本発明は凹部により隔てられる第１のエリアと第２のエリアを有するボディに関する。上記凹部は、上記ボディの表面沿いに移動する液体が、上記第１のエリアと第２のエリアとの間で移動するのを防がないにしても、その量を少なくするような大きさを有する。上記第１のエリアと第２のエリアのどちらか一方の内側には１つ以上のアラインメントマークを設けることが可能である。このように、上記凹部は、ある量の液体がアラインメントマークに重なり合うのを防がないにしても、その量を少なくするモートとして作用する。
（もっと読む）

【課題】 ナノインプリント技術により記録媒体を製造する方法において、モールドとディスク基板との位置合わせが、モールドに突起物を取り付けなくても行えるようにする。
【解決手段】 凹凸パターン２が形成されたモールド１に、ディスク基板４と位置合わせするときに使用するアライメントマーク３を形成しておく。このアライメントマークを利用して、モールド１とディスク基板４との位置合わせを行い、その後、レジストが塗布されたディスク基板にモールドを押し付けて、レジスト膜８にモールド１の凹凸パターンを転写する。以降、このレジストパターンをマスクとするエッチング工程を経て、ディスク基板の記録面に記録層を形成する。本発明により、アライメントマークを利用した、モールドとディスク基板との位置合わせ方法を確立できた。 （もっと読む）

【課題】樹脂を硬化させることにより所望の凹凸パターンを備えたフィルムを製造する製造装置であって、不完全形状の生じにくいフィルム製造装置を提供する。
【解決手段】所望の形状が表面に刻まれた型ロール１４と押しロール１７との間に未硬化の樹脂層２２を通過させ樹脂層２２を前記形状に成型するフィルムの製造方法であって、樹脂層の幅を型ロール１４の幅よりも狭く、厚さを型ロール１４と押しロール１７との間隔よりも厚く形成しておくことにより、型ロール１４と押しロール１７との会合部に樹脂層を構成する樹脂が滞留しながら幅方向に押し広げられる滞留部２３を形成する。この滞留部において、気泡が脱気されるため、不完全形状が生じにくい。 （もっと読む）

本発明では、ソフトリソグラフィー用スタンプ（30）、およびそのようなスタンプ（30）を製作する方法が提供される。本発明によるスタンプは、ブロック領域（37）およびプリント領域（38）を有する。ブロック領域（37）は、プリント領域（38）を構成する材料とは異なる材料で構成され、プリント化合物に対する透過率、拡散率、吸収率または吸着特性が抑制されており、これにより、ブロック領域から被パターン化基板もしくは被プリント基板への、プリント化合物の化学的もしくは物理的な輸送もしくは転写が防止され、または有意に抑制される。この方法では、スタンプ（30）にプリント化合物を含浸させると、プリント化合物は、プリント領域（38）にのみ拡散するため、プリント化合物は、被パターン化基板のプリント領域（38）にのみ転写され、突出素子（32）同士の間の空気ボイド（33）を介したプリント化合物の拡散は、実質的に生じない。
（もっと読む）

本発明は、サポート・ボディと、フローティング・ボディと、複数のたわみアームとを備えたコンプライアント・デバイスを対象としている。複数の伝達アームは、それぞれ、サポート・ボディとフローティング・ボディの間に接続されており、それらの間で並列に荷重を伝達している。そのために、たわみアームは、第１のセットと第２のセットのたわみ継手を有している。第１のセットのたわみ継手は、第１の方向に沿って展開している第１の軸の周りの前記たわみアームの回転動きを容易にしている。第２のセットのたわみ継手は、第１の方向に対して横方向の第２の方向に沿って展開している第２の軸の周りのたわみアームの回転動きを容易にするようになされている。たわみ継手は回転継手である。
（もっと読む）

本発明は、マイクロおよびナノスケールのインプリント方法、ならびにポリマ、セラミックおよび／または金属材料からなる支持されたおよび／または独立した３Ｄマイクロおよび／またはナノ構造体を作製するための上記方法の使用に関する。いくつかの実施形態において、これらの構造物を作製する際に、二重モールドアプローチが採用されている。この方法において、表面処理を用いて、異なるモールドおよび／またはモールドの異なる部分に、異なる界面エネルギを与えている。このように表面処理することにより、構造体をインプリントし、基板に移転させて、３次元（３Ｄ）構造体を形成することができる。いくつかの実施形態において、表面処理および用いられるポリマのガラス転移温度の差異により、独立したマイクロおよび／またはナノ構造体をフィルム状および／または個別に形成するために、３Ｄ構造体をモールドから分離しやすくすることができる。
（もっと読む）

放射線で露光した時に固化するように設計された材料の表面層（１４）を支持する基材（１２）に、構造化された表面（１１）を有するテンプレート（１０）からパターンを転写する方法であって、インプリント装置中で、構造化された表面が表面層に面するように、テンプレートと基材とを互いに平行に配置し、ヒーター装置手段（２０）によって、テンプレートおよび基材を温度Ｔ_ｐに加熱し、温度Ｔ_ｐを維持しながら、テンプレートを基材に向かって押しつけ、パターンを前記表面層の中にインプリントし、表面層を放射線（１９）で露光して、表面層を固化させ、そして前記表面層を後焼き付けすることを含む方法。
（もっと読む）

一側面に形成されたパターンを利用して基板上に目標パターンを形成する鋳型は、非結晶性フッ素樹脂からなる。前記鋳型は、前記パターンに対向するパターン構造を有するマスターモールドを利用して製造される。 （もっと読む）

【課題】ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロスケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。 （もっと読む）

本発明は、電磁放射線によりポリマーレリーフ構造体を作製する方法に関する。本方法では、被覆基材の界面張力を低下させる化合物が使用される。その結果、アスペクト比さらには表面の曲率が向上するので、光学素子および複製目的に有益である。 （もっと読む）

細長い線状ポリマー層を含む事前フォーマット済み線状光データ記憶媒体を製造するための機器。この機器は、回転軸のまわりを回転するように取り付けられたドラムを含んでおり、そのドラムは、細長い線状ポリマー層がドラム上に巻き付けられるときに、光学的可読エンボスの少なくとも１つのパターンをその層内にエンボス加工するための、突起の所定のパターンを有する周外面を含んでいる。また、この機器は、細長い線状ポリマー層がドラムの外面の突起から取り除かれる前に、その層のエンボスを加熱するための、ドラムに隣接して配置される熱放射源も含んでいる。
（もっと読む）

物質表面上への三次元ミクロ構造形成方法、その使用及び得られたミクロ構造化製品。詳細にはサポートの平面上に三次元ミクロ構造を形成する方法であり、上記サポート表面上への平らで均一な第一シリコーン層の適用ステップ及び上記第一シリコーン層上への三次元的にミクロ構造化された第二シリコーン層の適用ステップを含み、上記第一シリコーン層及び第二シリコーン層は積層的に結合されて、サポート表面上に規則的に分散され抗粘着性を確保する通常の三次元ミクロ構造を形成し、基板のフレキシブル表面、特に上記シリコーン層上に配置された粘着材の表面も２個のシリコーン層により形成された三次元ミクロ構造の逆転写によりミクロ構造化され、上記シリコーン層は、加熱、紫外線若しくは電子線照射等による硬化により固定される方法、その使用及びミクロ構造化されたフィルム、特に自己粘着性フィルム。
（もっと読む）

構造化された表面を有するテンプレート（１０）から放射重合可能流動体（１４）の表面層を保有する基板（１２）へパターンを転送する装置および方法。装置は、対向する表面（１０４、１０５）を有する第１の主要部分（１０１）および第２の主要部分（１０２）、上記主要部分の間の間隔（１１５）を調整する手段、上記構造化された表面が上記表面層と対面するように上記間隔の中で上記テンプレートおよび基板を相互に平行した係合関係に支持する支持手段（１０６）、上記間隔の中へ放射を放出するように構成された放射源（１１０）を備える。キャビティ（１１５）は、上記テンプレートまたは基板を係合するように構成された可撓性膜（１１３）を含む第１の壁を有し、上記キャビティの中に存在する媒体へ調整可能超過圧力を加える手段（１１４、１１６）が設けられ、基板とテンプレートとの間の接触面の全体にわたって均一に分布する力が得られる。
（もっと読む）

本発明は、分配の幾何学的配置と導電性テンプレートに向けられ、さらにインプリントリソグラフィプロセスの間における高速充填とスループットを実現する導電性テンプレートを形成する方法に向けられる。
（もっと読む）

パターン化表面をウェブの両側にキャスティングする装置。この装置は第１のパターン化ロールと、第２のパターン化ロールと、第１および第２のパターン化ロールを回転する手段とを含み、これらのパターンは連続する動作において、ウェブの互いに反対側に転写される。このプロセス中、これらのパターンは、少なくとも１００ミクロン以内、好ましくは少なくとも２０ミクロン以内まで連続位置合せで維持される。
（もっと読む）

本発明は、成形技術に関する。さらに詳しく述べると、本発明は、可とう性成形型と、その製造方法と、微細構造体の製造方法とに関する。本発明は、例えばプラズマディスプレイパネルの背面板のバリアリブのような種々の微細構造体の製造に利用することができる。
（もっと読む）