（a）第一の面上に規定のインプリント表面パターンおよび第一の面と反対側の第二の面上に規定のインプリント表面パターンを有するインプリント基板金型を提供する段階;（b）ポリマー構造をインプリント基板金型の第一の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階;ならびに（c）別のポリマー構造をインプリント基板金型の第二の面に押圧して、その上にインプリントを形成する段階を含む、ポリマー構造上にインプリントを作製する方法が開示される。

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【課題】簡易な手法により成形面に凹凸構造が形成された光学素子成形用の金型を製造する方法等を提供する。
【解決手段】母材１１にマスク膜１２を成膜する工程と、ブロックポリマーにより形成され二相よりなる自己組織化膜１３をマスク膜１２上に形成する工程と、自己組織化膜１３のうち分散相１５を除去する第１エッチング工程と、第１エッチング工程により除去した分散相１５に対応する部分のマスク膜１２を除去する第２エッチング工程と、第２エッチング工程により除去したマスク膜１２に対応する部分の母材１１の表面部分を除去することで母材１１に凹凸構造を形成する第３エッチング工程と、を有することを特徴とする光学素子成形用の金型１０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂からなるシート部材に所定のパターンを正確に転写することが可能な熱可塑性樹脂の成形方法および成形装置を提供する。
【解決手段】成形装置１は、金型６３と、加熱部材としてのヒータ３と、搭載部材（ロール４、ロール支持部材６８、ベース部材６９、ガイド部材６７）とを備える。金型６３は、熱可塑性樹脂からなるシート部材７に転写するパターンが表面に形成されている。ヒータ３は、金型６３を加熱するためのものである。搭載部材はシート部材７を金型６３上に搭載する。搭載部材は、シート部材７において金型６３と接触する部分の面積が徐々に大きくなるように、シート部材７を操作するとともに、シート部材７を金型６３に押圧する。 （もっと読む）

【課題】不可逆的な接着や欠陥が発生することなく、基板から容易かつ反復的に離型され、他の樹脂層にサブミクロンのパターンを形成するのに十分高いモジュラス、優れた化学安定性および寸法安定性を有する多層構造の有機モールドを実現できるようにする。
【解決手段】他の樹脂層に微細パターンを形成するための多層構造の有機モールドは、シート状の支持体層と、支持体の上に形成され、活性エネルギー硬化型の樹脂組成物からなり、微細パターンを有する有機モールド層とを備えている。 （もっと読む）

表面の公称形状を修正せずにナノトポグラフィおよびラフネスを修正するために、適応ナノトポグラフィ・スカルプティングを使用することができる。一般に、適応ナノトポグラフィ・スカルプティングは、所望の形状特性を有する表面を形成する。第１の表面のトポグラフィが、密度マップを生成するためにマッピングされる。第１の表面上に重合可能物質を供給するための滴下パターンを生成するために、密度マップを評価する。重合可能物質を、固化させ、所望の形状特性を有する第２の表面を形成するためにエッチングする。
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【課題】型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写するための転写装置において、装置の大きさを極力小さくする。
【解決手段】被成型品Ｗを保持する被成型品保持体３と、型Ｍを保持し被成型品保持体３に対して接近・離反する方向で相対的に移動する型保持体５と、型保持体５を相対的に移動するために前記移動方向で被成型品保持体３および型保持体５に対して並列に設けられた駆動機構７とを有する。 （もっと読む）

【課題】転写用の凹凸面の面積が大きい場合であっても、つなぎ目を設けることなく容易に製造されることが可能なナノインプリント用モールドを提供する。
【解決手段】液晶物質はその自己組織化する性質に基づいて表面にレリーフ構造が形成されるが、この性質を応用して液晶物質を含有させることにより、該液晶物質の配向によってレリーフ構造が形成された凹凸面を有するナノインプリント用モールドを得る。該液晶物質の重量平均分子量は１０００以上であることが好ましく、また該液晶物質はらせん構造が形成されるように配向していることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
スループットを向上させたパターン転写装置を提供する。
【解決手段】
本発明は、パターンが形成されたモールド１０をウエハ１上の樹脂６０に押し付け、モールド１０を樹脂６０から離型することによってパターンをウエハ１に転写するパターン転写装置であって、モールド１０の除電を行うイオナイザのノズル３０、３１と、モールド１０の電位を検出する表面電位センサ７０とを有し、イオナイザのノズル３０、３１は、表面電位センサ７０により検出されたモールド１０の電位が所定値以上の場合にモールド１０の除電を行う。 （もっと読む）

【課題】
従来のプレス機型の一括転写型ホットエンボス装置により、マイクロ・ナノオーダの微小パターンを転写しようとしたとき、型と被加工材の平行の狂いが原因で成形不良を起こすことがあり、アライメント調整が問題となる。また、転写の範囲が大面積化するにつれて、機械剛性の問題による装置のたわみも同様に問題となる。
【解決手段】
高圧チャンバ（１）と低圧チャンバ（２）の圧力差によって駆動されるダイヤフラム（３）によって構成されたダイヤフラム差圧駆動機構（４）を用い、ダイヤフラムで型（５）と被加工材（６）をともに加熱用プレート（７）との間で押圧することで、型表面の微細パターンを被加工材表面に転写する。ダイヤフラムは流体圧によって均等に駆動されるため、型のアライメントの狂いや装置の撓みにダイヤフラムの変形が追随することができ、装置の機械剛性の影響も受けにくい。 （もっと読む）

【課題】優れた光の反射防止性能や優れた光の透過性能を有する反射防止膜に要求される表面形状と物性を見出し、かかる特定の表面形状と物性を有する反射防止膜とその反射防止膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られ、その表面に平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在し、かつヘイズが１５％以下であることを特徴とする反射防止膜。 （もっと読む）