【課題】トナーへの分散性やトナーの流動性低下の原因となる粗大な凝集粒子を含まず、また、トナーからの脱離を抑制することができ、従って、トナーへの均一分散性と流動性の付与効果に優れ、印刷画像上の白点の発生を抑制できる、トナー外添剤として好適な微細な一次粒子径を有するシリカ微粒子を提供する。
【解決手段】気相法により得られた平均一次粒子径が２０〜１００ｎｍの親水性シリカ微粒子を一般式（Ｉ）で表されるポリシロキサンで疎水化処理してなる疎水性シリカ微粒子であって、レーザー回折法による粒子の体積基準粒子径測定で粒子径１．５μｍ以上の凝集粒子の割合が１２％未満であることを特徴とする疎水性シリカ微粒子。
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【課題】所定量の半導体粉末を含む小塊を溶融して球状溶融体を形成し、これを冷却凝固させて半導体粒子を製造する方法において、ｐ型またはｎ型のドーパントがドープされた、質量と寸法形状のばらつきが小さい球状半導体粒子の効率的な製造を可能とする。
【解決手段】所定質量の半導体粉末とドーピング剤とを含む小固形体を造粒により形成する。これを、加熱して各小固形体内の半導体粉末を溶融させ、融合させて球状溶融体を形成し、冷却して凝固させる。小固形体にはバインダーを含むことが好ましい。ドーピング剤は、半導体粉末にドーピング剤を添加した混合物を造粒する方法、造粒操作中に添加する方法、および、造粒物をドーピング剤溶液に接触させる方法などにより、小固形体中に含ませることができる。 （もっと読む）

【課題】ゾルゲル法を利用して作製され且つ粉砕限界粒径前後の粒径を有する金属酸化物粒子。
【解決手段】ゾルゲル法により作製されたシリカ系ゲル状有機金属酸化物を、縦型筒状で上部が開口し、底部にガス吹き出し口９、１３を有し、内部にアジテーター３を備えた粉砕室１と、粉砕室１の開口部に接続され且つ分級ローター２５を備えた分級室２９と、分級室２９内外を貫通する製品回収管１７とを備えた粉砕機の粉砕室１に供給し、平均粒径が４〜８μｍとなるように粉砕分級する粉砕・分級工程と、粉砕分級後のゲル粒子を焼成する焼成工程と、を経て、粉砕分級後のゲル粒子よりも平均粒径の小さい金属酸化物粒子を作製する金属酸化物粒子の製造方法。 （もっと読む）

シリカ−ジルコニアナノクラスタを含有する充填剤が開示される。充填剤は、シリカナノ粒子のゾルと、予成形結晶ナノジルコニア粒子のゾルとを混合することにより調製され得る。充填剤は、乳白光等の所望の光学特性を提供し、歯科用組成物において有用である。 （もっと読む）

【課題】塗料成分に配合する場合に、粒子が壊れ難く、かつ部分的に亀裂などが生じても中空状態の機能を保持することができ、容易に平滑性が得られ、従来品よりも少い添加量で十分な断熱機能および遮音機能を得ることができる塗料用粒材とその塗料を提供する。
【解決手段】塗料に配合されるシリカ質の中空微粒子であって、平均粒径５〜１００μｍであり、内部空間が隔壁によって区切られた複数の独立気泡によって形成されていることを特徴とする塗料用粒材であり、好ましくは、８MPa静水圧浮揚残存率５０％以上であって、吸水率３％以下、ＳｉＯ₂含有量６５〜９０質量％、容重０.１６〜０.３５g/cm³であり、断熱用として１〜５０μm、遮音用として１〜２００μmの粒子径を有する塗料用粒材と該粒材を含有する塗料。 （もっと読む）

【課題】無薬注で安定して脱水処理が可能で、且つ高濃縮度でシリコンを回収することができるシリコン回収方法、及びシリコン回収装置を提供すること。
【解決手段】シリコン粒子の粒径分布に２つ以上のピークを有するシリコン粒子群を含む研削或いは研磨排水を、液体サイクロン１３等の湿式分級装置で大きい粒径のピークのシリコン粒子群を含む濃縮液（液体サイクロンボトム液Ｗ３）と、小さい粒径のピークのシリコン粒子群を含む希薄液（液体サイクロントップ液Ｗ２）の２つに分け、濃縮液を脱水乾燥機１７で脱水し、高濃度でシリコン粒子を回収する。 （もっと読む）

【課題】原料粉体の平均粒径が粒状化の過程において変動することが少なく、目的とする粒度分布を有する球状化粒子を１つのバーナにより得られる無機質球状化粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】拡散型のバーナの第一原料供給路１Ａに粗粉を、第二原料供給路６Ａに微粉をキャリアガスに搬送して送り込み、酸素を第一酸素供給路５Ａと第二酸素供給路７Ａとに二分して供給する。燃料ガスを燃料供給路４Ａに送り込む。粗粒の原料粉体を分散体積が小さく火炎温度が高い領域で加熱溶融し、細粒の原料粉体を分散体積が大きく火炎温度が低い領域で加熱溶融する。 （もっと読む）

本発明は、特殊な孔径分布とともに特に狭い粒径分布を有する沈降珪酸、それらの製造方法、およびゴム混合物のための充填剤としてのそれらの使用に関する。
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【課題】高純度シリコンを製造するための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】（１）トリクロロシランの生成、（２）区分（１）で生成されたトリクロロシランの不均化によるモノシランの生成、および（３）このようにして生成されたモノシランの熱的分解の区分を有し、その際、 区分（１）で、トリクロロシランの生成のためにシリコンは少なくとも１つの塩化水素処理工程において塩化水素と反応され且つ、それに同時に、区分（２）で副生成物として形成している四塩化ケイ素がシリコンおよび水素と反応される高純度シリコンの製造方法、およびトリクロロシランの生成のための生成装置（１）、モノシランを生成するためのさらなる装置（２）および生成されたモノシランの熱的分解のための装置（３）を有する高純度シリコンの製造設備であって、装置（１）が少なくとも１つの塩化水素処理反応器、少なくとも１つの変換反応器、トリクロロシラン含有反応混合物のための少なくとも１つの回収容器および少なくとも１つの分離装置を有し、装置（２）が少なくとも１つの不均化反応器および少なくとも１つの分離装置を有し、且つ装置（３）がモノシランのための少なくとも１つの分解反応器を有し、装置（２）が、装置（２）において形成している四塩化ケイ素が装置（１）における少なくとも１つの変換反応器に供給され得る方法により少なくとも１つの戻り配管によって装置（１）に接続されている、前記設備。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成石英粉を製造する方法において、生成したゲルを濃縮してシリカ含有率を高めて生産性を向上させた製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって生成したシリカ質のゲルを１５０時間以上放置して自然脱水した後に、乾燥し焼成して石英粉にすることを特徴とする合成石英粉の製造方法であり、例えば、容器内の純水を攪拌しながら四塩化珪素を添加してシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを常温大気下に２００時間以上放置して自然脱水させ、含水量比８５％以下に低減した後に、乾燥し焼成して石英粉にする合成石英粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】廃スラリーから簡易に多くの高純度シリコンを回収することができるシリコン回収方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン回収方法は、砥粒とクーラントを含むスラリーを用いたシリコン塊又はシリコンウエハの切断又は研磨によって前記スラリーにシリコン屑が混入された廃スラリー又はその濃縮分を固液分離してシリコン屑を含有するシリコン回収用固形分を取得する第１固液分離工程と、洗浄液を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄液と前記シリコン回収用固形分を固液分離する第２固液分離工程とを備え、前記クーラントは、液状有機物を含み、前記洗浄液は、前記液状有機物に対し相溶性を有し且つ前記液状有機物よりも沸点が低い低沸点有機溶媒と水とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりも小さな粒径をもつ粗大粒子であっても、含有する量を制御できる金属酸化物微粒子の製造方法を提供することを解決すべき課題とする。
【解決手段】５μｍ以下の値である所定粒径以上の粒径をもつ粗大粒子を金属酸化物粉末から除去して前記粗大粒子の含有量が目標値以下となった金属酸化物微粒子の製造方法であって、前記粗大粒子を原料粉末から除去して被処理粉末を得る粗大粒子除去工程と、前記被処理粉末に対して分級処理を施して、前記粗大粒子の含有量を相対的に向上させた粗大粒子分画を分離濃縮させる粗大粒子分離工程と、前記粗大粒子分画中に含まれる前記粗大粒子の含有量を測定する測定工程と、をもつ評価工程と、を有し、前記評価工程にて得られた前記含有量が前記目標値以下になるまで、得られた前記被処理粉末を前記原料粉末として前記粗大粒子除去工程を繰り返し行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】不均一な構造及び構成を有する珪酸、その製法及びエラストマー混合物中での充填剤としてのその使用
【解決手段】少なくとも二つの珪酸フラクシヨンを含有し、これらの少なくとも二つの珪酸フラクシヨンは、ＢＥＴ−表面積、ＣＴＡＢ−表面積及びＤＢＰ−吸収能の少なくとも１つの測定値において少なくとも１０％異なっていることを特徴とする不均一な構造及び構成を有する珪酸。 （もっと読む）

１５０〜２０００ｎｍのｄ₅₀−値、５００〜７０００ｎｍのｄ₉₀−値、２．５〜８ ＯＨ／ｎｍ²のシラノール基密度及び７０ｇ／ｌ以下の改変タップ密度を有している沈降珪酸は、液体系中での増粘化のため及びチキソトロピーの提供のために好適であり、沈降珪酸の現存品質に比べて増粘化及びチキソトロピー取得の場合に優れた作用効果を示す。この沈降珪酸は、非極性又は中程度極性の液体系、例えば不飽和ポリエステル樹脂系（ＵＰＥ−樹脂系）中でのチキソトロピー剤として最良に機能する。
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【課題】廃スラリーから簡易に多くのシリコンを回収することができるシリコン再生装置を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン再生装置は、砥粒とクーラントを含むスラリーを使用してシリコンを切断する切断装置又は研磨する研磨装置から排出された廃スラリー、又は前記廃スラリーが濃縮された廃スラリー濃縮分を固液分離してシリコン回収用固形分を取得する固液分離部と、第１洗浄部からの前記シリコン回収用固形分を溶融及び固化してシリコン含有塊を得る溶融部と、前記シリコン含有塊を破砕してシリコン含有破砕体を取得する破砕部と、前記シリコン含有破砕体を酸水溶液で洗浄しその後に水で洗浄する第２洗浄部を備える。 （もっと読む）

シリコン又はシリコン含有材料のピラー化粒子及びそれを製造する方法。
それらの粒子は、高分子バインダー、導電剤及び金属ホイル集電体を有する複合アノード構造及び電極構造の両方を作成するために用いられ得る。該粒子の構造は、充電／放電の容量損失の問題を克服するためである。 （もっと読む）

以下の特徴；面積：１００〜５０００μｍ^２、ＥＣＤ：５〜１００μｍ、周囲：２０〜４００μｍ、最大直径：１０〜１４０μｍ、最小直径：５〜８０μｍ（上記すべての値は平均値）、ＢＥＴ比表面積：＜１ｍ^２／ｍ、不純物量：＜５０ｐｐｍを有するシリカガラス粒子に関する。この粒子は、ａ）１５〜１９０ｇ／ｌの突き固め密度を有する熱分解法シリカ粉末をスラグに圧縮し、ｂ）これらを引き続いて微粉砕し、かつ、１００μｍを下回る直径を有するスラグ片及び８００μｍを上回る直径を有するスラグ片を除去し、ｃ）その際、スラグ片は３００〜６００ｇ／ｌの突き固め密度を有しており、かつ、ｄ）これらを引き続いて、ヒドロキシル基を除去するのに適した１個又はそれ以上の化合物を含有する雰囲気中で、６００〜１１００℃で処理し、かつ、ｅ）その後に１２００〜１４００℃で焼結することにより製造した。 （もっと読む）

【課題】工業的に且つ安価に生産可能で、しかも含有ウラン濃度を極めて有利に低減せしめることの出来る金属シリコンの精製方法を提供すること。
【解決手段】不純物を含む金属シリコンを細かく粉砕した後、その粉砕物から５μｍより小さな粒径の微粒子を分級除去することにより、５μｍ以上の粒径の金属シリコン粒子を採取し、次いでこの微粒子の除去された金属シリコン粒子を希薄フッ化水素酸中に浸漬する一方、該希薄フッ化水素酸に過酸化水素を添加せしめて、酸洗浄処理を実施し、更にその後、水洗して、乾燥するようにした。 （もっと読む）

【課題】塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いる沈降シリカ製品を提供すること。
【解決手段】沈降シリカは、水銀圧入によって測定されるように、６ｍ²／ｇを下回る５００オングストロームより大きい直径を有する全ての細孔のための累積表面積を有する多孔性シリカ粒子を含み、そして約８５％を超えるパーセンテージ塩化セチルピリジニウム（％ＣＰＣ）親和性を有する。沈降シリカ製品は特に塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いるのに適している。そして、有意義なレベルの低表面積シリカ製品に付着せず、このように抗菌作用に利用できるままである。シリカ製品を作製するためのプロセスは、ＣＰＣとのこの種の親和性を強化するために異なるプロセスステップの間に、硫酸ナトリウム粉の導入が含まれる。 （もっと読む）

【課題】廃スラリーから簡易に多くのシリコンを回収することができるシリコン再生装置を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン再生装置は、砥粒とクーラントを含むスラリーを使用してシリコンを切断する切断装置又は研磨する研磨装置から排出された廃スラリー、又は前記廃スラリーが濃縮された廃スラリー濃縮分を固液分離してシリコン回収用固形分を取得する固液分離部と、有機溶媒を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄部と、洗浄後の前記シリコン回収用固形分に対して分級を行って、分級前よりも砥粒の含有率が低減されかつシリコンの含有率が高められたシリコン含有粉体を取得する分級部とを備える。 （もっと読む）