国際特許分類[B01D53/46]の内容
処理操作;運輸 (1,245,546) | 物理的または化学的方法または装置一般 (124,790) | 分離 (62,952) | ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル (23,725) | 廃ガスの化学的または生物学的浄化 (18,354) | 構造が特定される成分の除去 (4,365)
国際特許分類[B01D53/46]の下位に属する分類
硫黄化合物 (922)
窒素化合物 (907)
硫黄酸化物と窒素酸化物の同時除去 (68)
炭素酸化物 (728)
重金属またはその化合物,例.水銀 (305)
オゾン (45)
ハロゲンまたはハロゲン化合物 (902)
グループ53/48〜53/70に分類されない有機化合物,例.炭化水素 (298)
国際特許分類[B01D53/46]に分類される特許
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排ガス処理装置および排ガス処理方法
【課題】太陽電池に用いられる薄膜シリコンを成膜するためのプラズマCVD装置から排出される排ガスを処理する装置を小型化する技術を提供する。
【解決手段】太陽電池製造装置20から排出された混合ガスをポンプ12を用いてフィルタ部30に送出し、フィルタ部30で高次シランを除去した後、膜分離を利用した分離部40を用いて混合ガスを水素とモノシランとに分離する。分離されたモノシランは、シランガス除害部50により除害される。また、分離された水素は、水素ガス排気部60により大気に放出される。
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排ガス処理装置および排ガス処理方法
【課題】複数の半導体製造装置から排出される排ガスを処理する装置や工程を簡略化する。
【解決手段】排ガス処理装置10は、複数の半導体製造装置20から排出される排ガスを処理する排ガス処理装置10であって、複数の半導体製造装置20から排出されるそれぞれの排ガスを集めて混合し収容するガス収容部40と、ガス収容部40で混合された混合ガスを希釈ガスで希釈する希釈部50と、混合ガスを除害する除害部52と、を備える。
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熱処理炉およびこれを用いた排ガス処理装置
【課題】シラン系ガスを含む処理対象ガスの加熱分解によって生じたシリカが融解することによる閉塞を回避できる熱処理炉およびこれを用いた排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理炉12を、内部に高温の排ガス処理空間20eを有する炉本体20と、排ガス処理空間20eに少なくともシラン系ガスを含む処理対象ガスFを供給する処理対象ガス供給手段22と、排ガス処理空間20eに、処理対象ガスFの熱分解に必要な空気に加えて、排ガス処理空間20eの温度をシリカの融点以下にする温度調節用の空気を供給する空気供給手段24とで構成することにより、上記課題を解決することができる。
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酸性ガスの除去のための環式アミン含有吸収剤
流体流から酸性ガスを除去するための吸収剤は、A)第三級アミン基及び/又は立体障害した第二級アミン基のみを有する、少なくとも1の環式アミン化合物、及びB)少なくとも1の立体障害していない第二級アミン基を有する、少なくとも1の環式アミン化合物の溶液を含む。この吸収剤は、例えば、A)1−ヒドロキシエチルピペリジン及び/又はトリエチレンジアミン及びB)ピペラジンの水溶液を含む。この吸収剤は、特に、煙道ガスからの二酸化炭素の分離のために適しており、かつ、次の基準を満たす:(i)低いCO2分圧での十分な収容能;(ii)低いCO2分圧での十分に迅速な吸収率;(iii)酸素に対する安定性:(iv)溶媒損失の減少のための低い蒸気圧:及び(v)吸収剤の再生のための低いエネルギー要求。
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有機金属錯体、ガス分離用成形体及びガス分離法
【課題】接触したガスに応じて構造を変化させてガスを吸着分離することが可能な成形体を提供する。
【解決手段】柔軟性結晶性の相互嵌合性構造を有し、親和性を有するガスの非存在下における第1の構造と、親和性を有するガスの存在下での当該ガスに対して高い親和性を有する第2の構造をとり得ることを特徴とする、金属イオン、芳香族多価カルボン酸配位子及び窒素原子またはリン原子を含有する芳香族二価配位子から構成される有機金属錯体を含むガス分離用成形体。
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排ガス削減の改善
排出物の削減に関するシステム及び方法を提供する。本発明の態様は、削減システムを高レベル設定で起動するステップと、望ましくない物質を含む排出物を削減システムにおいて受け取るステップと、削減システムを高レベル設定で使用して望ましくない物質を削減するステップと、排出物に関する情報を受け取るステップと、情報を分析して最適な設定を決定するステップと、高レベル設定を最適な設定に調整するステップと、より多くの望ましくない物質を含むより多くの排出物を受け取って、その後これを減衰させることができるステップとを含むことができる。最適な設定は、選択する設定効率に対応する。他にも数多くの態様を提供する。 (もっと読む)
半導体製造装置の排ガス処理システム
【課題】 半導体製造装置から排出される排ガス中に酸素や水分が含まれている場合に、排ガス処理装置に酸素や水分が流入することを抑制しながら排ガスを処理することができる排ガス処理システムを提供する。
【解決手段】 半導体製造装置80から排出される排ガス中から酸素と水分の少なくとも一方を除去する除去装置30と、除去装置30通過後の排ガスを処理する排ガス処理装置20を備える半導体製造装置80の排ガス処理システム10。
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ガス処理装置、該ガス処理装置の洗浄方法
【課題】手作業でミキサを洗浄しなければならないという手間を省くことが可能なガス処理装置を提供すること。
【解決手段】処理水を貯めるようにされた処理槽と、処理槽の内側で先端部が処理水に浸る位置に配置されるミキサと、特定のガスをミキサへ導入する第1の導入管と、乾燥ガスをミキサへ導入する第2の導入管と、生成物を除去する洗浄水をミキサへ導入する第3の導入管と、第1の導入管を開閉する第1のバルブと、第2の導入管を開閉する第2のバルブと、第3の導入管を開閉する第3のバルブと、水位低下手段と、洗浄動作開始信号が入力されると第1のバルブを閉じさせるとともに水位低下手段に処理水の水位をミキサの先端部が浸らない水位以下に下げさせ、生成物を乾燥させるのに必要な時間第2のバルブのみを開けさせて乾燥ガスをミキサへ導入させ、第2のバルブを閉じさせるとともに第3のバルブを開かせて洗浄水をミキサへ導入させる制御部と、を有する。
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排気ガス処理装置
【課題】簡素な構造にて昇華物除去部材の汚染状態を正確に検知することができる排気ガス処理装置を提供する。
【解決手段】第1の筐体11の内部に、熱処理炉Xから排出される高温の排気ガスを透過させて、当該排気ガス中の昇華物を捕集するフィルタ層2aを設けた。前記昇華物を付着させるゲージ5を、前記第1の筐体11の内部に引き抜き可能に導入した。
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ガス洗浄装置及びガス洗浄方法
ガス洗浄装置及びガス洗浄方法が提供される。本発明によるガス洗浄装置は、 反応ガスが流入される反応管と、反応管と連結され、流入された反応ガスをプラズマ化させる反応器と、反応器内のプラズマに水を注入するための水注入部とを備え、別途のヒーターを使用せず、プラズマの熱源を利用して水を蒸気化させるため、非常に経済的なガス洗浄が可能である。さらに、プラズマ化した反応ガスが排出される最適の領域で水を直接蒸気化させて反応ガスを洗浄するため、ガス洗浄の効率も向上する。
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