【課題】 本発明により、抵抗を高く保つことが重要視される目的で用いられる純Ｓｉにとって、充填、成形、塗布などに用いた際に、極めて重要な特性である電流遮断性である接触抵抗の高い純Ｓｉ粉末を提供する。
【解決手段】 平均円形度が０．７５〜１．００であり、かつ相対密度が６５％以上を有するＳｉおよび不可避的不純物よりなることを特徴とする接触抵抗の高い純Ｓｉ粉末。（なお、ここでいう相対密度とは、タップ密度を純Ｓｉの真密度２．３３Ｍｇ／ｍ³ で除して１００を乗じた値（％）である）。また、上記相対密度が６５〜８０％である接触抵抗の高い純Ｓｉ粉末。さらに、上記Ｓｉ粉末をガスアトマイズ法にて製造する接触抵抗の高い純Ｓｉ粉末。 （もっと読む）

【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末を焼成し、この焼成したシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径Ｄ₅₀が１０〜２０００μｍの合成非晶質シリカ粉末であって、ＢＥＴ比表面積を平均粒径Ｄ₅₀から算出した理論比表面積で割った値が１．００〜１．３５、真密度が２．１０〜２．２０ｇ／ｃｍ³、粒子内空間率が０〜０．０５、円形度が０．７５〜１．００及び未溶解率が０．００〜０．２５であり、炭素濃度が２ｐｐｍ未満又は塩素濃度が２ｐｐｍ未満のいずれか一方或いはその双方を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径Ｄ₅₀が１０〜２０００μｍの合成非晶質シリカ粉末であって、ＢＥＴ比表面積を平均粒径から算出した理論比表面積で割った値が１．３５を超え１．７５以下、真密度が２．１０ｇ／ｃｍ³〜２．２０ｇ／ｃｍ³、粒子内空間率が０〜０．０５以下、円形度が０．５０以上０．７５以下及び球状化率が０．２０以上０．５５未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末を焼成し、この焼成したシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径Ｄ₅₀が１０〜２０００μｍの合成非晶質シリカ粉末であって、ＢＥＴ比表面積を平均粒径Ｄ₅₀から算出した理論比表面積で割った値が１．３５を超え１．７５以下、真密度が２．１０〜２．２０ｇ／ｃｍ³、粒子内空間率が０〜０．０５、円形度が０．５０以上０．７５以下及び球状化率が０．２０以上０．５５未満であり、炭素濃度が２ｐｐｍ未満又は塩素濃度が２ｐｐｍ未満のいずれか一方或いはその双方を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末を焼成し、この焼成したシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径Ｄ₅₀が１０〜２０００μｍの合成非晶質シリカ粉末であって、ＢＥＴ比表面積を平均粒径Ｄ₅₀から算出した理論比表面積で割った値が１．００〜１．３５、真密度が２．１０〜２．２０ｇ／ｃｍ³、粒子内空間率が０〜０．０５、円形度が０．７５〜１．００及び球状化率が０．５５〜１．００であり、炭素濃度が２ｐｐｍ未満又は塩素濃度が２ｐｐｍ未満のいずれか一方或いはその双方を満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径Ｄ₅₀が１０〜２０００μｍの合成非晶質シリカ粉末であって、ＢＥＴ比表面積を平均粒径Ｄ₅₀から算出した理論比表面積で割った値が１．００〜１．３５、真密度が２．１０〜２．２０ｇ／ｃｍ³、粒子内空間率が０〜０．０５、円形度が０．７５〜１．００及び未溶解率が０．００〜０．２５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ハンドリングが容易な洗浄液を用いて、少ないシリコンのロスでアルミニウムを効果的に低減できる精製方法により精製されたシリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の精製されたシリコンの製造方法は、アルミニウムを含むシリコン塊を粉砕してシリコン粒子を得る粉砕工程（Ｓ１０）、及び当該シリコン粒子を塩酸中に浸漬して酸洗浄する洗浄工程（Ｓ３０）、をこの順に備える。 （もっと読む）

【課題】ＭｎＳｉ相の含有量が少ないＭｎＳｉ_x粉末及びその製造方法、並びに、ＭｎＳｉ_x粉末製造用ＣａＳｉ_y粉末及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】ＭｎＳｉ_2-z相を主成分とし、ＭｎＳｉ相の含有量が７％以下、Ｓｉ／Ｍｎ比（ｘ）が１．５≦ｘ＜２．０、一次粒子のアスペクト比が５以下、比表面積が２．５ｍ²／ｇ以上であるＭｎＳｉ_x粉末。ＣａＳｉ₂相を主成分とし、ＣａＳｉ相の含有量が１０％以下、Ｓｉ／Ｃａ比（ｙ）が１．５≦ｙ≦２．０であるＭｎＳｉ_x粉末製造用ＣａＳｉ_y粉末。Ｃａ源とＳｉ源とを、Ｓｉ／Ｃａ比（モル比）が１．５〜２．０となるように配合し、原料を溶解させ、溶湯を凝固させるＭｎＳｉ_x粉末製造用ＣａＳｉ_y粉末の製造方法。ＭｎＳｉ_x粉末製造用ＣａＳｉ_y粉末と塩化Ｍｎとを、Ｍｎ／Ｃａ比（モル比）が１以上となるように混合し、混合物を加熱し、反応物を溶媒で洗浄するＭｎＳｉ_x粉末の製造方法。 （もっと読む）

【課題】機能性化合物を粒子内に多量に保持でき、且つ粒子外への機能性化合物の放出が抑制された複合シリカ粒子及びその製造方法の提供。
【解決手段】シリカ粒子（Ａ）の内部に機能性化合物（Ｂ）を含有する複合シリカ粒子（Ｃ）の製造方法であって、機能性化合物（Ｂ）又は機能性化合物（Ｂ）を含む組成物とメソポーラスシリカ粒子（Ｄ）とを混合して混合組成物とし、前記混合によりメソポーラスシリカ粒子（Ｄ）の空隙部分に機能性化合物（Ｂ）が担持された機能性化合物含有メソポーラスシリカ粒子（Ｅ）を得ること、及び、前記混合組成物にさらに有機シラン化合物（Ｆ）を混合し、前記混合組成物中の機能性化合物含有メソポーラスシリカ粒子（Ｅ）の表面と有機シラン化合物（Ｆ）とを反応させて複合シリカ粒子（Ｃ）とすることを含む複合シリカ粒子製造方法。 （もっと読む）

【課題】微粉の少ない無機酸化物の製造方法、該無機酸化物を用いたオレフィン重合用触媒の製造方法および該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィン重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】微小な無機酸化物粒子を通過させる分別用多孔体が備えられた分級装置を用い、該微小な無機酸化物粒子を含む無機酸化物を、該分別用多孔体を通過させることによって、該微小な無機酸化物粒子を除去する工程、を有する無機酸化物の製造方法、上記の製造方法によって得られた無機酸化物を用いて、オレフィン重合用触媒を製造する、オレフィン重合用触媒の製造方法、および上記の製造方法によって得られたオレフィン重合用触媒を用いて、オレフィンを重合させる、オレフィン重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 Ｚｒに代わるアモルファス化促進元素としのＴｉを用いることにより、原料費が安価で、かつリチウム二次電池におけるサイクル特性に優れ、しかもアモルファス性に優れたＳｉ合金を提供する
【解決手段】 原子％で、Ａｌ：１５〜４０％、Ｔｉ：１〜２０％を含み、残部Ｓｉおよび不可避的不純物よりなることを特徴とするリチウム二次電池負極物質用Ｓｉ合金。また上記に加えて、Ｔａ，Ｗの１種または２種を合計で３％以下含有させたこと。また、上記に加えて、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒの１種または２種以上を合計で３０％以下含有させたこと。さらに、上記に加えて、Ｚｒを１０％以下含有させた、リチウム二次電池負極物質用Ｓｉ合金。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素を純水に添加して加水分解させることによってシリカ粉を製造する方法において、純水に極性非プロトン性の有機溶媒を混合し、これに四塩化珪素を添加して加水分解させ、さらに加水分解で副生する塩酸に対して水酸化アンモニウムを添加して上記塩酸を中和しながら反応を進行させてシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを乾燥してシリカ粉を製造することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、溶液のｐＨを１〜５に制御してシリカ質のゲルを生成させる合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】大がかりな設備を用いずに、不純物汚染の少ない球状シリコン粒子を製造する。
【解決手段】発散コーン部１１、収束コーン部１２、発散コーン部１１と収束コーン部１２との接続部に形成されたスロート部１３、および収束コーン部１２から発散コーン部１１へと浮遊ガスを供給するガス供給部１４を備えるガス浮遊装置を用いて、浮遊ガスが供給されている発散コーン部１１に、スロート部１３の内径よりも小さい球状の熔解シリコン粒が形成される量のアスペクト比が１：１〜１：４である原料３０を供給する原料供給工程と、浮遊状態の原料３０を非接触加熱装置４１により加熱して熔解する熔解工程と、熔解された原料３０が浮遊状態のまま非接触加熱装置４１の熱出力を下げ原料３０を凝固させる凝固工程とを行って、シリコンまたはシリコン系半導体材料の球状シリコン粒子３２を製造する。 （もっと読む）

【課題】球状化炉で生成した球状化粒子を効率良く搬出することができ、収率の高い無機質球状化粒子の製造装置を提供する。
【解決手段】球状化バーナ５を炉頂部に垂直下向きに備えた竪型の球状化炉２と、球状化炉２の下流に無機質球状化粒子を捕集するサイクロン３及びバグフィルター４と、を備え、球状化炉２が、遮断空気を導入する遮断空気導入孔６と、球状化バーナ５の火炎中で球状化された球状化粒子を導出する粒子導出孔６と、粒子導出孔６と水平方向に対向配置された第１空気供給孔８と、第１空気供給孔８の下方に設けられた、少なくとも１以上の第２空気供給孔９と、を有することを特徴とする無機質球状化粒子の製造装置１を採用する。 （もっと読む）

【課題】 自然に存在する天然物を原料として得られるシリカの一層の微細化を図る。
【解決手段】 微粉末シリカの製造方法であり、シリカ含有溶液生成槽２３において天然物由来の沈降シリカを液化炭酸に溶解させたシリカ含有溶液を生成し、次いで、圧縮機２４を用いてシリカ含有溶液を圧縮し、その後、圧縮されたシリカ含有溶液を噴射機構２５から噴射することによって急速減圧しながら膨張することにより、溶液中の二酸化炭素を蒸発させ、微粉化されたシリカを微粉末シリカ回収槽２６中に回収する。 （もっと読む）

【課題】インキ吸収速度が速く、高解像度を保持できるための、紙用の多孔質のインキ受理性コーティング形成用、または摩擦特性を改質するためのポリエステルフィルムの細孔構造形成用などに用いられる分散液を提供する。
【解決手段】分散液は多孔質のシリカゲルを含み、シリカゲルは中央粒度が０．０５〜３ミクロン、一次粒子径が５ｎｍ未満、分散液乾燥後のシリカゲルの６００Å以下の細孔サイズの細孔容積が０．５ｃｃ／ｇ以上で、３００Å以下の細孔サイズが全体の細孔の８０％から１００％の範囲にある。この分散液は、シリカゲルスラリーを形成し、ミリング後、分散液の上澄み液相が０．１〜１ミクロンの範囲の中央粒度を有するように上澄み液相と沈降相とを分離して上澄み液を取り出す工程によって製造される。 （もっと読む）

【課題】凝集が抑制されて分散性に優れ、厚さの均一性が高い多孔質シリカカプセルの製造方法の提供。
【解決手段】鋳型を使用して多孔質シリカカプセルを製造する方法であって、鋳型となる粒子及び界面活性剤、並びに水及びアルコールの混合溶媒を含有する液体を撹拌する工程と、撹拌した前記液体中でアルコキシシランを重縮合反応させて、前記粒子表面上にシリカ層が形成されたシリカ被覆粒子を調製する工程と、前記シリカ被覆粒子から、焼成により前記粒子及び界面活性剤を除去して、多孔質シリカカプセルを形成する工程と、を有し、前記液体を撹拌する工程における、前記界面活性剤の濃度を０．００３〜０．０２１ｍｏｌ／Ｌとし、且つ前記水及びアルコールの混合溶媒におけるアルコールの体積比を０．２７〜０．３５とすることを特徴とする多孔質シリカカプセルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高密度半導体の成形不良率を低減、特に、ワイヤー流れ量を低減させた半導体封止材を調製することのできるシリカ質粉末と、それを含有してなる組成物を提供する。
【解決手段】粒子径２５μｍ以上６３μｍ未満の粒子含有率が３０質量％以上８５質量％以下であり、粒子径２５μｍ以上６３μｍ未満の粒子について、平均包絡度が０．９０以上、包絡度０．８５未満の粒子の割合が１５％以下、包絡度０．７５未満の粒子の割合が５％以下であるシリカ質粉末。シリカ質原料粉末を火炎中に噴射して溶融、非晶質化した後、シリカ質粉末を目開き３０〜７５μｍの網を用い、水平方向の振幅を８〜１５ｍｍ、粉末１ｋｇあたりの篩い分け時間を５〜１５秒／ｋｇ・ｍ^２として篩い分けた篩下の粉末を、さらに同様の条件で１回以上篩い分けるシリカ質粉末の製造方法。シリカ質粉末を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた半導体封止材。 （もっと読む）

【課題】チョクラルスキー型プロセスで好適に使用される多結晶シリコン片のサイズ分布を形成するための多結晶シリコン加工物の処理方法を提供する。
【解決手段】回転インデント分級機は外周縁に沿って複数の凹部を有するディスク又はシリンダーを備えている。シリンダーの外周縁に沿った凹部は、シリンダーの一方の端部から他方の端部へ大きさが増大し、ディスクの外周縁に沿った凹部を有するディスクは、混合物が最も小さい凹部を最初に通過して凹部のサイズが増大する順に凹部を通過するように配列されている。凹部は、ディスク又はシリンダーの外周縁から内側に向かってのび、凹部は、所定のサイズ又はそれ以下のシリコン片を捕捉し、所定のサイズより大きいサイズのシリコン片を排除する大きさとされている。 （もっと読む）

本発明は、水溶性シリカーを組成成分として含有する硬度降下用組成物に関する。本発明の硬度降下用組成物は、大規模浄水設備を揃えない地域で小規模で簡単に硬度の高い上水原水の硬度を飲用に適する水準に低下させることができる効果を奏する。 （もっと読む）