【課題】ＣＯ２レーザを励起光源に用いてエキシマレーザやフッ素レーザを連続発振できるレーザ装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一実施例であるエキシマレーザ発振器１００では、励起用のＣＷ＿ＣＯ２レーザからのレーザ光ＬＣ１を、エキシマガスが満たされたチャンバ１０１内で、金コートが施された穴付き反射鏡１０８によって、共振器間で集光させたものである。 （もっと読む）

【課題】放電電極を備えた上部箱体と下部箱体とに用いられる、誘電体や容器の厚さを薄くするとともに、導電体電極から容器の内面までの絶縁距離を短くし、軽量化と小型化と低コスト化とを実現したガスレーザ発振器を得ることである。
【解決手段】レーザガスが封入される第１の容器と、第１の容器内に設けられた、誘電体に導電体電極を密着して形成した放電電極に容器を接合して形成した一対の上部箱体と下部箱体と、上部箱体内部と下部箱体内部とを外気に連通させレーザガスから隔離する接続手段と、接続手段内部を通過して導電体電極に電圧を印加する給電手段とを備え、且つ、上部箱体と下部箱体とが、放電電極の誘電体面を所定の間隔で対向させて設置されたガスレーザ発振器であって、上部箱体内部と下部箱体内部とが、絶縁部材で充填されたものである。 （もっと読む）

【課題】約４，０００Ｈｚ又はそれ以上のパルス繰返し率及び約５ｍＪ以上のパルスエネルギーで高品質パルスレーザ光を生成することができるシード光注入モジュール放電ガスレーザシステムを提供する。
【解決手段】２つの別個の放電室を備え、その一方は、第２の放電室で増幅される超狭帯域シード光を生成する主発振器の一部である。２つの放電室は別個に制御することができ、主発振器内の波長パラメータの最適化及び増幅室内のパルスエネルギーパラメータの最適化を可能にする。ＡｒＦレーザエキシマレーザシステムの好適な実施形態は、ＭＯＰＡとして構成され、特に集積回路リソグラフィの光源として使用されるように設計される。 （もっと読む）

【課題】製造ラインの機械のためのモジュール式高反復速度紫外ガス放電レーザ（4）を提供する。
【解決手段】システムは、製造ライン機械の入口ポートのような望ましい位置にレーザビームを供給するための、取囲まれ且つパージされたビーム経路を含んでいる。好ましい実施形態において、製造ライン機械はリソグラフィー機械（2）であり、二つの別々の放電チャンバが設けられ、その一つは第二の放電チャンバ内で増幅される超狭バンドの送給ビームを生じるマスター発振器の一部である。MOPAシステムは、著しく改善されたビーム品質で、匹敵する単一チャンバレーザシステムの略2倍のパルスエネルギーを出力することができる。パルス伸長器は出力パルス長を二倍以上にし、先行技術のレーザシステムに比較してパルス電力（mJ/ns）の低下をもたらす。この好ましい実施形態は、リソグラフィーシステムの動作寿命期間を通して略一定の照射を与えることができる。 （もっと読む）

【課題】スペックルノイズを減少させることができ、かつ長期間安定して動作できるパルスレーザ光源及び、そのパルスレーザ光源を用いた検査装置を提供する。
【解決手段】全反射鏡の反射面と部分透過鏡の反射面との間で共振することによってレーザ発振しているパルスレーザ光源であって、全反射鏡は、全反射プリズムであり、部分透過鏡は、反射面が凹面の凹凸基板であり、全反射鏡の反射面と、部分透過鏡の反射面と、部分透過鏡の出射面とにおいて、全反射プリズムと凹凸基板とが露出されていることを特徴とするパルスレーザ光源。 （もっと読む）

【課題】発振段レーザチャンバと増幅段チャンバを同一形状にしても、４ｋＨｚ以上の高繰り返し動作が安定に行える露光用２ステージシステムエキシマレーザ装置を提供する。
【解決手段】発振段と増幅段のチャンバが同一形状である露光用２ステージエキシマレーザ装置において、増幅段の放電開始前の予め設定された時間範囲内に、発振段から放出したシード光を増幅段チャンバに注入してシード光による予備電離を行うようにしている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバから成り、発振チャンバの出力が増幅チャンバ、例えば、主発振器電力増幅器（ＭＯＰＡ）構成フッ素注入コントローラ及び方法において増幅されるマルチチャンバエキシマ又は分子フッ素ガス放電レーザシステムを提供する。
【解決手段】フッ素注入制御システムを有し、少なくとも１つの発振チャンバと少なくとも１つの増幅チャンバとを含み、増幅チャンバが、この少なくとも１つのパワーチャンバ内で増幅される発振器出力レーザ光パルスを生成するマルチチャンバエキシマ又は分子ハロゲンガス放電レーザシステム及びその作動方法。本発明は、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの一方の少なくとも第１の作動パラメータと少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの第２の作動パラメータの間の差とに基づいて、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの一方において消費されたハロゲンガスの量を推定し、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの他方の少なくとも第３の作動パラメータに基づいて、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバの他方において消費されたハロゲンガスの量を推定し、かつ少なくとも１つの発振チャンバにおける推定ハロゲンガス消費量と少なくとも１つの増幅チャンバにおけるハロゲンガス消費量とを表す出力を生成するハロゲンガス消費推定器と、フッ素消費推定器からの推定フッ素消費量出力と複数の重み付け注入決定判断を含むコスト関数とに基づいて、少なくとも１つの発振チャンバ及び少なくとも１つの増幅チャンバに対するハロゲンガス注入の量を判断するハロゲンガス注入コントローラとを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】広い区域にわたって高繰返し率のレーザ光を用いる表面及び／又は基板の処理を伴う製造工程で使用される高電力及び高安定性ガス放電レーザを提供する。
【解決手段】被加工物の基板内の結晶構成又は配向の変換を実行するためのガス放電レーザ結晶化装置及び方法。それは、細長いガス放電領域を形成するチャンバ内に収容された１対の細長い離間した対向電極を各々が有する第１及び第２のガス放電チャンバ、及び被加工物上で実行される結晶化処理に対して最適化された中心波長でレーザ光を生成するように選択されたハロゲン及び希ガスを含むチャンバ内に収容されたレーザガスを含む第１のレーザユニットと、ＤＣ電源、及び直列に接続した複数の一次巻線と複数の一次巻線の各々を通る単一の二次巻線とを有する多段分割ステップアップ変圧器と半導体トリガスイッチとを含むＤＣ電源に接続されかつそれぞれの電極に接続した第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路を含む電源モジュールと、単一出力レーザ光パルスビームを生成するためにＰＯＰＡ構成レーザシステム又はＰＯＰＯ構成レーザシステムのいずれかとして第１及び第２のレーザユニットの作動を達成するように、それぞれの第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路の作動パラメータに基づいてそれぞれの半導体スイッチの閉成を計時するように作動するレーザタイミング及び制御モジュールとを含むマルチチャンバレーザシステムを含むことができる。ＰＯＰＡとして、レーザシステムのリレー光学器械は、第１の出力レーザ光パルスビームを第１のレーザユニットから第２のガス放電チャンバ内に向けるように作動することができ、タイミング及び制御モジュールは、第１の出力レーザ光パルスビームが±３ｎｓ以内に第２の放電領域を通過している間に第２の対の電極間にガス放電を作り出すように作動し、ＰＯＰＯとして、結合光学器械は、出力ビームを結合し、タイミングは、結合出力内に予め選択された時間±３ｎｓのパルス分離を作り出す。ビーム送出ユニット及びパルス伸張器を含めることもでき、タイミング及び制御は、パルス圧縮及び電圧ステップアップ回路における充電電圧及び構成要素温度を表す信号に基づいてプロセッサ制御することができる。 （もっと読む）