【課題】封着材料層および封着層の形成工程にレーザ加熱を適用するにあたって、気密封止性に優れる封着層を再現性よく形成することが可能な気密部材の製造方法を提供する。
【解決手段】封着材料ペーストの枠状塗布層の第１の照射開始位置ＬＳ１から第１の照射終了位置ＬＦ１まで、焼成用レーザ光を枠状塗布層に沿って走査しながら照射して封着材料層５を形成する。封着材料層５を介して第１のガラス基板と第２のガラス基板２とを積層した後、第１の照射開始位置ＬＳ１および第１の照射終了位置ＬＦ２とは異なる位置に設定された第２の照射開始位置ＬＳ２から第２の照射終了位置ＬＦ２まで、封着用レーザ光８を封着材料層５に沿って走査しながら照射して封着層を形成する。 （もっと読む）

【課題】
封着工程において焼成を必要とせず、かつ水分透過率の少ない表示パネル及びその製造法を提供する。
【解決手段】
本発明の表示パネルは、対向する２枚の基板によって構成される基板間周縁部をシール部によって封着し、その内部空間が減圧または不活性ガス雰囲気に維持され、シール部を硬化性樹脂で形成し、シール部の外側に、低融点金属又は低融点合金から成るバリア層を設けたことを特徴としている。また本発明の表示パネルの製造法は、シール部を硬化性樹脂で形成し、該シール部によって基板間周縁部を封着した後に、該シール部の外側を低融点金属又は低融点合金から成るバリア層にて被覆することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】実質的にＰｂＯを含有せず、かつＰ_２Ｏ_５系ガラスの問題点である耐湿性を向上させ、さらに高温で処理した場合でも結晶化せず安定な無鉛低融点ガラスが求められている。
【解決手段】実質的にＰｂＯを含有せず、モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５が４０〜８０、Ｆｅ_２Ｏ_３が３〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜１５、ＴｉＯ_２が０〜２０、ＺｒＯ_２が０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選択される１種以上）が０〜４０、ＭｇＯが０〜６０、ＣａＯが０〜６０、ＳｒＯが０〜６０、ＢａＯが０〜６０、ＺｎＯが０〜６０であり、原子モル比で、（Ｆｅ＋Ａｌ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＋Ｌｉ＋Ｎａ＋Ｋ＋Ｍｇ＋Ｃａ＋Ｓｒ＋Ｂａ＋Ｚｎ）／Ｐが１．０未満であることを特徴とする封着用無鉛着色ガラスである。３０から３００℃の線膨張係数が（５０〜２００）×１０^−７／℃、軟化点が４００℃以上７５０℃未満である特徴を有す。 （もっと読む）

【課題】基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上、特に２０００ｍｍ×２０００ｍｍ以上である場合に、ガラス基板全面に渡って、溶融欠陥検査を適正に行うことにより、溶融欠陥がない大型のガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明のガラス基板は、基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上であり、且つ経路長５０ｍｍにおける波長５００〜８００ｎｍの透過率が８０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に適した泡の少ない無アルカリガラス製造方法を提供する。
【解決手段】以下の組成を母組成とし、質量百分率表示で、該母組成の総量１００％に対し、ＳｎＯ_２を０．０１〜２．０％含むように原料を調製し、該原料を１５００〜１６５０℃で加熱溶解した後、該溶融ガラスが１３００〜１５００℃にある状態で、該溶融ガラスと該白金部材との界面に発生する酸素泡を、該ＳｎＯのＳｎＯ_２への酸化反応により吸収させる無アルカリガラスの製造方法。 質量百分率表示による組成： ＳｉＯ_２：５８．４〜６６．０％、Ａｌ_２Ｏ_３：１５．３〜２２．０％、Ｂ_２Ｏ_３ ：５．０〜１２．０％、ＭｇＯ：０〜６．５％、ＣａＯ：０〜７．０％、ＳｒＯ ：４〜１２．５％、ＢａＯ：０〜２．０％、 （ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）：９．０〜１８．０％ （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスを提供する。
【解決手段】重量％でＢ_２Ｏ_３を２２〜３８、Ｂi_２Ｏ_３を３５〜６５、ＢａＯを４〜２０、ＳiＯ_２を０〜１０、ＺｎＯを０〜５、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜７、ＣｕＯを０〜２、Ｌa_２Ｏ_３を０〜３、ＣｅＯ_２を０〜２、ＣｏＯを０〜１、ＭｎＯ_２を０〜１、かつＣｕＯ＋Ｌa_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＋ＣｏＯ＋ＭｎＯ_２を０．１〜３含み、さらにＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯを１０以下、Ｒ_２Ｏ（Ｌi_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０以下含むＢ_２Ｏ_３−Ｂi_２Ｏ_３−ＢａＯ系無鉛低融点ガラスで、３０℃〜３００℃における熱膨張係数が（６５〜９５）×10^−７／℃、軟化点が５００℃以上６３０℃以下である。 （もっと読む）