＺを照明する。これにより、ホログラム記録媒体５５で拡散されたコヒーレント光のうち、被照明領域ＬＺの照明に利用されないコヒーレント光の割合を低減でき、被照明領域ＬＺの照明強度の向上が図れる。 （もっと読む）

【課題】スペックルを目立たなくさせることができると共に、小型且つ低コストである投射装置を提供する。
【解決手段】投射装置は、光学素子と、第１の光源と、走査デバイスと、空間光変調器と、空間光変調器上の変調画像を投射面上に投射する第１の投射光学系と、第２の光源と、走査信号で走査デバイスを制御し、画像信号で空間光変調器を制御する制御部とを備える。走査デバイスは、走査信号に応じて、第１の光源からのコヒーレント光を光学素子上で走査させ、第２の光源からの非可視光を投射面上で走査させる。光学素子の各位置に入射して拡散されたコヒーレント光は、空間光変調器を重ねて照明する。投射装置は、投射された変調画像を指し示す指示体によって反射された非可視光を検出する検出部を備える。制御部は、検出部によって非可視光が検出されたタイミングにおける走査信号と画像信号とに基づいて、指示体が指し示した変調画像上の位置を特定する。 （もっと読む）

【課題】コヒーレント光源を用いながら、スペックルの発生を効率的かつ十分に抑制する。
【解決手段】レーザ光源５０で発生させたレーザビームＬ５０を、光ビーム走査装置６０によって反射させ、反射型かつ体積型のホログラム記録媒体４５に照射する。ホログラム記録媒体４５には、照明用の像３５がホログラムとして記録されている。光ビーム走査装置６０は、レーザビームＬ５０を走査基点Ｂで屈曲させてホログラム記録媒体４５に照射する。このとき、レーザビームの屈曲態様を時間的に変化させ、屈曲されたレーザビームＬ６０のホログラム記録媒体４５に対する照射位置が時間的に変化するように走査する。ビームの照射位置にかかわらず、ホログラム記録媒体４５からの回折光Ｌ４５は、空間光変調器２００上に照明用の像３５を生成する。空間光変調器２００上の変調映像は、投射光学系３００によってスクリーン４００上に投射される。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィにおける使用のための現在の設計の投影対物器械は、露光視野にわたって変化する迷光成分を有する。
【解決手段】視野にわたる迷光成分の変動は、付加的迷光を導入することによって低減され、及び／又は別の投影対物器械の変動に適応させることができる。これは、視野近接表面の表面粗度を事前適応させるか又は変更することにより、及び／又は特別にターゲットを定めた光散乱特性を有する光学要素を瞳平面に設置することにより有利に達成される。このことにおいて、本発明は、視野にわたる迷光成分の変動、及び異なる投影対物器械の迷光成分の異なるそれぞれの変動が、半導体構成要素の製造業者に対して迷光成分それ自体よりもより大きい問題を呈するという観測を利用する。 （もっと読む）

【課題】広帯域波での画像形成が可能である空間搬送周波数をインターフェロメトリックシステムであり、散乱媒質中の物体のホログラフィック画像を得る。
【解決手段】時間的、空間的に拡大されたインコヒーレント光源１からの光線は、ウエーブスプリッタ２によって、オブジェクトブランチ2.1とレファレンスブランチ2.2に分割され、前者の光は、第1画像機構3.1、第1スキャニング機構8.1を進行して反射器の第１伝達システム6.1に入射し、Ｚ1〜Ｚ4の平面鏡で反射され、画像出力機構4を経由し出力面7に到達する。後者の光も、第1画像機構3.1第2スキャニング機構8.2を進行し回折格子5を介して反射器の第2伝達システム6.2に入射し、Ｚ6、Ｚ5の平面鏡で反射されて画像出力機構4を経由し出力面7に到達する。βとαとの間の関係は、sin(β) ＝ sin(α)／ｍである（ｍは画像出力機構4の倍率）。第1画像機構3.1と第2画像機構3.2との両画像は、光学的に共役である。 （もっと読む）

【課題】画像投影装置、特にスクリーン上に二次元画像を形成するための画像投影装置を提供する。
【解決手段】コヒーレント照明手段（４２）、コヒーレント照明手段からの光の経路に位置する電気アドレス指定空間光変調器手段（４６）、電気アドレス指定空間光変調器手段上に表示するためのコンピュータ生成ホログラム画像を生成するための手段（４９）、及び電気アドレス指定空間光変調器手段によって回折した光をスクリーン（５０）に向けるための光学要素（４４）を含む、スクリーン（５０）上に画像を形成するための装置。装置は、電気アドレス指定空間光変調器手段によって表示された１つ又は複数のコンピュータ生成画像がスクリーンに形成される２次元画像をもたらすように配置される。 （もっと読む）

【課題】０次光による背景雑音を低減し、コントラストの高い集光点を形成することが可能な、発光素子アレイ方式の露光装置及びこれを用いた画像形成装置を提供する。
【解決手段】基板上に複数の発光素子が一次元状又は二次元状に配列された発光素子アレイと、基板の上方に配置されたホログラム記録層と、ホログラム記録層の複数の発光素子の各々に対応する位置に、複数の発光素子の各々から射出された各光を各光の照射領域よりも外側に回折し且つ集光するように、複数のホログラム素子が形成されたホログラム素子アレイと、を備えるように露光装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】三次元カラー表示装置及び三次元カラー映像表示方法を提供する。
【解決手段】複数個の光源のうち、いずれか１つの光源からのカラービームを基準ビーム及び信号ビームとして利用してホログラムが記録されたボリューム回折素子に、複数個の光源から照射された互いに異なるカラービームを回折させてカラー映像を表示する三次元カラー表示装置である。 （もっと読む）

透明な媒体の中に分散した１つ以上の粒子といった試料の画像を作成するインラインホログラフィである。光散乱理論の結果を用いたこれらの画像の分析により、ナノメートル分解能での粒子のサイズと、１０００分の１の範囲内での粒子の屈折率と、ナノメートル分解能での粒子の３次元位置とが得られる。この手順は、試料および試料媒体の力学的特性と、光学的特性と、化学的特性とを迅速かつ直接的に特徴付ける。
（もっと読む）

本発明は、シーンの物体光点(OLP)を三次元再構成するホログラフィック再構成システムに関し、照明手段(LQ1…Q4)の干渉が可能な光波を、少なくとも一つのビデオホログラムにより変調する空間光変調器手段(SLM)、並びに、変調された光波をフォーカスして、観察者の眼の少なくとも一つの眼の位置(EPR, EPL)に物体光点(OLP)を再構成する光学フォーカス手段(LA)を備える。システム制御器(SC)により制御される電気光学偏向手段(DM)は、物体光点を再構成する、変調光波を少なくとも一つの眼の位置にフォーカスし、眼の位置の変化に変調光波を追従させる。本発明によれば、電気光学偏向手段は、個別に制御可能なマイクロセル(DMC)からなる面が可変のレリーフ構造を有する制御可能な光回折格子である。前記マイクロセルは、互いにある距離をもってグリッド配置され、電気制御信号の影響の下、面のレリーフグリッドの回折スペクトル内の光回折効率を変化させる。 （もっと読む）

太陽放射の集中におけるエネルギー損失を減少させ、追跡要件を減少または省略しながら、太陽スペクトルの相当部分を利用する。ホログラフィック改良型太陽光発電ソーラー・モジュール（１０、１０'、１０”、１０'’’）は、互いにほぼ平行な外側主面と内側主面とを有する第１の基板を備え、前記第１の基板は、光学的に透明な基板であり、かつ、前記光学的に透明な基板の前記内側主面に透過格子（１２）を有し、互いにほぼ平行な外側主面と内側主面とを有する第２の基板を備え、前記第２の基板は、前記第２の基板の前記内側主面上に、反射格子（１４）を有し、前記透過格子と前記反射格子との間に配置され、それらに対して垂直に向けられた少なくとも１つの太陽電池と、を備える。
（もっと読む）

【課題】ズーム機能を備え、小型化、かつ、低コスト化を図るとともに、利便性に優れたプロジェクタを提供すること。
【解決手段】光を射出する光源装置１１と、該光源装置１１から射出された光を画像情報に応じて変調する空間光変調素子３０と、空間光変調素子３０により変調された光を中間像として結像させるズーム光学系を有する倍率調整部と、前記中間像を被投射面上に投射する投射手段４３とを備え、倍率調整部のズーム光学系４１が、中間像の倍率を変化させることによって、少なくとも被投射面５０に投射される投射画像の少なくとも一方向の倍率を変化させることを特徴とする。 （もっと読む）

シーンの再構成のためのホログラフィ投影装置は、波面を生成するために十分な量のコヒーレント光を有する少なくとも１つの光源（２）を具備する。更に、投影装置は、２次元に設計される光変調装置（３）を有する少なくとも１つの変調エレメント（４）を具備する。各例において、光変調装置（３）及び走査エレメント（５、６０）は、２次元光変調装置（３）から構成される変調エレメント（４）の１次元配列のみが走査エレメント（５、６０）により放射される光を走査するように組み合わされる。 （もっと読む）

光記録担体を走査するための光学走査装置。光学走査装置は、放射線源系（６６１；７６１）と、調節可能な構造を有する流体メニスカス（１６；１１６，１３８；２１６；３１６）によって互いから分離される第一流体（Ａ）と第二流体（Ｂ；Ｃ）とを含む光学素子（１；１０１；２０１；３０１）と、第一種類の波面修正を導入するために流体メニスカス構造を調節するために配置される制御系（２０；１２０；２２０；３２０）とを含む。第一種類の波面修正は、放射線ビームを入射放射線ビーム経路（２；１０２；２４４；３４８）から複数の出力放射線ビーム経路（２４，２６；１４０；２４６；３５０）の１つの上に方向変更させ、各出力放射線ビーム経路は、入力放射線ビーム経路から異なる角変位（α、β、γ、δ、ε）を有する。制御系は、第二種類の波面修正を導入するために流体メニスカス構造を調節するようさらに配置され、第二種類の波面修正は、放射線ビームの波面収差を補償するよう配置され、補償される波面収差は角変位に従って調節される。
（もっと読む）

エンボスシリンダ上に設けられたポリマー被覆の表面にドットマトリックス状のホログラフィーパターンを直接書込むためのレーザーアブレーション加工が開示される。所望のホログラフィーパターンが、干渉する少なくとも２本のレーザービームによってエンボスシリンダのポリマー被覆に１画素ずつアブレーション加工される。直接書込むレーザーアブレーション技術によれば、エンボスシリンダの表面に形成されるホログラフィーパターンのサイズの制限、大きなシムを形成するために小さな画像を組み合わせる必要性、複数のシムを使用する必要性がなくなる。と言うのは、大型のエンボスシリンダに、様々な大きな像を形成するために、１画素直接アブレーション加工できるからである。更に、レーザーアブレーションによって直接書込むために、これに限定されないが一体成形や塗布を含めた様々な方法によってポリマー被覆をエンボスシリンダ上に配設してもよい。
（もっと読む）