半導体製造プロセスによって得られる廃棄物流からの少なくとも１つの酸性ガス成分、水素化物ガス成分、又はこれらの副生成物を除去する装置及びプロセスは、酸性ガス成分又は水素化物ガス成分に関して高容量吸収親和力を有する第１の吸収基盤材料と、酸性ガス成分又は水素化物ガス成分に関して高い捕捉速度を有する第２の別個の吸収基盤材料と、廃棄物流が上記吸収基盤材料を通じて流れて酸性ガス成分又は水素化物ガス成分が減少されるように、ガス流を上記吸収基盤材料に通じさせる状態で上記プロセスと接合する流路とを備える。第１の吸収基盤材料は塩基性炭酸銅を含むことが好ましく、第２の吸収基盤は、ＣｕＯ、ＡｇＯ、ＣｏＯ、Ｃｏ_３Ｏ_４、ＺｎＯ、ＭｎＯ_ｘ及びこれらの混合物のうちの少なくとも１つを含むことが好ましい。
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【課題】 ホウ素とフッ素の吸着量を増加させる。
【解決手段】 ホウ素とフッ素の少なくともいずれか一方を被吸着物質とし、被吸着物質を含む排水を遷移金属を主成分とする多孔質体に接触させて被吸着物質を吸着し除去するもので、ヘキサゴナル構造の多孔質から成るジルコニウムの使用が好ましい。 （もっと読む）

本発明は、性能を改良し、かつ可能であれば複数の濾過機能を一体型フィルタに組み込むことによって、粒子状物質及び気相汚染物質のような汚染物質を、汚染に影響されやすい電子又は光学機器（例えばコンピュータディスクドライブ）のような密閉した環境から濾過するための機器に関する。濾過性能を改良する流れ層をフィルタは含んでいる。濾過機能には受動的吸着アセンブリが含まれ、注入口、又はブリーザフィルタ及び吸着フィルタの組み合わせが含まれてもよい。さらに、筐体内部に望まれる機能に応じて、再循環フィルタ、拡散チューブ、及び外部実装機能をフィルタに追加してもよい。
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金属の酸化物及び促進剤を含む組成物が、開示され、そこでは、その促進剤の少なくとも一部分は、低減された原子価の促進剤として存在するものであると共に、このような組成物を調製する方法が、開示される。このように得られた組成物は、炭化水素の流れから硫黄を取り除くための脱硫化のゾーンにおいて用いられる。 （もっと読む）

本発明は、金属が、敏感な装置上に堆積せず、デバイスの故障を引き起こさないための、高表面積の無機酸化物を含む浄化材料を使用した、超高純度ガスから金属化合物を除去するための方法および装置である。
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【課題】 吸着剤として金属酸化物吸着剤と炭素質吸着剤とを使用してＮＯ_x含有ガスを処理するに当たって、従来法よりもより一層効率的である上に、ＮＯ₂を選択的に除去することができ、且つＮＯを増加させない方法と吸着剤を提供する。
【解決手段】 本発明に係る二酸化窒素の除去方法は、ＮＯ_xを含む被処理ガスから二酸化窒素を除去する方法であって、ルテニウム化合物を担持した遷移金属酸化物を含む吸着剤と炭素質吸着剤とを混合した二酸化窒素除去層へ、被処理ガスを通気することに要旨を有する。 （もっと読む）

本発明は、半導体工業において使用するのに十分な不純物水準にまでＣＯ_２を除染するための方法である。本発明は、汚染物の除去に適した条件下で、少なくとも１種の金属の組み合わせ金属状態に流体ＣＯ_２を曝すことを含む。次いで、各吸着剤を除染／活性化することにより、吸着剤を混合酸化状態に戻し、さらなる回数の除染を可能にする。各吸着剤は、互いに補完し合い、別々の汚染物を選択的に吸着するように選択される。加えて、各吸着剤は、再生時に金属の一部のみが還元され、その１種の吸着剤が元の状態に戻されるように、異なる程度の還元を受ける。 （もっと読む）

【課題】アンモニウムイオンを容易に吸着することが可能な吸着剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：
Ｍ¹_8+xＭ²_xＮｂ_22-xＯ₅₉・ｎＨ₂Ｏ （１）
（式中、Ｍ¹は、水素及びルビジウムからなる群より選択される少なくとも一種の元素であり、Ｍ²は、チタン、ジルコニウム及びスズから選択される一種の元素である。また式中の添字ｘは、０≦ｘ≦２を満たす数であり、ｎは、０≦ｎ≦１２を満たす数である。）で表される化合物を有効成分とするアンモニウムイオン吸着剤；層間隔が６〜１０Åである層状のマンガン酸化物を有効成分とするアンモニウムイオン吸着剤；並びに、縦に２〜３単位、横に２〜３単位のマンガン酸化物八面体で囲まれたトンネル構造からなるマンガン酸化物を有効成分とするアンモニウムイオン吸着剤。 （もっと読む）

【課題】 冷蔵庫に光触媒を用いた脱臭装置を搭載することが提案されているが、紫外線の発光源としてダイオードを用いた場合、照射強度が弱く、多数のダイオードが必要であった。
【解決手段】 光触媒を用いて脱臭を行う脱臭装置において、光触媒として可視光反応型光触媒を用いた。光触媒を備えるハニカム型のフィルタを用いて脱臭を行う脱臭装置において、前記光触媒を励起させる紫外線の光源としての紫外線発光ダイオードを用いると共に、前記紫外線発光ダイオードからの前記紫外線が前記フィルタの片側から半分ぐらいまで照射されるように紫外線発光ダイオードの照射角度を設定すると共に、この片側に前記光触媒を配し、残りの側に酸化触媒を配する。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置の内部空間やクリーンルームなどの高度の清浄度が必要とされる空間内の空気を浄化するのに好適に用いられる濾材を提供する。特に、湿度が低い雰囲気中で用いることができ、かつ複数の除去機能を持ち、しかも圧力損失が少ない濾材及び該濾材を備えたフィルタユニットを提供する。
【解決手段】 気体を浄化する濾材であって、有機物を吸着する活性炭と、酸性ガスまたはアルカリ性ガスを吸着するゼオライトと、複数の不織布とを備え、前記活性炭及び前記ゼオライトを前記複数の不織布の間に配置した。 （もっと読む）

抗菌特性を有する改良された流体ろ材、ならびに抗菌特性を有する改良された流体ろ材を製造および使用するための方法、ならびに流体ろ過用途においてそれらを使用するための方法の開示であって、１つの代表的な流体用分離媒体が、少なくとも１つの抗菌成分を含む有機成分および無機成分のベース混合物を含み、ベース混合物の少なくとも１つの成分が、少なくとも１つの抗菌成分の表面に共有結合された電荷修正された基を含む。

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マンガン系八面体型分子ふるい(Mn-OMS)材料を利用した高容量の硫黄酸化物吸収剤が開示される。燃焼排ガスに対する排出量削減システムは、NO_xトラップ(26)または粒子フィルタより上流に位置するこれらの高容量の硫黄酸化物吸収剤を含んだ除去装置(24)を含む。

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有機高分子樹脂及び無機イオン吸着体を含んでなる、外表面に開口する連通孔を有する多孔性成形体であって、
連通孔を形成するフィブリルの内部に空隙を有し、
かつ、該空隙の少なくとも一部はフィブリルの表面で開孔しており、
該フィブリルの外表面及び内部の空隙表面に無機イオン吸着体が担持されている上記多孔性成形体。 （もっと読む）

本明細書中には、コンビナトリアルライブラリの作製方法であって、ケイ素、グラファイト、ホウ素、炭化ホウ素、窒化ホウ素、アルミニウム、ゲルマニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素又はホウ化ケイ素からなる基材上に、リチウム、マグネシウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、アルミニウム、又は上述の反応体の１種以上を含む組合せである１種以上の反応体を配置し、基材を熱処理して、２以上の相を有する拡散多重体を形成し、拡散多重体を水素に接触させ、水素の吸収の有無を検出し、及び／又は水素の脱離の有無を検出することを含んでなる方法が開示される。 （もっと読む）

本発明は、水素捕捉化合物、前記化合物の製造方法およびその使用に関する。これは、水素が放出されるか、特に安全性の理由から捕捉されるべきあらゆる状況下で使用することができる。本発明の水素捕捉化合物は、式ＭＸ（ＯＨ）［ここで、Ｍは、二価の遷移元素、例えば、ＣｏまたはＮｉであり；Ｏは、酸素原子を表し；Ｘは、Ｏを除く第１６族からの原子、例えば、イオウ原子を表し；Ｈは、水素原子を表す］の少なくとも１種の金属塩を含有することを特徴とする。本発明の水素捕捉化合物は、材料内部または遊離容量の水素を効率的に捕捉することができる。 （もっと読む）

ナノサイズの金属酸化物固溶体の製造方法を開示する。金属酸化物固溶体は、水および少なくとも２種の水溶性金属化合物を含む反応混合物を２００〜７００℃で、１８０〜５５０ｂａｒの圧力下で連続的に反応させることによって製造され、ここで、前記反応混合物は合計０．０１〜３０重量％の量の金属化合物を含み、かつ前記固溶体は１〜１，０００ｎｍの結晶子サイズを有する。金属酸化物固溶体は、特に紫外線遮断剤または酸素貯蔵成分として適している。
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本発明は、高さ、幅、および長さ（高さは約１０ｍｍ以下）を有し、プロセスマイクロチャネルの幅に沿う一方向とプロセスマイクロチャネルの長さに沿う他の方向に展延する基底壁を有する、少なくとも１個のプロセスマイクロチャネルと、基底壁からプロセスマイクロチャネル中に突出し、プロセスマイクロチャネルの長さの少なくとも一部に沿って展延する、少なくとも１個のフィンと、フィンに担持された触媒または吸着媒体とを含む装置に関する。
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１以上の金属ヒドロキシ塩および、マトリックス、バインダーまたは担体物質を含む組成物において、金属ヒドロキシ塩が、（ａ）金属としての（ｉ）１以上の２価金属、それらの少なくとも１はＮｉ、Ｃｏ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｆｅ、およびＭｎから成る群から選択される、または（ｉｉ）１以上の３価金属、のいずれか、（ｂ）骨組としてのヒドロキサイド、および（ｃ）置き換え可能なアニオンを含む化合物であるところの組成物。この組成物は、種々の触媒用途を有する。 （もっと読む）