【課題】洗浄時には豊かな泡立ちと洗浄時の泡の持続性を示すが、すすぎ時には瞬時に泡が消え、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）特定のスルホコハク酸ジ若しくはモノアルキルエステル又はその塩０．１〜３０質量％、（ｂ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し（ａ）を除く〕１〜５０質量％、及び（ｃ）重量平均分子量３，０００以上のポリプロピレングリコール０．０１〜２０質量％を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】起泡性界面活性剤と共に使用することにより泡立ち速度に優れる増泡剤及びそれらを含む洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】一般式（１）の構造を有する３級アミン化合物からなる増泡剤および増泡剤と起泡性界面活性剤を含有する洗浄剤組成物。


［但し式中Ｒ^１は炭素数５〜９のアルキル基を示し、Ｘは連結基であり−ＮＲ^４−，−（ＯＲ^５）pＯ−（ただし、式中Ｒ^５は分枝してよい炭素数１〜３のアルキレン基、ｐは０〜３の数、Ｒ^４は水素原子、ヒドロキシ基を含んで良い炭素数１〜３のアルキル基を示す。）を示し、ｍは０又は１の数を示し、ｎは１〜３の数を示す。Ｒ^２、Ｒ^３は互いに独立に水酸基を含んで良い炭素数１〜３のアルキル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】鋼板の圧延工程及び圧延された鋼板に付着する圧延油を、アルカリ洗浄液を用いて洗浄する工程を有する鋼板の製造方法であって、高速ラインにより前記洗浄を行う場合において、良好な洗浄性を保持することができる、鋼板の製造方法を提供すること。
【解決手段】前記アルカリ洗浄液として、アルカリ剤（Ａ）、カルボン酸化合物（Ｂ−１）及び水を含有し、更に圧延油に含まれる脂肪酸及び／又は脂肪酸エステル由来の塩を１．５〜２．５重量％含有するものを用いて、鋼板の洗浄を前記アルカリ洗浄液への連続接触時間が１．０〜１．８秒間の範囲で行う。 （もっと読む）

【課題】リセス等の形成に伴う処理で生じる残渣を適切に除去することができる化合物半導体装置の製造方法及び洗浄剤を提供する。
【解決手段】化合物半導体積層構造１を形成し、化合物半導体積層構造１の一部を除去して凹部４を形成し、洗浄剤を用いて凹部４内の洗浄を行う。洗浄剤は、凹部４内に存在する残渣と相溶する基材樹脂と溶媒とを含む。 （もっと読む）

【課題】多忙な現場での実手洗い時間を考慮した、短時間の使用であっても十分な程度の高い殺菌性を発揮することができる皮膚殺菌洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）成分：トリクロサン及び／又はパラクロロメタキシレノールを０．０５〜２質量％；（ｂ）成分：アルコール、及び；（ｃ）成分：下記一般式：Ｒ²−Ｏ−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−ＳＯ₃Ｍ（式中、Ｒ²は炭素数８〜１６の炭化水素基であり、ｎは平均付加モル数を示し、ｎ＝０〜３であり、Ｍはアンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン又はアルカノールアンモニウムイオンである。）で示されるアニオン性界面活性剤を０．５〜３５質量％含有し、さらに（ｄ）成分：安息香酸塩、ソルビン酸塩、プロピオン酸塩及びサリチル酸塩からなる群より選択される少なくとも一種の化合物を含有する、皮膚殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】泡質が良く、拭き取り性に優れた、４級アンモニウム塩を含有する硬質表面用洗浄剤組成物、及び硬質表面の洗浄方法を提供する。
【解決手段】（ａ）アミンオキシド型界面活性剤を０．０１〜３質量％、（ｂ）４級アンモニウム塩、（ｃ）炭素数が２〜６のアルカノールアミン、（ｄ）アルキル基の炭素数が１〜３、アルキレン基の炭素数が２〜４のアルキレングリコールモノアルキルエーテル、（ｅ）炭素数が１〜３のアルカノール、（ｆ）アルキル（炭素数８〜１６）又はアルケニル（炭素数８〜１６）グリコシド型界面活性剤、及び水を含有し、（ｆ）／（ａ）の質量比が０．０１〜０．３である硬質表面用洗浄剤組成物を、泡吐出機構を有するトリガースプレーヤーを用いて泡状で硬質表面に噴霧し、付着した泡を拭き取って、硬質表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】使用時に粒子の粒感が持続し、高い洗浄実感と確かな洗浄効果が得られる皮膚洗浄剤を提供すること。
【解決手段】次の成分（Ａ）〜（Ｄ）：
（Ａ）高級脂肪酸又はその塩 １〜３０質量％、
（Ｂ）ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸又はその塩 ０．５〜１０質量％、
（Ｃ）ＩＯＢが０．２５〜１．２の両親媒性物質 ０．１〜１０質量％、
（Ｄ）平均粒径５０〜５００μｍの水不溶性粒子 １〜２５質量％
を含有し、成分（Ａ）及び（Ｂ）の質量割合が、（Ａ）／（Ｂ）＝１／２〜１０／１である皮膚洗浄剤。 （もっと読む）

表面から高分子材料を除去する、好ましくは、リソグラフ装置を完全には分解しないでリソグラフ装置から汚染物質の蓄積を清浄化する組成物および前記組成物の使用方法。 （もっと読む）

光電池において使用するための薄膜アモルファス、単結晶または多結晶シリコンウエハー基板であり、ｐｎまたはｎｐ接合および部分的なホスホシリケートまたはボロシリケートガラス層の少なくとも１つを該ウエハー基板の上面に有する該ウエハー基板を処理して、（ａ）該ウエハーのシート抵抗および（ｂ）前記ウエハーから作製された該光電池の出力密度レベルの少なくとも一方を増大させること。少なくとも１種の水酸化テトラアルキルアンモニウム、酢酸、少なくとも１種の非イオン性界面活性剤、少なくとも１種の金属キレート剤、アンモニアの無金属供給源、フッ化物イオンの無金属供給源および水を有する緩衝酸化物エッチング（ＢＯＥ）溶液を、酸化剤溶液および場合により水と混合した酸処理溶液である、処理溶液。 （もっと読む）

１１個、１６個、若しくは２１個の炭素原子を有し、少なくとも２つのアルデヒド基、若しくはヒドロキシルアルコール基、少なくとも３つの分枝、及び３つ以下の炭素−炭素二重結合を含む、非環式ポリアルデヒド並びにポリアルコール。 （もっと読む）

【課題】洗浄時の泡立ちの速さ、泡のクリーミーさに優れ、かつ洗浄後のしっとり感およびつっぱり感のなさに優れ、肌の水分量の変化がない皮膚洗浄料を提供する。
【解決手段】（ａ）脂肪酸塩と、（ｂ）特定のカチオン化モノマー（例えば、塩化ジメチルジアリルアンモニウム等）から誘導されるホモポリマー、ジポリマー、またはターポリマーの中から選ばれる１種または２種以上と、（ｃ）ポリグリセリルモノアルキルエーテルと、（ｄ）アシルメチルタウリン塩、ヒドロキシエーテルカルボン酸塩の中から選ばれる１種または２種以上を含有する起泡性皮膚洗浄料。 （もっと読む）

組織化石鹸組成物であって、該組成物100重量部を基準として次のものを含む、組成物、
（ｉ）０より大きく約２７重量部まで、の中和脂肪酸、
（ii）０より大きく約１８重量部までの、アルカノールアミド界面活性剤、脂肪族アルコール、アルコキシル化脂肪族アルコール、脂肪酸、及び脂肪酸エステルから選ばれた、１種又はより多種の組織化剤
（iii）０から約１５重量部の、両性界面活性剤及び両性イオン性界面活性剤から選ばれた１種又はより多種の化合物、
但し、(ｉ)、(ii)及び(iii)成分の合計量は５重量部又はより大である、
（iv）(ｉ)、(ii)及び(iii)成分との組合せにおいて、不透明な外観を持ち且つ０パスカルより大きな降伏強さを示す組織化石鹸組成物を提供するのに有効な量の電解質、及び
（ｖ）水。 （もっと読む）

【課題】 自由水を含む化合物を配合する場合でも、吸湿して固結・団粒化を引き起こすような工程剤を嵩増しとして使用することができる粉末剤の製造方法を提供する。
【効果】 酸性を呈する粉末剤とアルカリ性を呈する粉末剤の混合物中に、自由水を含んだ化合物を添加し、攪拌混合を続けて、混合物間の化学反応によって生じる発泡及び粘着性を弱らせることで得られる混合物に対して工程剤を添加し、攪拌混合をすることで、粉末の性状を維持し、流動性及び非ケーキング性に優れた粉末剤を得ることが可能となった。 （もっと読む）

【課題】ヌメリの生成を抑制する組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）
ＲＯ−（ＥＯ）ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜１４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＥＯはエチレンオキシ基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。）で表される化合物（Ａ）から選ばれる１種以上を含有する、水周りのヌメリ抑制剤組成物。 （もっと読む）

【課題】
陰イオン界面活性剤を主剤として使用したトイレ用固形洗浄剤において、実質的に溶解性の水温依存性が少なく、低温でも高温でもほぼ一定の溶解性を有し、使用期間を通して均一な溶解性と優れた持続性を有し、さらに、高濃度の陰イオン界面活性剤を配合しても溶解性を制御することができると共に洗浄効果の高いトイレ用固形洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式
Ｒ１ＣＯＯ−Ｒ２−ＳＯ_３Ｍ
（ここでＲ１は炭素数７〜２１のアルキル基、Ｒ２は炭素数２〜３のアルキル基、Ｍはアルカリ金属を示す）
で表される陰イオン性界面活性剤および炭素数１２〜１８の脂肪酸ナトリウムを、８：２〜３：７の重量比率で含有するトイレ用固形洗浄剤。
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【課題】効率的に有機過酸が生成される漂白性能に優れた、洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）無機過酸化物、（ｂ）特定のアルカノイルオキシベンゼン型漂白活性化剤、（ｄ）炭素数４〜２０のアルキル基を有するポリグリセリルアルキルエーテル、及び、（ｅ）脂肪酸又はその塩を含有する洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムの生成を抑制する薬剤及び組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（Ａ）
（Ａ）一般式（１）
ＲＯ−（ＥＯ）ｎ−Ｈ （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜１４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、ＥＯはエチレンオキシ基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。）で表される化合物、及び成分（Ａ）以外の（Ｂ）界面活性剤を含有し、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の重量比率（Ａ）／（Ｂ）が２以下であるバイオフィルム生成抑制剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 常温下での取り扱いに優れるとともに、反応性ホットメルト接着剤との相溶性が良く、簡単にウエスなどで拭き取れ、洗浄作業を簡便にする方法を提供すること。
【解決手段】 常温で固体であり、１００℃での溶融粘度が２０ｍＰａ・ｓ以下であり、かつ反応性ホットメルト接着剤と相溶しうる反応性ホットメルト接着剤用洗浄剤を用いる。また、この反応性ホットメルト接着剤用洗浄剤は、その分子内にエステル結合を有するものであることが、反応性ホットメルト接着剤との相溶性に優れ、より効率的に洗浄することができ、洗浄後はゴミの廃棄が簡便であることから好ましい。 （もっと読む）

【課題】インゴットからウエハをスライシングするとき、あるいはウエハをバックグラインディングするときに、加工熱を速やかに取り除くことと、切削屑を完全に除去することが可能な冷却液を提供する。
【解決手段】冷却液に界面活性剤または界面活性剤混合物を添加する。界面活性剤の濃度は脱塩水からなる溶液に０重量％超〜１重量％以下、特に好ましくは０．１重量％〜０．２５重量％以下とし、界面活性剤の分子量は１５００（ｇ／ｍｏｌ）以下である。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄液であって、シリコンウエハなどの基材上に形成された金属膜等の表面に存在する不純物金属、不純物無機材料や有機材料、砥粒などのパーティクル等を効率的に除去することができる洗浄液及びそれを用いた洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表されるノニオン性界面活性剤と有機酸と数平均分子量５０００以下のポリエチレングリコールとを含み、かつ、ｐＨが５以下である半導体デバイス用基板の洗浄液、及びそれを用いた洗浄方法。
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