インクジェット用インク
【課題】インクジェットヘッドの耐久性を低下させない溶媒を使用できるイミド系の化合物を含み、且つ、インク中にイミド系の化合物を高濃度で含有し、常温保存における保存安定性が良好で、１回のジェッティングで比較的厚い（１μｍ以上の）膜を形成でき、さらに、製膜時に耐熱性、電気絶縁性が高く、十分な機械的強度を有する、反り量の少ない絶縁膜を得ることができるインクジェット用インクを提供する。
【解決手段】モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インク。
【解決手段】モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット用インクに関し、例えば電子部品製作において絶縁膜層を形成するためのイミド化合物、該化合物を用いて形成されるイミド化合物の膜、および該イミド化合物の膜を形成したフィルム基板、該フィルム基板を有する電子部品、および該イミド化合物の膜を形成したシリコンウエハー基板、該シリコンウエハー基板を有する電子部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
イミド結合を有する化合物（イミド系化合物）の１種であるポリイミドは耐熱性、電気絶縁性に優れるため電子通信分野で広く用いられている材料である（例えば、特許文献１〜３参照。）。
ポリイミドを所望のパターン膜として使用する場合、従来はエッチングや感光性ポリイミドを用いてパターンを形成することが一般的であったが、フォトレジスト、現像液、エッチング液、剥離液などの多種大量の薬液が必要であり、さらに煩雑な工程を要するものであった。そこで、近年、インクジェットにより所望のパターン膜を形成する方法が検討されている。
インクジェット用インクは各種提案されているが（例えば、特許文献４〜５参照。）、インクジェット用インクとして吐出・印刷するためには、粘度、表面張力、溶剤の沸点等の様々なパラメータを最適化して行かなくてはならない。例えば、粘度に関しては、一般的には１〜５０ｍＰａ・ｓ程度、好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ程度の低粘度であることが求められ、特にピエゾ方式のインクジェット印刷の場合は圧電素子の吐出圧力が小さいため、粘度が大きくなると場合によっては吐出不能となったりする。表面張力については、２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲、好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲に調整しなければならない。表面張力が小さいと、インクはプリンターヘッドのノズルから出た直後に広がってしまい良好な液滴が形成できなくなる。反対に大きすぎるとメニスカスを形成できなくなるため吐出不能になったりする。さらに、溶剤の沸点は１００〜３００℃、好ましくは１５０〜２５０℃の範囲に入る必要がある。沸点が低すぎると、プリンターヘッドのノズル部のインク中の溶剤が蒸発してしまう。そのためインクの粘度が変わり吐出できなくなったり、あるいはインクの成分が固化してしまうことがある。逆に沸点が高すぎると、印刷後の乾燥が遅すぎて印刷パターンが悪化することがある。
【０００３】
ポリイミド系のインクジェット用インクは、ポリアミド酸が比較的高分子量であるため、インクジェット用インクとして最適な粘度のインクを調製するためには、溶媒の割合を増やしてインク中のポリアミド酸含有量を少なくする必要がある。しかし、これによって、１回のインクジェッティングで得られる膜の厚さが薄くなってしまうという問題がある。
例えば、ポリアミド酸の重量平均分子量を１０，０００〜５０，０００に制御することによりインクの低粘度化を図り、ポリアミド酸の含有量を大きくすることが提案されている（例えば、特許文献６参照）。しかしながら、ポリマー濃度が１５〜２０重量％程度と小さいものであった。また、粘度も１５〜２５ｍＰａ・ｓと比較的高いためインクジェット吐出不良が生じ易いという問題がある。
【０００４】
また、熱架橋剤と、該熱架橋剤と反応可能な基を有する平均分子量３００〜９，０００のポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールを含有するインクジェット用熱硬化性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献７参照）。熱架橋剤と反応可能なフェノール性水酸基、カルボキシル、スルホンアミドなどの基を有するポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールを含有する組成物に関するものであり、該組成物はエポキシ化合物、メチロール化合物、アルコキシメチロール化合物、ビスマレイミド、不飽和結合を有するビスイミド化合物、アセチレン化合物などの熱架橋剤を必須とするため、保存安定性や熱硬化時の残存未反応物等が問題である。
【０００５】
一方、モノアミンと酸無水物基を１つ有する化合物とを用いて得られるイミド化合物は、各種提案されている。
例えば、（Ａ）ポリフェニレンエーテル２０〜８０重量部、（Ｂ）スチレン系重合体、ポリアミドまたはスチレン系重合体とポリアミドの組合せ８０〜２０重量部、（Ｃ）下記に示されるハロゲン置換フタリミドシラン系化合物（イミド化合物）０．１〜７重量部からなる難燃性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献８参照）。しかしながら、該技術はポリフェニレンエーテル、スチレン系重合体、ポリアミド等の樹脂組成物に少量（０．１〜７重量部）のハロゲン置換フタリミドシラン系化合物（イミド化合物）を添加して難燃性を付与するものである。溶融混錬後、ペレット化して成形するものであり、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【０００６】
ポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物において、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、下記に示されるイミノスルホネート誘導体（ＰＡＧ６：イミド化合物）が提案されている（例えば、特許文献９参照）。しかしながら、該技術のポジ型フォトレジスト組成物は、基板上にスピナー、コーター等で塗布後、所定のマスクを通して露光し、ベークを行い現像することによりレジストパターンを得るものであり、インクジェット印刷により直接パターンを得る、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【０００７】
下記に示される新規エポキシ化合物（イミド化合物）とその製造方法が提案されている（例えば、特許文献１０参照）。しかしながら、該技術は電気・電子・光学部品の封止材料、成形材料、注型材料、積層材料、接着剤及び粉体塗料等の原料用途に有用である新規エポキシ化合物を提供するものであり、インクジェット用インクの成分としての使用は何ら想定されていない。
【０００８】
（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）下記に示されるイミドシラン化合物（イミド化合物）を含有する感光性シロキサン組成物が提案されている（例えば、特許文献１１参照）。
【０００９】
また、（ａ）下記に示されるイミド基含有シラン化合物（イミド化合物）とオルガノシラン化合物の１種以上を反応させて得られるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、を含有する感光性シロキサン組成物において、イミド基含有シラン化合物の含有量がポリシロキサンに対して３０モル％以上である感光性シロキサン組成物が提案されている（例えば、特許文献１２参照）。
しかしながら、該技術の感光性シロキサン組成物は、スピンナー、ディッピング、スリットなどの方法により基板上に塗布し、プリベークの後、紫外線可視露光機を用い所望のマスクを介してパターニング露光後、現像によりポジ型のパターンを得るものであり、インクジェット印刷により直接パターンを得る、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【００１０】
さらに、モノアミンと酸無水物基を２つ有する化合物（テトラカルボン酸二無水物とを用いて得られるイミド化合物についても、各種提案されている。
例えば、（Ａ）特定構造のポリアミド酸および特定構造の可溶性ポリイミドからなるマトリックス樹脂の群の少なくとも一種と、（Ｂ）Ｍ（ＯＲ６）ｎＲ７ｍで表される化合物、特定構造の硝酸化合物および特定構造のジピバロイルメタン化合物からなる金属化合物の群の少なくとも一種と、（Ｃ）特定構造のアミン化合物、特定構造の酢酸化合物、特定構造のアセトン化合物、特定構造のアミド酸および下記に示される分子鎖末端にアルコキシル基を有するイミド（イミド化合物）からなる安定剤の群の少なくとも一種とからなる高誘電性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献１３参照）。
（ｍは０、１の整数）
該技術は、耐熱性の高いポリアミド酸化合物および可溶性ポリイミド化合物の少なくとも一種からなるマトリックス樹脂、高誘電性の金属化合物および安定剤としてのイミド化合物を、水とともに混合して得られる、特殊な高誘電性樹脂組成物である。
【００１１】
また、前記の特許文献１１においても、（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）下記に示されるイミドシラン化合物（イミド化合物）を含有する感光性シロキサン組成物が提案されているが、前述したとおり、インクジェット印刷により直接パターンを得る、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【００１２】
以上のように、モノアミンと酸無水物基を１つ有する化合物とを用いて得られるイミド化合物は、各種提案されているが、すべてインクジェット用インクとしての使用を想定されているものでなく、インクジェット用インクとして必要な粘度や表面張力の最適化については何ら考慮されたものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２０００−０３９７１４号公報
【特許文献２】特開２００３−２３８６８３号公報
【特許文献３】特開２００４−０９４１１８号公報
【特許文献４】特開２００３−２１３１６５号公報
【特許文献５】特開２００６−１３１７３０号公報
【特許文献６】特開２００５−１８７５９６号公報
【特許文献７】特開２００７−３１４６４７号公報
【特許文献８】特開平７−１７９７４５号公報
【特許文献９】特開２００１−１００４１８号公報
【特許文献１０】国際公開ＷＯ２００８／０２０６３７号パンフレット
【特許文献１１】国際公開ＷＯ２００８／０６５９４４号パンフレット
【特許文献１２】特開２００８−１８５６７２号公報
【特許文献１３】特開平６−２３４９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
上述する状況の下、粘度、表面張力、溶剤の沸点等の様々なパラメータをインクジェット印刷用に最適化したインクジェット用インクにおいて、インクジェットヘッドの耐久性を低下させない溶媒を使用できるイミド系の化合物を含むインクジェット用インクが求められている。また、インク中にイミド系の化合物を高濃度で含有し、常温保存における保存安定性が良好で、１回のジェッティングで比較的厚い（１μｍ以上の）膜を形成できる、インクジェット用インクが求められている。
さらに、製膜時に耐熱性、電気絶縁性が高く、十分な機械的強度を有する、反り量の少ない絶縁膜を得ることができるインクジェット用インクが求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者等は、前記課題を解決するため鋭意検討した。その結果、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インクとすることにより、ヘッドへのダメージを低減でき、さらにインク中の含有濃度を向上させたインクジェット用インクが得られることを見出し、本発明を完成させた。
本発明は以下のようなインクジェット用インク等を提供する。
【００１６】
［１］ モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インク。
［２］ イミド化合物（Ａ）が、式（１）で表される化合物である、前記［１］項に記載のインクジェット用インク。
式（１）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基であり、Ｒｂは炭素数１〜１００の一価の有機基である。
［３］ モノアミン（ａ１）が、式（２）で表され、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、式（３）で表される、前記［１］項又は前記［２］項に記載のインクジェット用インク。
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｙは炭素数１〜２０の二価の有機基であり、式（３）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基である。
［４］ イミド化合物（Ａ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して５〜９５重量％である前記［１］〜［３］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［５］ モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシランおよびｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上であり、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、無水トリメリット酸、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、３−フルオロフタル酸無水物、４−フルオロフタル酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン１，２−ジカルボン酸無水物、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、ブチルこはく酸無水物、ｎ−オクチルこはく酸無水物、デシルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、テトラデシルこはく酸無水物、ヘキサデシルこはく酸無水物、オクタデシルこはく酸無水物、２−ブテン−１−イルこはく酸無水物、２−ヘキセン−１−イルこはく酸無水物、ｎ−オクテニルこはく酸無水物、ｎ−デセニルこはく酸無水物、２−ドデセン−１−イルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ヘキサデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドおよびトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドからなる群から選ばれる１以上である、前記［１］項又は前記［２］項に記載のインクジェット用インク。
［６］ モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを反応溶媒中で反応させた後、１４０〜２３０℃で１．５〜１０時間還流して得られるイミド化合物（Ａ）を含む、前記［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［７］ インクジェット吐出温度時のインクの粘度が５〜３０ｍＰａ・ｓである前記［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［８］ インクジェット用インクの表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍである前記［１］〜［７］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［９］ 溶媒（Ｂ）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランおよびジフェニルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上である、前記［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１０］ 溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％である前記［９］項に記載のインクジェット用インク。
［１１］ 溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、１５〜７０重量％である前記［９］項に記載のインクジェット用インク。
［１２］ 溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒が０〜２０重量％である、前記［１］〜［１１］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１３］ 溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒の含有量が０重量％である、前記［１］〜［１１］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１４］ モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、溶媒（Ｂ）が、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルである、前記［１］項に記載のインクジェット用インク。
［１５］ モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、溶媒（Ｂ）が、テトラエトキシシランである、前記［１］項に記載のインクジェット用インク。
［１６］ さらに、高分子化合物、アルケニル置換ナジイミド化合物、シリコン化合物、エポキシ化合物、アクリル化合物、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、及びエポキシ硬化剤からなる群から選ばれる１以上を含む、前記［１］〜［１５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１７］ 高分子化合物が、少なくとも、ジアミン（ａ３）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）とを用いて得られ、式（４）で表される構成単位を有する、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、前記［１６］項に記載のインクジェット用インク。
式（４）中、Ｒ４は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒ５は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
［１８］ ジアミン（ａ３）が、式（５）で表されるジアミンであり、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物、及び、酸無水物基を有するモノマーと他の重合性モノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１以上である、前記［１７］項に記載のインクジェット用インク。
式（５）中、Ｒ６は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
［１９］ 式（５）で表されるジアミン（ａ３）が、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン及び式（７）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１８］項に記載のインクジェット用インク。
式（７）中、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル又はフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してメチレン、フェニレン又はアルキルで置き換えられたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
［２０］ 式（６）で表される酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、ピロメリット酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物及びブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１８］に記載のインクジェット用インク。
［２１］ 高分子化合物が、重量平均分子量３０，０００〜５００，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、前記［１７］〜［２０］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［２２］ エポキシ化合物が、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、オキシランを有するモノマーの重合体、及び、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１６］項に記載のインクジェット用インク。
［２３］ エポキシ化合物が、式（Ｉ）〜（Ｖ）からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１６］項に記載のインクジェット用インク。
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（VI）中、Ｒfは水素又は炭素数１〜３のアルキルである。
［２４］ 前記［１］〜[２３］のいずれかに記載のインクジェット用インクから得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
［２５］ 前記［１］〜［２３］のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成した後、膜を硬化処理して得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
［２６］ 前記［１］〜［２３］のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成する工程、及び、膜を硬化処理する工程を含む、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜の形成方法。
［２７］ 前記［２４］項又は前記［２５］項に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたフィルム基板。
［２８］ 前記［２７］項に記載のフィルム基板を有する電子部品。
［２９］ 前記［２４］項又は前記［２５］項に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたシリコンウエハー基板。
［３０］ 前記［２９］項に記載のシリコンウエハー基板を有する電子部品。
【００１７】
本明細書中、「有機基」とは特に限定されるものではないが、例えば、炭素数１〜１００の炭化水素基が挙げられる。
【００１８】
また、一価の有機基としては、具体的には、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいシリル、置換基を有していてもよいアルキルチオ（−ＳＹ１、式中、Ｙ１は置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ（−ＳＹ２、式中、Ｙ２は置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル（−ＳＯ２Ｙ３、式中、Ｙ３は置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル（−ＳＯ２Ｙ４、式中、Ｙ４は置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）が挙げられる。
【００１９】
本明細書において、「炭素数１〜２０の炭化水素基」の炭化水素は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい。炭素数１〜２０の炭化水素が非環式の場合には、直鎖状でもよいし、枝分かれでもよい。「炭素数１〜２０の炭化水素基」には、炭素数１〜２０のアルキル、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数２〜２０のアルキニル、炭素数４〜２０のアルキルジエニル、炭素数６〜１８のアリール、炭素数７〜２０のアルキルアリール、炭素数７〜２０のアリールアルキル、炭素数４〜２０のシクロアルキル、炭素数４〜２０のシクロアルケニルなどが含まれる。
【００２０】
本明細書において、「炭素数１〜２０のアルキル」は、炭素数１〜１０のアルキルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキルであることが更に好ましい。アルキルの例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。
【００２１】
本明細書において、「炭素数２〜２０のアルケニル」は、炭素数２〜１０のアルケニルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルケニルであることが更に好ましい。アルケニルの例としては、制限するわけではないが、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチルアリル、２−ブテニル等を挙げることができる。
【００２２】
本明細書において、「炭素数２〜２０のアルキニル」は、炭素数２〜１０のアルキニルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキニルであることが更に好ましい。アルキニルの例としては、制限するわけではないが、エチニル、プロピニル、ブチニル等を挙げることができる。
【００２３】
本明細書において、「炭素数４〜２０のアルキルジエニル」は、炭素数４〜１０のアルキルジエニルであることが好ましく、炭素数４〜６のアルキルジエニルであることが更に好ましい。アルキルジエニルの例としては、制限するわけではないが、１，３−ブタジエニル等を挙げることができる。
【００２４】
本明細書において、「炭素数６〜１８のアリール」は、炭素数６〜１０のアリールであることが好ましい。アリールの例としては、制限するわけではないが、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることができる。
【００２５】
本明細書において、「炭素数７〜２０のアルキルアリール」は、炭素数７〜１２のアルキルアリールであることが好ましい。アルキルアリールの例としては、制限するわけではないが、ｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、２，３−キシリル、２，４−キシリル、２，５−キシリル、ｏ−クメニル、ｍ−クメニル、ｐ−クメニル、メシチル等を挙げることができる。
【００２６】
本明細書において、「炭素数７〜２０のアリールアルキル」は、炭素数７〜１２のアリールアルキルであることが好ましい。アリールアルキルの例としては、制限するわけではないが、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、２，２−ジフェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル等を挙げることができる。
【００２７】
本明細書において、「炭素数４〜２０のシクロアルキル」は、炭素数４〜１０のシクロアルキルであることが好ましい。シクロアルキルの例としては、制限するわけではないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。
【００２８】
本明細書において、「炭素数４〜２０のシクロアルケニル」は、炭素数４〜１０のシクロアルケニルであることが好ましい。シクロアルケニルの例としては、制限するわけではないが、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等を挙げることができる。
【００２９】
本明細書において、「炭素数１〜２０のアルコキシ」は、炭素数１〜１０のアルコキシであることが好ましく、炭素数２〜６のアルコキシであることが更に好ましい。アルコキシの例としては、制限するわけではないが、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ等がある。
【００３０】
本明細書において、「炭素数６〜２０のアリールオキシ」は、炭素数６〜１０のアリールオキシであることが好ましい。アリールオキシの例としては、制限するわけではないが、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等を挙げることができる。
【００３１】
本明細書において、「アルキルチオ（−ＳＹ１、式中、Ｙ１は置換を有してもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）」および「アルキルスルホニル（−ＳＯ２Ｙ３、式中、Ｙ３は置換を有してもよい炭素数１〜２０のアルキルを示す。）」において、Ｙ１およびＹ３は、炭素数２〜１０のアルキルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキルであることが更に好ましい。アルキルの例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。
【００３２】
本明細書において、「アリールチオ（−ＳＹ２、式中、Ｙ２は置換を有してもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）」および「アリールスルホニル（−ＳＯ２Ｙ４、式中、Ｙ４は置換を有してもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）」において、Ｙ２およびＹ４は、炭素数６〜１０のアリールであることが好ましい。アリールの例としては、制限するわけではないが、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることができる。
【００３３】
「炭素数１〜２０の炭化水素基」、「炭素数１〜２０のアルコキシ」、「炭素数６〜２０のアリールオキシ」、「アミノ」、「シリル」、「アルキルチオ」、「アリールチオ」、「アルキルスルホニル」、「アリールスルホニル」には、置換基が導入されていてもよい。この置換基としては、例えば、エステル、カルボキシル、アミド、アルキン、トリメチルシリル、アミノ、ホスホニル、チオ、カルボニル、ニトロ、スルホ、イミノ、ハロゲノ、またはアルコキシなどを挙げることができる。この場合、置換基は、置換可能な位置に１個以上、置換可能な最大数まで導入されていてもよく、好ましくは１個〜４個導入されていてもよい。置換基数が２個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３４】
本明細書において、「置換基を有してもよいアミノ」の例としては、制限するわけではないが、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノ等がある。
【００３５】
本明細書において、「置換基を有していてもよいシリル」の例としては、制限するわけではないが、ジメチルシリル、ジエチルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メチルメトキシフェニル等がある。
【００３６】
以上、一価の有機基の具体例を挙げたが、本明細書中、二価の有機基の具体例としては、本明細書中に記載された一価の有機基においてさらに価数を１つ増やした基が挙げられる。同様に、本明細書中、三価の有機基の具体例としては、本明細書中に記載された一価の有機基においてさらに価数を２つ増やした基が挙げられる。さらに、本明細書中、四価の有機基の具体例としては、本明細書中に記載された一価の有機基においてさらに価数を３つ増やした基が挙げられる。
【発明の効果】
【００３７】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクは、例えば、インクジェットヘッドへのダメージを抑えることができる。また、インクの常温保存における保存安定性が良好である。本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクに用いられるイミド化合物を用いると、インク中に高濃度で含有させることができるため、１回のジェッティングで比較的厚い膜厚（１μｍ以上）を有するイミド化合物の膜を形成することができる。
さらに、本発明の高分子化合物（好ましくは本発明のポリアミド酸）、または／および本発明のエポキシ化合物を併用することにより、製膜時に十分な機械的強度を得ることができ、インクジェット印刷に適した低粘度化と２５重量％以上の高濃度化の両立が可能である。
【００３８】
また、パターン状のイミド化合物の膜の形成のために、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクを用いる場合、インクジェット印刷により必要な部分のみに描画すればよいため、エッチング等の他の方法に比べて材料使用量は圧倒的に少なく、フォトマスクを使用する必要等がないので多品種大量生産が可能であり、また、製造に要する工程数が少ないものとすることができる。また、本発明のイミド化合物の膜又はパターン状のイミド化合物の膜から形成された絶縁膜は、例えば、耐熱性、電気絶縁性が高く、十分な機械的強度を有し、反り量が少なく、電子部品の信頼性、歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
本発明は、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含むインクジェット用インク、当該インクを用いたイミド化合物の膜の形成方法等を提供する。なお、本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。
【００４０】
１ イミド化合物（Ａ）
イミド化合物（Ａ）は、少なくとも、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得ることができる。
【００４１】
本発明のインクジェット用インクに含まれるイミド化合物（Ａ）は、少なくとも、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とからなる群から選ばれる１以上を反応させる工程を用いて得ることができるが、当該製法で得られたイミド化合物に限定されるものではない。
【００４２】
イミド化合物（Ａ）としては、式（１）で表される化合物が挙げられる。式（１）におけるＲａは酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）の反応残基であり、Ｒｂはモノアミン（ａ１）の反応残基である。反応残基とは、モノアミン（ａ１）又は酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）において、式（１）に含まれるイミド結合を構成する部位以外の基を意味する。
式（１）におけるＲａとＲｂはそれぞれ独立して炭素数１〜１００の有機基であれば特に限定されるものではない。「炭素数１〜１００の有機基」は、好ましくは炭素数２〜７０の有機基であり、より好ましくは炭素数４〜５０の有機基である。
【００４３】
以下に、イミド化合物（Ａ）を得るために用いることができる、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを説明する。
なお、Ｒａは、好ましくは以下に示す酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）の反応残基であり、Ｒｂは、好ましくは以下に示すモノアミン（ａ１）の反応残基である。
【００４４】
１．１ モノアミン（ａ１）
モノアミン（ａ１）としては、式（２）で表される化合物が挙げられる。式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の有機基であり、Ｙは炭素数１〜２０の有機基である。有機基の説明は、前述した説明を援用することができる。
【００４５】
モノアミン（ａ１）としては、アミノ基を１つ有していれば特に限定されないが、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン又はｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシランが挙げられる。
【００４６】
これらの中でも、例えば得られる膜の耐久性が優れるという点から、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシランが好ましく、３−アミノプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。
【００４７】
これらのモノアミンは単独でも、２種以上を組み合わせても使用できる。
【００４８】
１．２ 酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）としては、式（３）で表される化合物が挙げられる。式（３）中、Ｒａは炭素数１〜１００の有機基である。有機基の説明は、前述した説明を援用することができる。
【００４９】
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）としては、酸無水物基を１つ有していれば特に限定されないが、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、３−フルオロフタル酸無水物、４−フルオロフタル酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン１，２−ジカルボン酸無水物、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、２−ブテン−１−イルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、ブチルこはく酸無水物、ｎ−オクチルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド又はトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドが挙げられる。
【００５０】
これらの中でも、無水フタル酸、無水トリメリット酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物が好ましい。これらの酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）は１種単独でまたは２種以上を組み合わせてもよい。
【００５１】
１．３ イミド化合物（Ａ）を合成するための反応条件
イミド化合物（Ａ）は、少なくとも、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを反応させる工程を用いて得ることができる。
【００５２】
１．３．１ 反応原料の仕込量
モノアミン（ａ１）及び酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）の仕込量は、１モルのモノアミン（ａ１）に対して、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）を０．５〜２．０モル用いることが好ましく、０．７〜１．５モル用いることがより好ましく、１．０〜１．２モル用いることがさらに好ましい。
【００５３】
１．３．２ 反応溶媒
イミド化合物（Ａ）を合成するために用いられる反応溶媒は、当該イミド化合物（Ａ）が合成できれば特に限定されるものではないが、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン又はジフェニルジエトキシシランが挙げられる。
【００５４】
これらの反応溶媒の中でも、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランを用いると、反応後に当該溶媒をそのままインクジェット用溶媒として用いても、インクジェットヘッドへのダメージが少ないインクとすることができるので好ましい。
【００５５】
これらの反応溶媒は単独でも、２種以上の混合溶媒としても使用できる。また、上記反応溶媒以外に他の溶媒を混合して用いることもできる。
【００５６】
反応溶媒は、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は０℃〜２００℃で、０．２〜２０時間反応させるのが好ましい。
【００５７】
１．３．３ 反応系への添加順序
反応原料の反応系への添加順序は特に限定されない。すなわち、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを同時に反応溶媒に加える、モノアミン（ａ１）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）を添加する、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）を反応溶媒中に溶解させた後にモノアミン（ａ１）を添加する等、いずれの方法も用いることができる。
【００５８】
１．３．４ イミド化
本発明のイミド化合物（Ａ）は、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）と反応溶媒中で反応させて得られるアミド酸化合物をイミド化することにより得ることができる。
本発明のアミド酸化合物は、脱水触媒および脱水剤を用いた化学的方法、あるいは熱的方法によりイミド化することにより得ることができるが、好ましくは、精製処理を行なわないでインクの成分として使用できる熱的方法でイミド化することである。さらに好ましくは、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）と反応溶媒中で反応させた後、還流してイミド化することである。還流の条件は、使用する反応溶媒により異なるが、好ましくは１４０〜２３０℃で１．５〜１０時間還流する。還流温度が１４０℃以上であるとイミド化が十分に進み強固な膜を得ることができる。還流温度が２３０℃以下であると比較的沸点の高い溶媒を用いても還流可能である。
特に、モノアミン（ａ１）として、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン又はｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン等のアミノ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物を用いる場合、還流の過程でイミド化で生成する水がアルコキシシランの一部の加水分解に消費され、イミド化と加水分解が同時に進行するため好ましい。理由は定かでないが、アミド酸化合物のイミド化、及び部分的な加水分解により発生するシラノール基（およびアルコール）がインクジェットインクの特性に好ましい影響を与えて、２００℃以下の比較的低温焼成においても、電気的、機械的、熱的特性の良好なイミド化合物の強固な膜が形成できると推定している。
【００５９】
１．４ イミド化合物（Ａ）の含有量
イミド化合物（Ａ）の含有量は、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％とすることが好ましく、２５〜７０重量％とすることがより好ましく、３０〜５０重量％とすることがさらに好ましい。５重量％以上では、１回のジェッティングで形成できるイミド化合物の膜が薄くなり過ぎることがなく、９５重量％以下では、インクジェット用インクの粘度が大きくなり過ぎず、ジェッティング特性がよい。
【００６０】
２ 溶媒（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクは、例えば、イミド化合物（Ａ）を溶媒（Ｂ）に溶解して得ることができる。したがって、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒は、イミド化合物（Ａ）を溶解することができる溶媒であれば特に制限されない。また、単独ではイミド化合物（Ａ）を溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合して溶解可能にすることによって、インクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｂ）として用いることが可能である。なお、インクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｂ）としては、上述するように、イミド化合物（Ａ）の合成で用いた反応溶媒をそのまま用いてもよい。
【００６１】
２．１ 溶媒の具体例
溶媒（Ｂ）としては、例えば、乳酸エチル、３−メチル−３−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、マロン酸ジエチル、エタノール、２−プロパノール、ジオキサン、エチレングリコール、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、カルバミド酸エステル、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド又はγ−ブチロラクトンが挙げられる。
【００６２】
これらの溶媒の中でも、例えば、インクジェットヘッドへのダメージを抑える観点から、乳酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランを含むことが好ましい。
【００６３】
これらの溶媒は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６４】
２．２ 溶媒の含有量
また、溶媒（Ｂ）の含有量は、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％（溶媒以外の成分の固形分濃度が５〜９５重量％）とすることが好ましく、１０〜８０重量％（固形分濃度が２０〜９０重量％）とすることがより好ましく、１５〜７５重量％（固形分濃度が２５〜８５重量％）とすることがさらに好ましい。５重量％以上では、インクジェット用インクの粘度が大きくなり過ぎず、ジェッティング特性は良好であり、９５重量％以下では、１回のジェッティングで形成できるイミド化合物の膜が薄くなり過ぎることがない。
【００６５】
２．３ インクの表面張力と溶媒との関係
インクの表面張力は、インクジェット用インクの塗布性に大きく影響するため、インクの表面張力を２０〜７０ｍＮ／ｍ、好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍに調整する。
【００６６】
表面張力を２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲に調整するには、溶媒選定が重要である。表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲にある１種の溶媒を用いてもよいが、例えば表面張力の大きな溶媒（例えば、γ−ブチロラクトン：４３ｍＮ／ｍ）および表面張力の小さな溶媒（例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル：２４ｍＮ／ｍ、あるいはエチレングリコールモノブチルエーテル：３２ｍＮ／ｍ）を混合して用いると溶媒組成で表面張力を微調整できるので好ましい。
【００６７】
２．４ 含有しないことが好ましい溶媒
また、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｂ）には、インクジェットヘッドを溶解または腐食する溶媒を含有しないことが好ましい。
【００６８】
インクジェットヘッドを溶解または腐食する溶媒としては、例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、又はカルバミド酸エステル等が挙げられる。
【００６９】
インクジェットヘッドを溶解または腐食する溶媒の含有量は、インク中に含まれる溶媒（Ｂ）の全重量に対して、０〜２０重量％に抑えることが好ましく、０〜１０重量％に抑えることがより好ましく、０重量％に抑えることがさらに好ましい。
【００７０】
３ 本発明のインクジェット用インクに添加してもよい添加剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、イミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを混合して得られるが、必要により、さらに各種添加剤を含んでもよい。各種添加剤としては、高分子化合物、アルケニル置換ナジイミド化合物、又はシリコン化合物等が挙げられる。
さらに、目的とする特性によっては、エポキシ化合物、アクリル化合物、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、無水トリメリット酸等のエポキシ硬化剤、ｐＨ調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマー、顔料、染料等の添加剤を必要により選択して添加してもよい。
【００７１】
３．１ 高分子化合物
本発明のインクジェット用インクは、さらに各種高分子化合物を含むことができる。高分子化合物の具体例としては、ポリアミド酸、可溶性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸エステル、ポリエステル、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー、ポリビニルアルコール、又はポリオキシエチレン等が挙げられるが、これに限定されるものではない。好ましくはポリアミド酸または可溶性ポリイミド等のポリイミド系高分子化合物である。
【００７２】
本発明の高分子化合物は、例えば、少なくとも、ジアミン（ａ３）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）とを用いて得られ、式（４）で表される構成単位を有する、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体である。
上記式（４）中、Ｒ４は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒ５は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
【００７３】
本発明において、ジアミン（ａ３）としては、式（５）で表されるジアミンを用いることができる。
【００７４】
式（５）中、Ｒ６は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
【００７５】
本発明でポリアミド酸またはそのイミド化重合体の合成に用いられるジアミン（ａ３）の具体例としては、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン及び下記式（７）で表される化合物が挙げられる。
【００７６】
上記式（７）中、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル又はフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してメチレン、フェニレン又はアルキルで置き換えられたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
【００７７】
本発明に用いる高分子化合物としてのポリアミド酸またはそのイミド化重合体を合成するために用いることができるジアミン（ａ３）は、本明細書のジアミンに限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のジアミン、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されているジアミンを用いることができる。
また、ジアミン（ａ３）は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。すなわち、２種以上の組み合わせとしては、上記ジアミン同士、上記ジアミンとそれ以外のジアミン、または、上記ジアミン以外のジアミン同士を用いることができる。
【００７８】
本発明に用いる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）としては、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物、及び、酸無水物基を有するモノマーと他の重合性モノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１以上を用いることができる。
【００７９】
式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
【００８０】
本発明でポリアミド酸またはそのイミド化重合体の合成に用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４ージカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物及びブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００８１】
本発明において、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体を合成するために用いることができる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）は、本明細書の化合物に限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のテトラカルボン酸二無水物、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されているテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
また、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【００８２】
本発明において、重量平均分子量３０，０００〜５００，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体が、高分子化合物として利用できる。重量平均分子量が３０，０００以上の高分子化合物を併用することにより、製膜時に十分な機械的強度が得ることができ、重量平均分子量が５００，０００以下の高分子化合物を併用することにより、溶媒に対する溶解性を向上させ、２５重量％以上の高濃度化と低粘度化を両立することができるので、得られる塗膜の膜厚を大きくすることが可能である。また、本発明において、高分子化合物の重量平均分子量は３５，０００〜２００，０００であることが好ましく、４０，０００〜１５０，０００であることがさらに好ましい。
【００８３】
ポリアミド酸またはそのイミド化重合体等の高分子化合物の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定することができる。例えば、具体的には得られたポリアミド酸をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）でポリアミド酸の濃度が約１重量％になるように希釈し、カラムとして、Ｓｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−５１０ ＨＱおよびＳｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−３１０ ＨＱを用いて、ＤＭＦを展開剤としてゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。
【００８４】
さらに、本発明の高分子化合物は、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されている式(I-1)で表される構成単位を有し、式(I-2)及び式(I-3)で表される分子末端基の群から選ばれる１以上の分子末端基を有する重量平均分子量１，０００〜２０，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体を好ましく挙げることができる。
【００８５】
式(I-1)中、Ｒ１０は炭素数１〜１００の四価の有機基であり、Ｒ１１は炭素数１〜１００の二価の有機基であり、Ｒ１２は炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｒ１３は炭素数１〜１００の二価の有機基である。
【００８６】
３．２ アルケニル置換ナジイミド化合物
本発明のインクジェット用インクは、さらに各種アルケニル置換ナジイミド化合物を含むことができる。アルケニル置換ナジイミド化合物は、分子内に少なくとも１つのアルケニル置換ナジイミド構造を有する化合物である。好ましくは、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されている、式(II-1)で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００８７】
式(II-1)中、Ｒ１４およびＲ１５はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかであり、ｎは１〜２の整数であり、
ｎ＝１のとき、Ｒ１６は水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のヒドロキシアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリール、ベンジル、−｛（ＣｑＨ２ｑ）Ｏｔ（ＣｒＨ２ｒＯ）ｕＣｓＨ２ｓＸ｝（ここで、ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に選ばれた２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数、Ｘは水素または水酸基である）で表されるポリオキシアルキレンアルキル、−（Ｒ）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ１７（ここで、ａは０または１の整数、Ｒは炭素数１〜４のアルキレン、Ｒ１７は水素もしくは炭素数１〜４のアルキルを表す）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ５（ここで、Ｔは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｓ−もしくはＳＯ２−である）で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結した１〜３個の水素が水酸基で置換された基であり、
ｎ＝２のとき、Ｒ１６は−ＣｐＨ２ｐ−（ここで、ｐは２〜２０の整数）で表されるアルキレン、炭素数５〜８のシクロアルキレン、−｛（ＣｑＨ２ｑＯ）ｔ（ＣｒＨ２ｒＯ）ｕＣｓＨ２ｓ｝−（ここで、ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数である）で表されるポリオキシアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ１７）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ１８−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ１７及びＲ１８は独立に選ばれた炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−（ここで、Ｔは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−）で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置換された基である。
【００８８】
また、式(II-1)で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物の中でも、
Ｒ１４およびＲ１５はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかであり、
ｎが２であり、
Ｒ１６が、−ＣｐＨ２ｐ−（ここで、ｐは２〜１０の整数）で表されるアルキレン、−（Ｒ１７）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ１８−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ１７及びＲ１８は独立に選ばれた炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、または−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−（ここで、Ｔは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−）で表される基である、アルケニル置換ナジイミド化合物が好ましい。
【００８９】
また、式(II-1)で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物の中でも、
Ｒ１４およびＲ１５がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
ｎが２であり、
Ｒ１６が−（ＣＨ２）６−、式(II-2)で表される基または式(II-3)で表される基である、アルケニル置換ナジイミド化合物が好ましい。
【００９０】
【００９１】
３．３ シリコン化合物
本発明のインクジェット用インクは、さらにシリコン化合物を含むことができる。シリコン化合物の具体例としては、分子内にアミド酸構造を有するシリコン化合物であるシリコンアミド酸等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００９２】
好ましくは、例えば、国際公開ＷＯ２００８／１２３１９０号パンフレットに記載されている、分子内に少なくとも２つのアミド酸構造を有する、式(III)で表されるシリコンアミド酸、又は式(IV)で表されるシリコンアミド酸が挙げられる。式(III)で表されるシリコンアミド酸の中でも、式(III-1)、(III-2)又は(III-3)で表されるシリコンアミド酸が好ましい。また、式(IV)で表されるシリコンアミド酸の中でも、式(IV-1)、(IV-2)、(IV-3)又は(IV-4)で表されるシリコンアミド酸が好ましい。
【００９３】
式(III)中、Ｘは、炭素数１〜１００の四価の有機基であり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙは、炭素数１〜２０の有機基である。
【００９４】
式(III-1)、(III-2)又は(III-3)中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも一つは、炭素数１〜２０のアルコキシ基を含み、ａは、１〜２０の整数である。
【００９５】
式(IV)中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙ’は、炭素数１〜２０の三価の有機基であり、Ｘ’は炭素数１〜１００の二価の有機基である。
【００９６】
式(IV-1)、(IV-2)、(IV-3)又は(IV-4)中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも一つは、炭素数１〜２０のアルコキシ基を含み、式(IV-3)のＲは炭素数２〜３０の一価の有機基であり、式(IV-4)のＲは水素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、ａは、１〜２０の整数である。
【００９７】
３．４ エポキシ化合物
本発明のインクジェット用インクは、エポキシ化合物をさらに含んでもよい。インクジェット用インクに含まれるエポキシ化合物は、オキシランやオキセタンを有すれば特に限定されないが、オキシランを２つ以上有する化合物が好ましい。
【００９８】
インクジェット用インク中のエポキシ化合物の濃度は特に限定されないが、インクジェット用インク全重量に対して、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１５重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【００９９】
エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、オキシランを有するモノマーの重合体、又はオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体等が挙げられる。
【０１００】
オキシランを有するモノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、又はメチルグリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、オキシランを有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとの具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、又はＮ−フェニルマレイミド等が挙げられる。
【０１０１】
オキシランを有するモノマーの重合体及びオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ｎ−ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、又はスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体等が挙げられる。
【０１０２】
エポキシ化合物の具体例としては、商品名「エピコート８０７」、「エピコート８１５」、「エピコート８２５」、「エピコート８２７」、「エピコート８２８」、「エピコート１９０Ｐ」、「エピコート１９１Ｐ」（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、商品名「エピコート１００４」、「エピコート１２５６」（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、商品名「アラルダイトＣＹ１７７」、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、「セロキサイド３０００」、「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル化学工業（株）製）、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」（三井化学（株）製）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、又はＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
これらの中でも、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」、商品名「エピコート８２８」は、得られるイミド化合物の膜の平坦性が特に良好であるため好ましい。
【０１０３】
さらにエポキシ化合物の具体例としては、式（Ｉ）〜（Ｖ）の化合物が挙げられる。これらの中でも、式（Ｉ）および（Ｖ）の化合物は、得られるイミド化合物の膜の平坦性が特に良好であるため好ましい。
【０１０４】
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
【０１０５】
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であるが、例えば式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物残基と式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物の反応によって得られるテトラカルボン酸残基である。
式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
式（Ｖ’）中、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは下記式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（Ｖ’）中、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であるが、例えば、炭素数１〜３０の直鎖状又は分枝状の二価の有機基であり、環構造又は酸素を含んでいてもよく、環構造としては、フェニル、シクロヘキシル、ナフチル、シクロヘキセニル、トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカニルなどが挙げられる。
式（Ｖ）、式（Ｖ’）中、Ｒeは、オキセタン、オキシラン又はシクロヘキセンを有してもよい一価の有機基であり、好ましくは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（VI）中、Ｒfは水素又は炭素数１〜３のアルキルである。
式（Ｖ）で表される化合物として、特に好ましくは式（Ｖ”）の化合物が挙げられる。
式（Ｖ）で表される化合物は、例えば、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物と式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物とを溶媒中で反応させて製造することができる。
なお、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物は、好ましくは本発明の高分子化合物（ポリアミド酸またはそのイミド化重合体）の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物である。
式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物を１モルに対して、式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物を１．９〜２．１モル用いることが好ましく、式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物を１．９５〜２．０５モル用いることがさらに好ましく、式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物を２モル用いることが特に好ましい。式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物は、２種以上の化合物を併用してもよいが、同じであることが好ましい。
また、式（Ｖ）で表される化合物は、例えば、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物とヒドロキシル及び二重結合を有する化合物とを反応させた後、得られた化合物の二重結合部分を酸化させてエポキシ基にすることにより、製造することができる。
式（Ｖ）で表される化合物を合成するために用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えばイミド化合物（Ａ）を合成するための溶媒を挙げることができる。
溶媒は、式（Ｖ）で表される化合物を製造する原料の合計１００重量部に対し５０重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応温度は８０℃〜１３０℃で、反応時間は２〜８時間が好ましい。また、反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。
【０１０６】
エポキシ化合物は１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
インクジェット用インクがこれらのエポキシ化合物を含有すると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性が良好となるため好ましい。
【０１０７】
３．６ アクリル化合物
インクジェット用インクに添加されてもよいアクリル化合物としては、アクリル基やメタクリル基を有していれば特に限定されない。
【０１０８】
インクジェット用インク中のアクリル化合物の濃度は特に限定されないが、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１０重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【０１０９】
アクリル化合物としては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能（メタ）アクリレート、または三官能以上の多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１１０】
ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートを挙げることができる。中でも、形成される膜を柔軟にできる点から、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。
【０１１１】
ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、（メタ）アクリルアミド、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、またはシクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]を挙げることができる。
【０１１２】
二官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、またはジペンタエリスリトールジアクリレートを挙げることができる。
【０１１３】
三官能以上の多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、またはウレタン（メタ）アクリレートを挙げることができる。これらのアクリル化合物は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１４】
３．６ 界面活性剤
インクジェット用インクに添加されてもよい界面活性剤を添加としては、塗布性を向上できる点から、例えば、商品名「Ｂｙｋ−３００」、「Ｂｙｋ−３０６」、「Ｂｙｋ−３３５」、「Ｂｙｋ−３１０」、「Ｂｙｋ−３４１」、「Ｂｙｋ−３４４」、「Ｂｙｋ−３７０」（ビック・ケミー（株）製）等のシリコン系界面活性剤；商品名「Ｂｙｋ−３５４」、「ＢｙＫ−３５８」、「Ｂｙｋ−３６１」（ビック・ケミー（株）製）等のアクリル系界面活性剤、商品名「ＤＦＸ−１８」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２５１」（ネオス（株）製）等のフッ素系界面活性剤を挙げることができる。これらの界面活性剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
界面活性剤は、下地基板への濡れ性、レベリング性、又は塗布性を向上させるために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１１５】
３．７ 帯電防止剤
インクジェット用インクに添加されてもよい帯電防止剤としては、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩が挙げられる。これらの帯電防止剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
帯電防止剤は、帯電を防止するために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１１６】
３．８ カップリング剤
インクジェット用インクに添加されてもよいカップリング剤としては、特に限定されるものではなく、公知のカップリング剤を用いることができる。添加されるカップリング剤はシランカップリング剤が好ましく、具体的には、トリアルコキシシラン化合物又はジアルコキシシラン化合物などを挙げることができる。好ましくは、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランである。これらの中でも、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。
【０１１７】
これらのカップリング剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。カップリング剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜３重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１１８】
３．９ エポキシ硬化剤
インクジェット用インクに添加されてもよいエポキシ硬化剤としては、特に限定されるものではなく、公知のエポキシ硬化剤を用いることができる。具体的には、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾール及びその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物などが挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミド等のジシアンジアミド類、アジピン酸ジヒドラジド、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン等の有機酸ジヒドラジド、２，４−ジアミノ−６−［２’−エチルイミダゾリル−（１’）］−エチルトリアジン、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物などの酸無水物、またはトリメリット酸が挙げられる。中でも透明性が良好なトリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物が好ましい。
【０１１９】
これらのエポキシ硬化剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。エポキシ硬化剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．２〜５重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１２０】
４ インクジェット用インク
４．１ インクジェット用インクの粘度
本発明においてインクジェット用インクの粘度は特に限定されないが、常温（２５℃）でジェッティングを行う場合は、その粘度が１〜５０ｍＰａ・ｓであると、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する点で好ましい。また、２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは８〜１５ｍＰａ・ｓ（２５℃）である。粘度が１５ｍＰａ・ｓ（２５℃）より小さいと、インクジェット吐出不良が生じることがない。
インクヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は１〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜３０ｍＰａ・ｓであればさらに好ましく、８〜１５ｍＰａ・ｓが特に好ましい。加熱温度における粘度が１５ｍＰａ・ｓより小さいと、インクジェット吐出不良が生じることがない。
【０１２１】
４．２ インクジェット用インクの表面張力
インクの表面張力は、インクジェット用インクの塗布性に大きく影響する。インクの表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲であると、良好なインクジェット吐出ができるので好ましい。より好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍ、さらに好ましくは２５〜４０ｍＮ／ｍに調整する。表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲であればインク吐出口におけるインクメニスカスが安定になり、インクの吐出は良好となる。
【０１２２】
４．３ インクジェット用インクの水分量
本発明においてインクジェット用インク中の水分量は、１０，０００ｐｐｍ以下が好ましく、５，０００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。これらの水分量であると、インクジェット用インクの粘度変化が少なく保存安定性に優れるので好ましい。
【０１２３】
５ イミド化合物の膜
本発明のイミド化合物の膜は、本発明のインクジェット用インクを、例えば、基板表面にインクジェットにより塗布し、ホットプレート、またはオーブン等で加熱処理することにより、全面または所定のパターン状（たとえばライン状）のイミド化合物の膜として得ることができる。また、本発明のイミド化合物の膜の形成は、加熱処理に限定されず、ＵＶ処理やイオンビーム、電子線、ガンマ線等の処理でもよい。
【０１２４】
５．１ インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
インクジェット塗布方法には、インクの吐出方法により各種のタイプがある。吐出方法としては、例えば、圧電素子型、バブルジェット（登録商標）型、又は連続噴射型、静電誘導型が挙げられる。本発明にかかるインクは、インクに含まれる各成分を適正に選択することにより、様々な方法でジェッティングが可能であり、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。本発明のイミド化合物をインクジェット用インクとして用いた場合、１回のジェッティングで塗布する膜厚を厚くすることが可能である。本発明において、インクジェット用インクは、１回のジェッティングにより、膜厚を１μｍ以上にできることが好ましく、５μｍ以上にできることがより好ましく、９μｍ以上にできることが特に好ましい。得られる膜厚が１μｍ以上であると、インクジェット用インクから膜を生産するための時間とコストを削減できるので好ましい。
【０１２５】
本発明にかかるインクを用いて塗布を行うのに好ましい吐出方法は、圧電素子型である。この圧電素子型のヘッドは、複数のノズルを有するノズル形成基板と、ノズルに対向して配置される圧電材料と導電材料からなる圧力発生素子と、この圧力発生素子の周囲を満たすインクとを備えた、オンデマンドインクジェット塗布ヘッドであり、印加電圧により圧力発生素子を変位させ、インクの小液滴をノズルから吐出させる。
【０１２６】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが別体となったものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１２７】
また、塗布ヘッドに対し好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収納部に吸収体を配置した形態、あるいは可撓性のインク収容袋とこれに対しその内容積を拡張する方向の付勢力を作用するばね部とを有した形態等を採用することができる。塗布装置は、上述のようにシリアル塗布方式を採るもののほか、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタの形態をとるものであってもよい。
【０１２８】
５．２ イミド化合物の膜の形成
インクジェット塗布方法を用いて、基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェットによって塗布した後、ホットプレート、またはオーブン等での加熱により溶媒を気化等させて除去する、すなわち乾燥する。この加熱条件は各成分の種類および配合割合によって異なるが、通常７０〜１５０℃で、オーブンを用いた場合は５〜１５分間、ホットプレートを用いた場合は１〜５分間乾燥する。
【０１２９】
さらに乾燥した後、塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性、さらには十分な機械的強度を得るために、１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃で、オーブンを用いた場合３０〜９０分間、ホットプレートを用いた場合は５〜３０分間加熱処理（硬化処理）することにより、イミド化合物の膜が形成される。インクジェット塗布方法を用いて、パターン状に印刷した場合には、パターン状の膜が形成される。本明細書では、特に言及のない限り、イミド化合物の膜は、パターン状のイミド化合物の膜を含むものとする。
【０１３０】
６ 基板
本発明のフィルム基板は、例えば、インクジェット等の方法により配線が形成されたポリイミドフィルム等の基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状（ライン状等）に塗布し、その後、当該基板を乾燥し、さらに加熱することにより、イミド化合物の膜が形成されて得られる。
【０１３１】
本発明のシリコンウエハー基板は、例えば、インクジェット等の方法によりシリコンウエハー等の基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状に塗布し、その後、当該基板を乾燥し、さらに加熱することにより、イミド化合物の膜が形成されて得られる。
【０１３２】
本発明で用いることができるイミド化合物の膜は、好ましくは上述したポリイミドフィルム等の基板上、あるいはシリコンウエハー基板上に形成されるが、特にこれに限定されるものではなく公知の基板上に形成することができる。
本発明に適用可能な基板としては、例えば、ＦＲ−１、ＦＲ−３、ＦＲ−４、ＦＲ−５、ＣＥＭ−３、又はＥ６６８等の各種規格に適合する、ガラスエポキシ基板、ガラスコンポジット基板、紙フェノール基板、紙エポキシ基板、グリーンエポキシ基板、又はＢＴレジン基板が挙げられる。
また、本発明に適用可能な他の基板としては、例えば、銅、黄銅、リン青銅、ベリリウム銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、スズ、クロム、又はステンレス等の金属からなる基板（それらの金属の表面を有する基板であってもよい）や；酸化アルミニウム（アルミナ）、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、ジルコニウムのケイ酸塩（ジルコン）、酸化マグネシウム（マグネシア）、チタン酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛（ＰＴ）、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛（ＰＬＺＴ）、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、硫化カドニウム、硫化モリブデン、酸化ベリリウム（ベリリア）、酸化ケイ素（シリカ）、炭化ケイ素（シリコンカーバイト）、窒化ケイ素（シリコンナイトライド）、窒化ホウ素（ボロンナイトライド）、酸化亜鉛、ムライト、フェライト、ステアタイト、ホルステライト、スピネル、又はスポジュメン等のセラミックスからなる基板（それらのセラミックスの表面を有する基板であってもよい）や；ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂、ＰＣＴ（ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート）樹脂、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、テフロン（登録商標）、熱可塑性エラストマー、又は液晶ポリマー等の樹脂からなる基板（それらの樹脂の表面を有する基板であってもよい）や；ゲルマニウム、又はガリウム砒素等の半導体基板や；ガラス基板や；あるいは酸化スズ、酸化亜鉛、ＩＴＯ、又はＡＴＯ等の電極材料が表面に形成された基板や；αＧＥＬ（アルファゲル）、βＧＥＬ（ベータゲル）、θＧＥＬ（シータゲル）、又はγＧＥＬ（ガンマゲル）（以上、株式会社タイカの登録商標）等のゲルシートが挙げられる。
【０１３３】
７ 電子部品
例えば、予め配線が形成されたポリイミドフィルム等のフィルム基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布し、その後、このフィルム基板を乾燥し、さらに加熱することによって、絶縁性を有するイミド化合物の膜で被覆されたフレキシブルな電子部品が得られる。
例えば、シリコンウエハー基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布し、その後、このシリコンウエハー基板を乾燥し、さらに加熱することによって、絶縁性を有するイミド化合物の膜で被覆された半導体素子等の電子部品が得られる。
【実施例】
【０１３４】
以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１３５】
実施例および比較例で用いる、モノアミン（ａ１）、溶媒（Ｂ）、及び添加剤の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。
モノアミン（ａ１）
ＡＰＳＥ：３−アミノプロピルトリエトキシシラン
ＡＰＭＥＳ：３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン
溶媒（Ｂ）
ＥＤＭ ：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
ＧＢＬ ：γ−ブチロラクトン
ＮＭＰ ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
添加剤又はその原料
ＥＰ１ ：エチレングリコールジグリシジルエーテル
ＥＰ２ ：下記式（Ｖ”）の化合物
ＯＤＰＡ ：３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
ＤＤＳ ：３，３’−ジアミノジフェニルスルホン
ＢＡＮＩ−Ｘ：Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド） （丸善石油化学株式会社製）
ＢＡＮＩ−Ｍ：ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン （丸善石油化学株式会社製）
【０１３６】
実施例における各物性の測定方法は、以下の通りである。
【０１３７】
(i)粘度
インクジェット用インクの粘度は、２５℃にて、Ｅ型粘度計（ＴＯＫＹＯ ＫＥＩＫＩ製 ＶＩＳＣＯＮＩＣ ＥＬＤ）で測定した。インクジェット用インクの粘度の保存安定性を見るために、必要に応じて、室温（２５℃）で６０日保存後の粘度、冷凍（−２０℃）で６０日保存後の粘度を測定した。
【０１３８】
(ii)重量平均分子量
高分子化合物の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定した。試料をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）で試料濃度が約１重量％になるように希釈し、ＧＰＣ装置として日本分光株式会社製、ＪＡＳＣＯ ＧＵＬＬＩＶＥＲ １５００ （インテリジェント示差屈折率計 ＲＩ−１５３０）を用いて、上記希釈液を展開剤としてＧＰＣ法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。カラムは、Ｓｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−５１０ ＨＱおよびＳｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−３１０ ＨＱの２本をこの順序に接続して使用し、カラム温度４０℃、流速１．０ｍｌ／ｍｉｎの条件で測定した。
【０１３９】
(iii)ライン幅、エッジの直線性
株式会社キーエンス製のカラーレーザー顕微鏡ＶＫ８７１０で観察した。
ライン幅は、装置に付属している解析ソフトを用いて測定した。また、エッジの直線性は、目視で確認した。
【０１４０】
(iv)膜厚
ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ株式会社製の触針式膜厚計αステップ２００を使用し、３箇所の測定値の平均値を膜厚とした。
【０１４１】
(v) 体積抵抗率、誘電率、耐電圧
スピンコートによりクロム基板上にインクを塗布し、所定の条件（所定の温度、時間）で乾燥させ、さらにオーブンに入れて所定の条件（所定の温度、時間）で加熱した。その後、イミド化合物の膜上にアルミニウムを蒸着させ電極を作成した（イミド化合物の膜厚：２μｍ）。
誘電率は、プレシジョンＬＣＲメーター Ｅ４９８０Ａ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）を用いて測定した。体積抵抗率および耐電圧は、ディジタル超絶縁／微少電流計 ＤＳＭ−８１０４（日置電機株式会社製）を用いて測定した。
【０１４２】
(vi) 線膨張係数
インクジェット用インクを基材（アルミホイル）上にアプリケーターを用いて塗布した。ホットプレートを用いて、所定の条件で乾燥させ、さらにオーブンに入れて所定の条件で加熱し、基材の片面に製膜した。
基材からイミド化合物の膜を剥離した後、熱・応力・歪測定装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＴＭＡ／ＳＳ６１００）を用いて、熱線膨張係数を測定した。
測定条件を下記に示す。
試料長さ：１０ｍｍ
試料幅：３ｍｍ
膜厚：１００μｍ
昇温開始温度：３０℃
昇温終了温度：３００℃
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：空気中
線膨張係数の算出：５０〜１２５℃（ファーストスキャン）
【０１４３】
(vii) ５％重量減温度
５％重量減温度は、線膨張係数測定用の試料片を用いて、示差熱重量同時測定装置（セイコーインスツルメント社製、ＳＳＣ５２００）で測定した。
測定条件を下記に示す。
試料重量：５ｍｇ
膜厚：１００μｍ
昇温開始温度：３０℃
昇温終了温度：５００℃
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：空気中
【０１４４】
(viii) 折り曲げ試験
インクジェット用インクを基材（東レデュポン株式会社製カプトン２００Ｈ（厚さ５０μｍ））上にアプリケーターを用いて塗布した。ホットプレートを用いて、所定の条件で乾燥させ、さらにオーブンに入れて所定の条件で加熱し、基材の片面に製膜した（イミド化合物の膜厚：１５μｍ）。基材のＴＤ方向(Transverse direction)が試験試料の長さ方向となるように、幅１．５ｃｍ、長さ１３ｃｍに裁断し、試験試料を作成した。
試験試料は、耐折性試験機（株式会社東洋精機製作所製、ＭＩＴ−ＤＡ）を用いて、折り曲げ面の曲率半径０．３８ｍｍ、折り曲げ角１３５°、張力４．９Ｎとし、毎分１７５回の速度で折り曲げをおこない、所定回数でのクラックの有無を観察した。
【０１４５】
(ix) 反り試験
４０×４０ｍｍ基材（東レデュポン株式会社製カプトン２００Ｈ（厚さ５０μｍ））の中央部３０×３０ｍｍを残し、接着剤付のＰＩテープを用いてガラス基板（５０×５０ｍｍ）上に固定する。スピンコートにより基材上にインクを塗布し、所定の条件で乾燥させ、１５分放冷後ＰＩテープを剥して１時間静置した。さらに基材をオーブンに入れて所定の条件で加熱した後、放冷した（イミド化合物の膜厚：１０μｍ）。基材を平坦面上に置き、平坦面からの４隅のそり高さを測定し、その平均値を反り量とした。
【０１４６】
［実施例１］ インクジェット用インク（１）
反応容器に、無水フタル酸(4.2105ｇ)、ＡＰＳＥ(6.2919ｇ)およびテトラエトキシシラン(4.5124ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（１）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は１８．５ｍＰａ・ｓであった。
【０１４７】
インクジェット用インク（１）をインクジェット用インクとして使用し、インクジェット塗布装置ＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製）で１．５ｍｍ厚のガラス板上に１ドット幅でドットピッチ２５μｍに設定し、長さ５ｃｍのライン塗布を常温（２５℃）で行った。インクジェットヘッドのヒーターを５０℃に設定し、ピエゾ電圧は２０Ｖ、駆動周波数は５ｋＨｚとした。次に、基板を１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱し、ライン状に形成された絶縁性のイミド化合物の膜を得た。
【０１４８】
得られたイミド化合物の膜のライン幅、エッジの直線性を光学顕微鏡で観察し、さらに膜厚を測定した。得られたイミド化合物の膜のライン幅は１６０μｍであり、エッジの直線性はギザギザしておらず良好であった。また、得られたイミド化合物の膜のラインの膜厚は９．１μｍであった。
【０１４９】
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５０】
【表１】
【０１５１】
［実施例２］ インクジェット用インク（２）
反応容器に、無水こはく酸(3.2718ｇ)、ＡＰＳＥ(7.2324ｇ)およびテトラエトキシシラン(4.5024ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（２）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は２４．９ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法で、ライン塗布及びイミド化合物を膜製した後、得られたイミド化合物の膜のライン幅、エッジの直線性及びラインの膜厚の評価を行った。得られたイミド化合物の膜のライン幅は１１０μｍであり、エッジの直線性はギザギザしておらず良好であった。また、得られたイミド化合物の膜のラインの膜厚は１０．２μｍであった。
【０１５２】
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５３】
【表２】
【０１５４】
［実施例３］ インクジェット用インク（３）
反応容器に、無水シトラコン酸(2.3652ｇ)、ＡＰＳＥ(4.6484ｇ)およびテトラエトキシシラン(3.0050ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（３）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は９．９ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１５５】
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５６】
【表３】
【０１５７】
［実施例４］ インクジェット用インク（４）
反応容器に、無水シトラコン酸(2.7098ｇ)、ＡＰＳＥ(5.3224ｇ)およびテトラエトキシシラン(2.0035ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（４）とした。インク中の固形分濃度は８０重量％であり、インクの粘度は１７．４ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１５８】
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５９】
【表４】
【０１６０】
［実施例５］ インクジェット用インク（５）
実施例４で得られたインクジェット用インク（４）（5.0ｇ）にエポキシ化合物としてＥＰ１（0.8ｇ）、ＥＤＭ（1.055ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（５）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は１０．２ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１２０℃のホットプレートで２０分間乾燥した後、１６０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１６１】
【表５】
【０１６２】
［実施例６］ インクジェット用インク（６）
反応容器に、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン(15.49ｇ)、ＯＤＰＡ（20.68ｇ）およびＥＤＭ（36.17ｇ）を仕込み、１１５℃で４．５時間加熱攪拌した。反応後の反応溶液をＥＰ２のＥＤＭ５０重量％溶液とした。
実施例４で得られたインクジェット用インク（４）（5.0ｇ）にエポキシ化合物としてＥＰ２のＥＤＭ５０重量％溶液（1.6ｇ）およびＥＤＭ（3.0ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（６）とした。インク中の固形分濃度は５０重量％であり、インクの粘度は７．８ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１２０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、１６０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１６３】
【表６】
【０１６４】
［実施例７］ インクジェット用インク（７）
反応容器に、無水こはく酸(8.764ｇ)、ＡＰＳＥ(19.300ｇ)およびＥＤＭ(12.027ｇ)を仕込み、１６５℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をイミド化合物溶液（１）とした。溶液中の固形分濃度は７０重量％であり、溶液の粘度は２３．１ｍＰａ・ｓであった。
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた３００ｍｌの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下室温で２２時間攪拌したところ、淡黄色透明なポリアミド酸の１２重量％溶液を得た。この溶液の粘度は１１９８ｍＰａ・ｓであり、ＧＰＣで測定した重量平均分子量は１２４，６００であった
ＯＤＰＡ １０．３４ｇ
ＢＡＰＰ １３．６７ｇ
ＧＢＬ ８８．０１ｇ
ＥＤＭ ８７．９９ｇ
この溶液の内、１０．０１ｇを反応容器にとりわけ、これにＧＢＬ ５．００２ｇおよびＥＤＭ ５．００１ｇを加えて攪拌したポリアミド酸溶液を高分子化合物溶液（１）とした。溶液中の固形分濃度は６重量％であり、溶液の粘度は３４．２ｍＰａ・ｓであった。
イミド化合物溶液（１）（3.504ｇ）に高分子化合物溶液（１）（1.505ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（７）とした。インク中の固形分濃度は５０．８重量％であり、インクの粘度は１３．５ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１６５】
【表７】
【０１６６】
［実施例８］ インクジェット用インク（８）
反応容器に、無水シトラコン酸(2.3652ｇ)、ＡＰＳＥ(4.6484ｇ)およびＥＤＭ(3.0050ｇ)を仕込み、１５０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をイミド化合物溶液（２）とした。溶液中の固形分濃度は７０重量％であり、溶液の粘度は１３．１ｍＰａ・ｓであった。
イミド化合物溶液（２）（2.510ｇ）に実施例７で得られた高分子化合物溶液（１）（2.200ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（８）とした。インク中の固形分濃度は４０重量％であり、インクの粘度は９．９ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１６７】
【表８】
【０１６８】
［実施例９］ インクジェット用インク（９）
反応容器に、無水こはく酸(31.34ｇ)、ＡＰＳＥ(34.68ｇ)、ＡＰＭＥＳ(29.97ｇ)およびＥＤＭ(24.02ｇ)を仕込み、１７５℃で３時間還流して黄色透明溶液を得た。この溶液(27.61ｇ)にエポキシ化合物としてＥＰ２(5.52ｇ)、ＥＤＭ(3.31ｇ)およびＧＢＬ(4.05ｇ)を加えた溶液をインクジェット用インク（９）とした。インク中の固形分濃度は６０重量％であり、インクの粘度は２０．１７ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１６９】
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１７０】
【表９】
【０１７１】
［実施例１０］ インクジェット用インク（１０）
反応容器に、無水トリメリット酸(11.359ｇ)、ＡＰＳＥ(9.814ｇ)およびＡＰＭＥＳ(2.827ｇ)を仕込み、１３５℃で３時間還流して黄色透明溶液を得た。この溶液(9.10326ｇ)にエポキシ化合物としてＥＰ１(1.551ｇ)およびＥＤＭ(7.010ｇ)を加えた溶液をインクジェット用インク（１０）とした。インク中の固形分濃度は５０重量％であり、インクの粘度は４１．０ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１７２】
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、折り曲げ試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１７３】
【表１０】
【０１７４】
［比較例１］インクジェット用インク（Ｃ１）
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下４０℃で１０時間攪拌した後、７０℃に昇温して８時間攪拌し、黄色透明なポリアミド酸の８重量％溶液を得た。この溶液をそのままインクジェット用インク（Ｃ１）とした。
ＯＤＰＡ ２０．０ｇ
ＤＤＳ １６．０ｇ
ＮＭＰ ４１４．０ｇ
【０１７５】
このインクジェット用インク（Ｃ１）の粘度を実施例１と同じ条件で測定した。その結果、粘度は９．１ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。また、インクジェット用インク（Ｃ１）では、溶媒としてＥＤＭを使用すると反応生成物が析出するため、ＮＭＰを使用した。ＧＰＣで測定した重量平均分子量は２５，０００であった。
【０１７６】
次に、このインク（Ｃ１）を用いて、実施例１と同様の方法で、ライン塗布及びイミド化合物の膜を作製した後、得られたイミド化合物の膜のライン幅、エッジの直線性及びラインの膜厚の評価を行った。
その結果、イミド化合物の膜のライン幅は６１０〜６８０μｍとなり、塗布したときの幅より大幅に広がってしまった。また、エッジの直線性も不十分でギザギザがあった。さらに、ラインの膜厚は０．４μｍであり、十分な厚さが得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１７７】
本発明の活用法として、例えば、フレキシブル配線基板用絶縁膜、半導体素子用絶縁膜、およびそれらを用いた電子部品等が挙げられる。
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット用インクに関し、例えば電子部品製作において絶縁膜層を形成するためのイミド化合物、該化合物を用いて形成されるイミド化合物の膜、および該イミド化合物の膜を形成したフィルム基板、該フィルム基板を有する電子部品、および該イミド化合物の膜を形成したシリコンウエハー基板、該シリコンウエハー基板を有する電子部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
イミド結合を有する化合物（イミド系化合物）の１種であるポリイミドは耐熱性、電気絶縁性に優れるため電子通信分野で広く用いられている材料である（例えば、特許文献１〜３参照。）。
ポリイミドを所望のパターン膜として使用する場合、従来はエッチングや感光性ポリイミドを用いてパターンを形成することが一般的であったが、フォトレジスト、現像液、エッチング液、剥離液などの多種大量の薬液が必要であり、さらに煩雑な工程を要するものであった。そこで、近年、インクジェットにより所望のパターン膜を形成する方法が検討されている。
インクジェット用インクは各種提案されているが（例えば、特許文献４〜５参照。）、インクジェット用インクとして吐出・印刷するためには、粘度、表面張力、溶剤の沸点等の様々なパラメータを最適化して行かなくてはならない。例えば、粘度に関しては、一般的には１〜５０ｍＰａ・ｓ程度、好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ程度の低粘度であることが求められ、特にピエゾ方式のインクジェット印刷の場合は圧電素子の吐出圧力が小さいため、粘度が大きくなると場合によっては吐出不能となったりする。表面張力については、２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲、好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍの範囲に調整しなければならない。表面張力が小さいと、インクはプリンターヘッドのノズルから出た直後に広がってしまい良好な液滴が形成できなくなる。反対に大きすぎるとメニスカスを形成できなくなるため吐出不能になったりする。さらに、溶剤の沸点は１００〜３００℃、好ましくは１５０〜２５０℃の範囲に入る必要がある。沸点が低すぎると、プリンターヘッドのノズル部のインク中の溶剤が蒸発してしまう。そのためインクの粘度が変わり吐出できなくなったり、あるいはインクの成分が固化してしまうことがある。逆に沸点が高すぎると、印刷後の乾燥が遅すぎて印刷パターンが悪化することがある。
【０００３】
ポリイミド系のインクジェット用インクは、ポリアミド酸が比較的高分子量であるため、インクジェット用インクとして最適な粘度のインクを調製するためには、溶媒の割合を増やしてインク中のポリアミド酸含有量を少なくする必要がある。しかし、これによって、１回のインクジェッティングで得られる膜の厚さが薄くなってしまうという問題がある。
例えば、ポリアミド酸の重量平均分子量を１０，０００〜５０，０００に制御することによりインクの低粘度化を図り、ポリアミド酸の含有量を大きくすることが提案されている（例えば、特許文献６参照）。しかしながら、ポリマー濃度が１５〜２０重量％程度と小さいものであった。また、粘度も１５〜２５ｍＰａ・ｓと比較的高いためインクジェット吐出不良が生じ易いという問題がある。
【０００４】
また、熱架橋剤と、該熱架橋剤と反応可能な基を有する平均分子量３００〜９，０００のポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールを含有するインクジェット用熱硬化性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献７参照）。熱架橋剤と反応可能なフェノール性水酸基、カルボキシル、スルホンアミドなどの基を有するポリイミドまたはポリベンゾオキサゾールを含有する組成物に関するものであり、該組成物はエポキシ化合物、メチロール化合物、アルコキシメチロール化合物、ビスマレイミド、不飽和結合を有するビスイミド化合物、アセチレン化合物などの熱架橋剤を必須とするため、保存安定性や熱硬化時の残存未反応物等が問題である。
【０００５】
一方、モノアミンと酸無水物基を１つ有する化合物とを用いて得られるイミド化合物は、各種提案されている。
例えば、（Ａ）ポリフェニレンエーテル２０〜８０重量部、（Ｂ）スチレン系重合体、ポリアミドまたはスチレン系重合体とポリアミドの組合せ８０〜２０重量部、（Ｃ）下記に示されるハロゲン置換フタリミドシラン系化合物（イミド化合物）０．１〜７重量部からなる難燃性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献８参照）。しかしながら、該技術はポリフェニレンエーテル、スチレン系重合体、ポリアミド等の樹脂組成物に少量（０．１〜７重量部）のハロゲン置換フタリミドシラン系化合物（イミド化合物）を添加して難燃性を付与するものである。溶融混錬後、ペレット化して成形するものであり、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【０００６】
ポリシロキサンを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物において、活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、下記に示されるイミノスルホネート誘導体（ＰＡＧ６：イミド化合物）が提案されている（例えば、特許文献９参照）。しかしながら、該技術のポジ型フォトレジスト組成物は、基板上にスピナー、コーター等で塗布後、所定のマスクを通して露光し、ベークを行い現像することによりレジストパターンを得るものであり、インクジェット印刷により直接パターンを得る、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【０００７】
下記に示される新規エポキシ化合物（イミド化合物）とその製造方法が提案されている（例えば、特許文献１０参照）。しかしながら、該技術は電気・電子・光学部品の封止材料、成形材料、注型材料、積層材料、接着剤及び粉体塗料等の原料用途に有用である新規エポキシ化合物を提供するものであり、インクジェット用インクの成分としての使用は何ら想定されていない。
【０００８】
（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）下記に示されるイミドシラン化合物（イミド化合物）を含有する感光性シロキサン組成物が提案されている（例えば、特許文献１１参照）。
【０００９】
また、（ａ）下記に示されるイミド基含有シラン化合物（イミド化合物）とオルガノシラン化合物の１種以上を反応させて得られるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、を含有する感光性シロキサン組成物において、イミド基含有シラン化合物の含有量がポリシロキサンに対して３０モル％以上である感光性シロキサン組成物が提案されている（例えば、特許文献１２参照）。
しかしながら、該技術の感光性シロキサン組成物は、スピンナー、ディッピング、スリットなどの方法により基板上に塗布し、プリベークの後、紫外線可視露光機を用い所望のマスクを介してパターニング露光後、現像によりポジ型のパターンを得るものであり、インクジェット印刷により直接パターンを得る、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【００１０】
さらに、モノアミンと酸無水物基を２つ有する化合物（テトラカルボン酸二無水物とを用いて得られるイミド化合物についても、各種提案されている。
例えば、（Ａ）特定構造のポリアミド酸および特定構造の可溶性ポリイミドからなるマトリックス樹脂の群の少なくとも一種と、（Ｂ）Ｍ（ＯＲ６）ｎＲ７ｍで表される化合物、特定構造の硝酸化合物および特定構造のジピバロイルメタン化合物からなる金属化合物の群の少なくとも一種と、（Ｃ）特定構造のアミン化合物、特定構造の酢酸化合物、特定構造のアセトン化合物、特定構造のアミド酸および下記に示される分子鎖末端にアルコキシル基を有するイミド（イミド化合物）からなる安定剤の群の少なくとも一種とからなる高誘電性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献１３参照）。
（ｍは０、１の整数）
該技術は、耐熱性の高いポリアミド酸化合物および可溶性ポリイミド化合物の少なくとも一種からなるマトリックス樹脂、高誘電性の金属化合物および安定剤としてのイミド化合物を、水とともに混合して得られる、特殊な高誘電性樹脂組成物である。
【００１１】
また、前記の特許文献１１においても、（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤、（ｄ）下記に示されるイミドシラン化合物（イミド化合物）を含有する感光性シロキサン組成物が提案されているが、前述したとおり、インクジェット印刷により直接パターンを得る、インクジェット用インクとはその設計思想、使用法が全く異なるものである。
【００１２】
以上のように、モノアミンと酸無水物基を１つ有する化合物とを用いて得られるイミド化合物は、各種提案されているが、すべてインクジェット用インクとしての使用を想定されているものでなく、インクジェット用インクとして必要な粘度や表面張力の最適化については何ら考慮されたものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２０００−０３９７１４号公報
【特許文献２】特開２００３−２３８６８３号公報
【特許文献３】特開２００４−０９４１１８号公報
【特許文献４】特開２００３−２１３１６５号公報
【特許文献５】特開２００６−１３１７３０号公報
【特許文献６】特開２００５−１８７５９６号公報
【特許文献７】特開２００７−３１４６４７号公報
【特許文献８】特開平７−１７９７４５号公報
【特許文献９】特開２００１−１００４１８号公報
【特許文献１０】国際公開ＷＯ２００８／０２０６３７号パンフレット
【特許文献１１】国際公開ＷＯ２００８／０６５９４４号パンフレット
【特許文献１２】特開２００８−１８５６７２号公報
【特許文献１３】特開平６−２３４９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
上述する状況の下、粘度、表面張力、溶剤の沸点等の様々なパラメータをインクジェット印刷用に最適化したインクジェット用インクにおいて、インクジェットヘッドの耐久性を低下させない溶媒を使用できるイミド系の化合物を含むインクジェット用インクが求められている。また、インク中にイミド系の化合物を高濃度で含有し、常温保存における保存安定性が良好で、１回のジェッティングで比較的厚い（１μｍ以上の）膜を形成できる、インクジェット用インクが求められている。
さらに、製膜時に耐熱性、電気絶縁性が高く、十分な機械的強度を有する、反り量の少ない絶縁膜を得ることができるインクジェット用インクが求められている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者等は、前記課題を解決するため鋭意検討した。その結果、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インクとすることにより、ヘッドへのダメージを低減でき、さらにインク中の含有濃度を向上させたインクジェット用インクが得られることを見出し、本発明を完成させた。
本発明は以下のようなインクジェット用インク等を提供する。
【００１６】
［１］ モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インク。
［２］ イミド化合物（Ａ）が、式（１）で表される化合物である、前記［１］項に記載のインクジェット用インク。
式（１）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基であり、Ｒｂは炭素数１〜１００の一価の有機基である。
［３］ モノアミン（ａ１）が、式（２）で表され、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、式（３）で表される、前記［１］項又は前記［２］項に記載のインクジェット用インク。
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｙは炭素数１〜２０の二価の有機基であり、式（３）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基である。
［４］ イミド化合物（Ａ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して５〜９５重量％である前記［１］〜［３］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［５］ モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシランおよびｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上であり、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、無水トリメリット酸、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、３−フルオロフタル酸無水物、４−フルオロフタル酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン１，２−ジカルボン酸無水物、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、ブチルこはく酸無水物、ｎ−オクチルこはく酸無水物、デシルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、テトラデシルこはく酸無水物、ヘキサデシルこはく酸無水物、オクタデシルこはく酸無水物、２−ブテン−１−イルこはく酸無水物、２−ヘキセン−１−イルこはく酸無水物、ｎ−オクテニルこはく酸無水物、ｎ−デセニルこはく酸無水物、２−ドデセン−１−イルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ヘキサデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドおよびトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドからなる群から選ばれる１以上である、前記［１］項又は前記［２］項に記載のインクジェット用インク。
［６］ モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを反応溶媒中で反応させた後、１４０〜２３０℃で１．５〜１０時間還流して得られるイミド化合物（Ａ）を含む、前記［１］〜［５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［７］ インクジェット吐出温度時のインクの粘度が５〜３０ｍＰａ・ｓである前記［１］〜［６］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［８］ インクジェット用インクの表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍである前記［１］〜［７］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［９］ 溶媒（Ｂ）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランおよびジフェニルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上である、前記［１］〜［８］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１０］ 溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％である前記［９］項に記載のインクジェット用インク。
［１１］ 溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、１５〜７０重量％である前記［９］項に記載のインクジェット用インク。
［１２］ 溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒が０〜２０重量％である、前記［１］〜［１１］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１３］ 溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒の含有量が０重量％である、前記［１］〜［１１］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１４］ モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、溶媒（Ｂ）が、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルである、前記［１］項に記載のインクジェット用インク。
［１５］ モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、溶媒（Ｂ）が、テトラエトキシシランである、前記［１］項に記載のインクジェット用インク。
［１６］ さらに、高分子化合物、アルケニル置換ナジイミド化合物、シリコン化合物、エポキシ化合物、アクリル化合物、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、及びエポキシ硬化剤からなる群から選ばれる１以上を含む、前記［１］〜［１５］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［１７］ 高分子化合物が、少なくとも、ジアミン（ａ３）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）とを用いて得られ、式（４）で表される構成単位を有する、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、前記［１６］項に記載のインクジェット用インク。
式（４）中、Ｒ４は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒ５は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
［１８］ ジアミン（ａ３）が、式（５）で表されるジアミンであり、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物、及び、酸無水物基を有するモノマーと他の重合性モノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１以上である、前記［１７］項に記載のインクジェット用インク。
式（５）中、Ｒ６は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
［１９］ 式（５）で表されるジアミン（ａ３）が、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン及び式（７）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１８］項に記載のインクジェット用インク。
式（７）中、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル又はフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してメチレン、フェニレン又はアルキルで置き換えられたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
［２０］ 式（６）で表される酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、ピロメリット酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物及びブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１８］に記載のインクジェット用インク。
［２１］ 高分子化合物が、重量平均分子量３０，０００〜５００，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、前記［１７］〜［２０］のいずれかに記載のインクジェット用インク。
［２２］ エポキシ化合物が、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、オキシランを有するモノマーの重合体、及び、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１６］項に記載のインクジェット用インク。
［２３］ エポキシ化合物が、式（Ｉ）〜（Ｖ）からなる群から選ばれる１つ以上である、前記［１６］項に記載のインクジェット用インク。
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（VI）中、Ｒfは水素又は炭素数１〜３のアルキルである。
［２４］ 前記［１］〜[２３］のいずれかに記載のインクジェット用インクから得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
［２５］ 前記［１］〜［２３］のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成した後、膜を硬化処理して得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
［２６］ 前記［１］〜［２３］のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成する工程、及び、膜を硬化処理する工程を含む、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜の形成方法。
［２７］ 前記［２４］項又は前記［２５］項に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたフィルム基板。
［２８］ 前記［２７］項に記載のフィルム基板を有する電子部品。
［２９］ 前記［２４］項又は前記［２５］項に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたシリコンウエハー基板。
［３０］ 前記［２９］項に記載のシリコンウエハー基板を有する電子部品。
【００１７】
本明細書中、「有機基」とは特に限定されるものではないが、例えば、炭素数１〜１００の炭化水素基が挙げられる。
【００１８】
また、一価の有機基としては、具体的には、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルコキシ、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリールオキシ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいシリル、置換基を有していてもよいアルキルチオ（−ＳＹ１、式中、Ｙ１は置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）、置換基を有していてもよいアリールチオ（−ＳＹ２、式中、Ｙ２は置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル（−ＳＯ２Ｙ３、式中、Ｙ３は置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）、置換基を有していてもよいアリールスルホニル（−ＳＯ２Ｙ４、式中、Ｙ４は置換基を有していてもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）が挙げられる。
【００１９】
本明細書において、「炭素数１〜２０の炭化水素基」の炭化水素は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい。炭素数１〜２０の炭化水素が非環式の場合には、直鎖状でもよいし、枝分かれでもよい。「炭素数１〜２０の炭化水素基」には、炭素数１〜２０のアルキル、炭素数２〜２０のアルケニル、炭素数２〜２０のアルキニル、炭素数４〜２０のアルキルジエニル、炭素数６〜１８のアリール、炭素数７〜２０のアルキルアリール、炭素数７〜２０のアリールアルキル、炭素数４〜２０のシクロアルキル、炭素数４〜２０のシクロアルケニルなどが含まれる。
【００２０】
本明細書において、「炭素数１〜２０のアルキル」は、炭素数１〜１０のアルキルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキルであることが更に好ましい。アルキルの例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。
【００２１】
本明細書において、「炭素数２〜２０のアルケニル」は、炭素数２〜１０のアルケニルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルケニルであることが更に好ましい。アルケニルの例としては、制限するわけではないが、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチルアリル、２−ブテニル等を挙げることができる。
【００２２】
本明細書において、「炭素数２〜２０のアルキニル」は、炭素数２〜１０のアルキニルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキニルであることが更に好ましい。アルキニルの例としては、制限するわけではないが、エチニル、プロピニル、ブチニル等を挙げることができる。
【００２３】
本明細書において、「炭素数４〜２０のアルキルジエニル」は、炭素数４〜１０のアルキルジエニルであることが好ましく、炭素数４〜６のアルキルジエニルであることが更に好ましい。アルキルジエニルの例としては、制限するわけではないが、１，３−ブタジエニル等を挙げることができる。
【００２４】
本明細書において、「炭素数６〜１８のアリール」は、炭素数６〜１０のアリールであることが好ましい。アリールの例としては、制限するわけではないが、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることができる。
【００２５】
本明細書において、「炭素数７〜２０のアルキルアリール」は、炭素数７〜１２のアルキルアリールであることが好ましい。アルキルアリールの例としては、制限するわけではないが、ｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、２，３−キシリル、２，４−キシリル、２，５−キシリル、ｏ−クメニル、ｍ−クメニル、ｐ−クメニル、メシチル等を挙げることができる。
【００２６】
本明細書において、「炭素数７〜２０のアリールアルキル」は、炭素数７〜１２のアリールアルキルであることが好ましい。アリールアルキルの例としては、制限するわけではないが、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、２，２−ジフェニルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェニルペンチル等を挙げることができる。
【００２７】
本明細書において、「炭素数４〜２０のシクロアルキル」は、炭素数４〜１０のシクロアルキルであることが好ましい。シクロアルキルの例としては、制限するわけではないが、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等を挙げることができる。
【００２８】
本明細書において、「炭素数４〜２０のシクロアルケニル」は、炭素数４〜１０のシクロアルケニルであることが好ましい。シクロアルケニルの例としては、制限するわけではないが、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等を挙げることができる。
【００２９】
本明細書において、「炭素数１〜２０のアルコキシ」は、炭素数１〜１０のアルコキシであることが好ましく、炭素数２〜６のアルコキシであることが更に好ましい。アルコキシの例としては、制限するわけではないが、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ等がある。
【００３０】
本明細書において、「炭素数６〜２０のアリールオキシ」は、炭素数６〜１０のアリールオキシであることが好ましい。アリールオキシの例としては、制限するわけではないが、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、ビフェニルオキシ等を挙げることができる。
【００３１】
本明細書において、「アルキルチオ（−ＳＹ１、式中、Ｙ１は置換を有してもよい炭素数２〜２０のアルキルを示す。）」および「アルキルスルホニル（−ＳＯ２Ｙ３、式中、Ｙ３は置換を有してもよい炭素数１〜２０のアルキルを示す。）」において、Ｙ１およびＹ３は、炭素数２〜１０のアルキルであることが好ましく、炭素数２〜６のアルキルであることが更に好ましい。アルキルの例としては、制限するわけではないが、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ドデカニル等を挙げることができる。
【００３２】
本明細書において、「アリールチオ（−ＳＹ２、式中、Ｙ２は置換を有してもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）」および「アリールスルホニル（−ＳＯ２Ｙ４、式中、Ｙ４は置換を有してもよい炭素数６〜１８のアリールを示す。）」において、Ｙ２およびＹ４は、炭素数６〜１０のアリールであることが好ましい。アリールの例としては、制限するわけではないが、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることができる。
【００３３】
「炭素数１〜２０の炭化水素基」、「炭素数１〜２０のアルコキシ」、「炭素数６〜２０のアリールオキシ」、「アミノ」、「シリル」、「アルキルチオ」、「アリールチオ」、「アルキルスルホニル」、「アリールスルホニル」には、置換基が導入されていてもよい。この置換基としては、例えば、エステル、カルボキシル、アミド、アルキン、トリメチルシリル、アミノ、ホスホニル、チオ、カルボニル、ニトロ、スルホ、イミノ、ハロゲノ、またはアルコキシなどを挙げることができる。この場合、置換基は、置換可能な位置に１個以上、置換可能な最大数まで導入されていてもよく、好ましくは１個〜４個導入されていてもよい。置換基数が２個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
【００３４】
本明細書において、「置換基を有してもよいアミノ」の例としては、制限するわけではないが、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、フェニルアミノ等がある。
【００３５】
本明細書において、「置換基を有していてもよいシリル」の例としては、制限するわけではないが、ジメチルシリル、ジエチルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メチルメトキシフェニル等がある。
【００３６】
以上、一価の有機基の具体例を挙げたが、本明細書中、二価の有機基の具体例としては、本明細書中に記載された一価の有機基においてさらに価数を１つ増やした基が挙げられる。同様に、本明細書中、三価の有機基の具体例としては、本明細書中に記載された一価の有機基においてさらに価数を２つ増やした基が挙げられる。さらに、本明細書中、四価の有機基の具体例としては、本明細書中に記載された一価の有機基においてさらに価数を３つ増やした基が挙げられる。
【発明の効果】
【００３７】
本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクは、例えば、インクジェットヘッドへのダメージを抑えることができる。また、インクの常温保存における保存安定性が良好である。本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクに用いられるイミド化合物を用いると、インク中に高濃度で含有させることができるため、１回のジェッティングで比較的厚い膜厚（１μｍ以上）を有するイミド化合物の膜を形成することができる。
さらに、本発明の高分子化合物（好ましくは本発明のポリアミド酸）、または／および本発明のエポキシ化合物を併用することにより、製膜時に十分な機械的強度を得ることができ、インクジェット印刷に適した低粘度化と２５重量％以上の高濃度化の両立が可能である。
【００３８】
また、パターン状のイミド化合物の膜の形成のために、本発明の好ましい態様に係るインクジェット用インクを用いる場合、インクジェット印刷により必要な部分のみに描画すればよいため、エッチング等の他の方法に比べて材料使用量は圧倒的に少なく、フォトマスクを使用する必要等がないので多品種大量生産が可能であり、また、製造に要する工程数が少ないものとすることができる。また、本発明のイミド化合物の膜又はパターン状のイミド化合物の膜から形成された絶縁膜は、例えば、耐熱性、電気絶縁性が高く、十分な機械的強度を有し、反り量が少なく、電子部品の信頼性、歩留まりを向上させることができる。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
本発明は、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含むインクジェット用インク、当該インクを用いたイミド化合物の膜の形成方法等を提供する。なお、本発明のインクジェット用インクは、無色であっても有色であってもよい。
【００４０】
１ イミド化合物（Ａ）
イミド化合物（Ａ）は、少なくとも、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得ることができる。
【００４１】
本発明のインクジェット用インクに含まれるイミド化合物（Ａ）は、少なくとも、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とからなる群から選ばれる１以上を反応させる工程を用いて得ることができるが、当該製法で得られたイミド化合物に限定されるものではない。
【００４２】
イミド化合物（Ａ）としては、式（１）で表される化合物が挙げられる。式（１）におけるＲａは酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）の反応残基であり、Ｒｂはモノアミン（ａ１）の反応残基である。反応残基とは、モノアミン（ａ１）又は酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）において、式（１）に含まれるイミド結合を構成する部位以外の基を意味する。
式（１）におけるＲａとＲｂはそれぞれ独立して炭素数１〜１００の有機基であれば特に限定されるものではない。「炭素数１〜１００の有機基」は、好ましくは炭素数２〜７０の有機基であり、より好ましくは炭素数４〜５０の有機基である。
【００４３】
以下に、イミド化合物（Ａ）を得るために用いることができる、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを説明する。
なお、Ｒａは、好ましくは以下に示す酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）の反応残基であり、Ｒｂは、好ましくは以下に示すモノアミン（ａ１）の反応残基である。
【００４４】
１．１ モノアミン（ａ１）
モノアミン（ａ１）としては、式（２）で表される化合物が挙げられる。式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の有機基であり、Ｙは炭素数１〜２０の有機基である。有機基の説明は、前述した説明を援用することができる。
【００４５】
モノアミン（ａ１）としては、アミノ基を１つ有していれば特に限定されないが、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン又はｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシランが挙げられる。
【００４６】
これらの中でも、例えば得られる膜の耐久性が優れるという点から、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシランが好ましく、３−アミノプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。
【００４７】
これらのモノアミンは単独でも、２種以上を組み合わせても使用できる。
【００４８】
１．２ 酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）としては、式（３）で表される化合物が挙げられる。式（３）中、Ｒａは炭素数１〜１００の有機基である。有機基の説明は、前述した説明を援用することができる。
【００４９】
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）としては、酸無水物基を１つ有していれば特に限定されないが、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、３−フルオロフタル酸無水物、４−フルオロフタル酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン１，２−ジカルボン酸無水物、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、２−ブテン−１−イルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、ブチルこはく酸無水物、ｎ−オクチルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリド又はトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドが挙げられる。
【００５０】
これらの中でも、無水フタル酸、無水トリメリット酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物が好ましい。これらの酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）は１種単独でまたは２種以上を組み合わせてもよい。
【００５１】
１．３ イミド化合物（Ａ）を合成するための反応条件
イミド化合物（Ａ）は、少なくとも、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを反応させる工程を用いて得ることができる。
【００５２】
１．３．１ 反応原料の仕込量
モノアミン（ａ１）及び酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）の仕込量は、１モルのモノアミン（ａ１）に対して、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）を０．５〜２．０モル用いることが好ましく、０．７〜１．５モル用いることがより好ましく、１．０〜１．２モル用いることがさらに好ましい。
【００５３】
１．３．２ 反応溶媒
イミド化合物（Ａ）を合成するために用いられる反応溶媒は、当該イミド化合物（Ａ）が合成できれば特に限定されるものではないが、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン又はジフェニルジエトキシシランが挙げられる。
【００５４】
これらの反応溶媒の中でも、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシプロピオン酸メチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランを用いると、反応後に当該溶媒をそのままインクジェット用溶媒として用いても、インクジェットヘッドへのダメージが少ないインクとすることができるので好ましい。
【００５５】
これらの反応溶媒は単独でも、２種以上の混合溶媒としても使用できる。また、上記反応溶媒以外に他の溶媒を混合して用いることもできる。
【００５６】
反応溶媒は、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）との合計１００重量部に対し１００重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は０℃〜２００℃で、０．２〜２０時間反応させるのが好ましい。
【００５７】
１．３．３ 反応系への添加順序
反応原料の反応系への添加順序は特に限定されない。すなわち、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを同時に反応溶媒に加える、モノアミン（ａ１）を反応溶媒中に溶解させた後に酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）を添加する、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）を反応溶媒中に溶解させた後にモノアミン（ａ１）を添加する等、いずれの方法も用いることができる。
【００５８】
１．３．４ イミド化
本発明のイミド化合物（Ａ）は、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）と反応溶媒中で反応させて得られるアミド酸化合物をイミド化することにより得ることができる。
本発明のアミド酸化合物は、脱水触媒および脱水剤を用いた化学的方法、あるいは熱的方法によりイミド化することにより得ることができるが、好ましくは、精製処理を行なわないでインクの成分として使用できる熱的方法でイミド化することである。さらに好ましくは、モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）と反応溶媒中で反応させた後、還流してイミド化することである。還流の条件は、使用する反応溶媒により異なるが、好ましくは１４０〜２３０℃で１．５〜１０時間還流する。還流温度が１４０℃以上であるとイミド化が十分に進み強固な膜を得ることができる。還流温度が２３０℃以下であると比較的沸点の高い溶媒を用いても還流可能である。
特に、モノアミン（ａ１）として、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン又はｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン等のアミノ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物を用いる場合、還流の過程でイミド化で生成する水がアルコキシシランの一部の加水分解に消費され、イミド化と加水分解が同時に進行するため好ましい。理由は定かでないが、アミド酸化合物のイミド化、及び部分的な加水分解により発生するシラノール基（およびアルコール）がインクジェットインクの特性に好ましい影響を与えて、２００℃以下の比較的低温焼成においても、電気的、機械的、熱的特性の良好なイミド化合物の強固な膜が形成できると推定している。
【００５９】
１．４ イミド化合物（Ａ）の含有量
イミド化合物（Ａ）の含有量は、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％とすることが好ましく、２５〜７０重量％とすることがより好ましく、３０〜５０重量％とすることがさらに好ましい。５重量％以上では、１回のジェッティングで形成できるイミド化合物の膜が薄くなり過ぎることがなく、９５重量％以下では、インクジェット用インクの粘度が大きくなり過ぎず、ジェッティング特性がよい。
【００６０】
２ 溶媒（Ｂ）
本発明のインクジェット用インクは、例えば、イミド化合物（Ａ）を溶媒（Ｂ）に溶解して得ることができる。したがって、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒は、イミド化合物（Ａ）を溶解することができる溶媒であれば特に制限されない。また、単独ではイミド化合物（Ａ）を溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合して溶解可能にすることによって、インクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｂ）として用いることが可能である。なお、インクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｂ）としては、上述するように、イミド化合物（Ａ）の合成で用いた反応溶媒をそのまま用いてもよい。
【００６１】
２．１ 溶媒の具体例
溶媒（Ｂ）としては、例えば、乳酸エチル、３−メチル−３−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、マロン酸ジエチル、エタノール、２−プロパノール、ジオキサン、エチレングリコール、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、カルバミド酸エステル、ジメチルイミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド又はγ−ブチロラクトンが挙げられる。
【００６２】
これらの溶媒の中でも、例えば、インクジェットヘッドへのダメージを抑える観点から、乳酸エチル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランを含むことが好ましい。
【００６３】
これらの溶媒は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【００６４】
２．２ 溶媒の含有量
また、溶媒（Ｂ）の含有量は、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％（溶媒以外の成分の固形分濃度が５〜９５重量％）とすることが好ましく、１０〜８０重量％（固形分濃度が２０〜９０重量％）とすることがより好ましく、１５〜７５重量％（固形分濃度が２５〜８５重量％）とすることがさらに好ましい。５重量％以上では、インクジェット用インクの粘度が大きくなり過ぎず、ジェッティング特性は良好であり、９５重量％以下では、１回のジェッティングで形成できるイミド化合物の膜が薄くなり過ぎることがない。
【００６５】
２．３ インクの表面張力と溶媒との関係
インクの表面張力は、インクジェット用インクの塗布性に大きく影響するため、インクの表面張力を２０〜７０ｍＮ／ｍ、好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍに調整する。
【００６６】
表面張力を２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲に調整するには、溶媒選定が重要である。表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲にある１種の溶媒を用いてもよいが、例えば表面張力の大きな溶媒（例えば、γ−ブチロラクトン：４３ｍＮ／ｍ）および表面張力の小さな溶媒（例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル：２４ｍＮ／ｍ、あるいはエチレングリコールモノブチルエーテル：３２ｍＮ／ｍ）を混合して用いると溶媒組成で表面張力を微調整できるので好ましい。
【００６７】
２．４ 含有しないことが好ましい溶媒
また、本発明のインクジェット用インクに含まれる溶媒（Ｂ）には、インクジェットヘッドを溶解または腐食する溶媒を含有しないことが好ましい。
【００６８】
インクジェットヘッドを溶解または腐食する溶媒としては、例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、又はカルバミド酸エステル等が挙げられる。
【００６９】
インクジェットヘッドを溶解または腐食する溶媒の含有量は、インク中に含まれる溶媒（Ｂ）の全重量に対して、０〜２０重量％に抑えることが好ましく、０〜１０重量％に抑えることがより好ましく、０重量％に抑えることがさらに好ましい。
【００７０】
３ 本発明のインクジェット用インクに添加してもよい添加剤
本発明のインクジェット用インクは、例えば、イミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを混合して得られるが、必要により、さらに各種添加剤を含んでもよい。各種添加剤としては、高分子化合物、アルケニル置換ナジイミド化合物、又はシリコン化合物等が挙げられる。
さらに、目的とする特性によっては、エポキシ化合物、アクリル化合物、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、無水トリメリット酸等のエポキシ硬化剤、ｐＨ調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマー、顔料、染料等の添加剤を必要により選択して添加してもよい。
【００７１】
３．１ 高分子化合物
本発明のインクジェット用インクは、さらに各種高分子化合物を含むことができる。高分子化合物の具体例としては、ポリアミド酸、可溶性ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアミド酸エステル、ポリエステル、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー、ポリビニルアルコール、又はポリオキシエチレン等が挙げられるが、これに限定されるものではない。好ましくはポリアミド酸または可溶性ポリイミド等のポリイミド系高分子化合物である。
【００７２】
本発明の高分子化合物は、例えば、少なくとも、ジアミン（ａ３）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）とを用いて得られ、式（４）で表される構成単位を有する、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体である。
上記式（４）中、Ｒ４は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒ５は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
【００７３】
本発明において、ジアミン（ａ３）としては、式（５）で表されるジアミンを用いることができる。
【００７４】
式（５）中、Ｒ６は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
【００７５】
本発明でポリアミド酸またはそのイミド化重合体の合成に用いられるジアミン（ａ３）の具体例としては、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン及び下記式（７）で表される化合物が挙げられる。
【００７６】
上記式（７）中、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル又はフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してメチレン、フェニレン又はアルキルで置き換えられたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
【００７７】
本発明に用いる高分子化合物としてのポリアミド酸またはそのイミド化重合体を合成するために用いることができるジアミン（ａ３）は、本明細書のジアミンに限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のジアミン、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されているジアミンを用いることができる。
また、ジアミン（ａ３）は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。すなわち、２種以上の組み合わせとしては、上記ジアミン同士、上記ジアミンとそれ以外のジアミン、または、上記ジアミン以外のジアミン同士を用いることができる。
【００７８】
本発明に用いる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）としては、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物、及び、酸無水物基を有するモノマーと他の重合性モノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１以上を用いることができる。
【００７９】
式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
【００８０】
本発明でポリアミド酸またはそのイミド化重合体の合成に用いられる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４ージカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物及びブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００８１】
本発明において、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体を合成するために用いることができる酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）は、本明細書の化合物に限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のテトラカルボン酸二無水物、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されているテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
また、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【００８２】
本発明において、重量平均分子量３０，０００〜５００，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体が、高分子化合物として利用できる。重量平均分子量が３０，０００以上の高分子化合物を併用することにより、製膜時に十分な機械的強度が得ることができ、重量平均分子量が５００，０００以下の高分子化合物を併用することにより、溶媒に対する溶解性を向上させ、２５重量％以上の高濃度化と低粘度化を両立することができるので、得られる塗膜の膜厚を大きくすることが可能である。また、本発明において、高分子化合物の重量平均分子量は３５，０００〜２００，０００であることが好ましく、４０，０００〜１５０，０００であることがさらに好ましい。
【００８３】
ポリアミド酸またはそのイミド化重合体等の高分子化合物の重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定することができる。例えば、具体的には得られたポリアミド酸をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）でポリアミド酸の濃度が約１重量％になるように希釈し、カラムとして、Ｓｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−５１０ ＨＱおよびＳｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−３１０ ＨＱを用いて、ＤＭＦを展開剤としてゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。
【００８４】
さらに、本発明の高分子化合物は、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されている式(I-1)で表される構成単位を有し、式(I-2)及び式(I-3)で表される分子末端基の群から選ばれる１以上の分子末端基を有する重量平均分子量１，０００〜２０，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体を好ましく挙げることができる。
【００８５】
式(I-1)中、Ｒ１０は炭素数１〜１００の四価の有機基であり、Ｒ１１は炭素数１〜１００の二価の有機基であり、Ｒ１２は炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｒ１３は炭素数１〜１００の二価の有機基である。
【００８６】
３．２ アルケニル置換ナジイミド化合物
本発明のインクジェット用インクは、さらに各種アルケニル置換ナジイミド化合物を含むことができる。アルケニル置換ナジイミド化合物は、分子内に少なくとも１つのアルケニル置換ナジイミド構造を有する化合物である。好ましくは、例えば、国際公開ＷＯ２００８／０５９９８６号パンフレットに記載されている、式(II-1)で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００８７】
式(II-1)中、Ｒ１４およびＲ１５はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかであり、ｎは１〜２の整数であり、
ｎ＝１のとき、Ｒ１６は水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数１〜１２のヒドロキシアルキル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリール、ベンジル、−｛（ＣｑＨ２ｑ）Ｏｔ（ＣｒＨ２ｒＯ）ｕＣｓＨ２ｓＸ｝（ここで、ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に選ばれた２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数、Ｘは水素または水酸基である）で表されるポリオキシアルキレンアルキル、−（Ｒ）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ１７（ここで、ａは０または１の整数、Ｒは炭素数１〜４のアルキレン、Ｒ１７は水素もしくは炭素数１〜４のアルキルを表す）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ５（ここで、Ｔは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｓ−もしくはＳＯ２−である）で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結した１〜３個の水素が水酸基で置換された基であり、
ｎ＝２のとき、Ｒ１６は−ＣｐＨ２ｐ−（ここで、ｐは２〜２０の整数）で表されるアルキレン、炭素数５〜８のシクロアルキレン、−｛（ＣｑＨ２ｑＯ）ｔ（ＣｒＨ２ｒＯ）ｕＣｓＨ２ｓ｝−（ここで、ｑ、ｒ、ｓはそれぞれ独立に２〜６の整数、ｔは０または１の整数及びｕは１〜３０の整数である）で表されるポリオキシアルキレン、炭素数６〜１２のアリーレン、−（Ｒ１７）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ１８−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ１７及びＲ１８は独立に選ばれた炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−（ここで、Ｔは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−）で表される基、またはこれらの基の芳香環に直結する１〜３個の水素が水酸基で置換された基である。
【００８８】
また、式(II-1)で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物の中でも、
Ｒ１４およびＲ１５はそれぞれ独立に、水素、炭素数１〜１２のアルキル、炭素数３〜６のアルケニル、炭素数５〜８のシクロアルキル、炭素数６〜１２のアリールまたはベンジルのいずれかであり、
ｎが２であり、
Ｒ１６が、−ＣｐＨ２ｐ−（ここで、ｐは２〜１０の整数）で表されるアルキレン、−（Ｒ１７）ａ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ１８−（ここで、ａは０または１の整数、Ｒ１７及びＲ１８は独立に選ばれた炭素数１〜４のアルキレンである）で表される基、または−Ｃ６Ｈ４−Ｔ−Ｃ６Ｈ４−（ここで、Ｔは−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＯＣ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−）で表される基である、アルケニル置換ナジイミド化合物が好ましい。
【００８９】
また、式(II-1)で表されるアルケニル置換ナジイミド化合物の中でも、
Ｒ１４およびＲ１５がそれぞれ独立に水素または炭素数１〜６のアルキルであり、
ｎが２であり、
Ｒ１６が−（ＣＨ２）６−、式(II-2)で表される基または式(II-3)で表される基である、アルケニル置換ナジイミド化合物が好ましい。
【００９０】
【００９１】
３．３ シリコン化合物
本発明のインクジェット用インクは、さらにシリコン化合物を含むことができる。シリコン化合物の具体例としては、分子内にアミド酸構造を有するシリコン化合物であるシリコンアミド酸等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００９２】
好ましくは、例えば、国際公開ＷＯ２００８／１２３１９０号パンフレットに記載されている、分子内に少なくとも２つのアミド酸構造を有する、式(III)で表されるシリコンアミド酸、又は式(IV)で表されるシリコンアミド酸が挙げられる。式(III)で表されるシリコンアミド酸の中でも、式(III-1)、(III-2)又は(III-3)で表されるシリコンアミド酸が好ましい。また、式(IV)で表されるシリコンアミド酸の中でも、式(IV-1)、(IV-2)、(IV-3)又は(IV-4)で表されるシリコンアミド酸が好ましい。
【００９３】
式(III)中、Ｘは、炭素数１〜１００の四価の有機基であり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙは、炭素数１〜２０の有機基である。
【００９４】
式(III-1)、(III-2)又は(III-3)中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも一つは、炭素数１〜２０のアルコキシ基を含み、ａは、１〜２０の整数である。
【００９５】
式(IV)中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、それらは同一または異なっていてもよく、Ｙ’は、炭素数１〜２０の三価の有機基であり、Ｘ’は炭素数１〜１００の二価の有機基である。
【００９６】
式(IV-1)、(IV-2)、(IV-3)又は(IV-4)中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の内の少なくとも一つは、炭素数１〜２０のアルコキシ基を含み、式(IV-3)のＲは炭素数２〜３０の一価の有機基であり、式(IV-4)のＲは水素又は炭素数１〜２０のアルキルであり、ａは、１〜２０の整数である。
【００９７】
３．４ エポキシ化合物
本発明のインクジェット用インクは、エポキシ化合物をさらに含んでもよい。インクジェット用インクに含まれるエポキシ化合物は、オキシランやオキセタンを有すれば特に限定されないが、オキシランを２つ以上有する化合物が好ましい。
【００９８】
インクジェット用インク中のエポキシ化合物の濃度は特に限定されないが、インクジェット用インク全重量に対して、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１５重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【００９９】
エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、オキシランを有するモノマーの重合体、又はオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体等が挙げられる。
【０１００】
オキシランを有するモノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、又はメチルグリシジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、オキシランを有するモノマーと共重合を行う他のモノマーとの具体例としては、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、又はＮ−フェニルマレイミド等が挙げられる。
【０１０１】
オキシランを有するモノマーの重合体及びオキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体の好ましい具体例としては、ポリグリシジルメタクリレート、メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ベンジルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、ｎ−ブチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、（３−エチル−３−オキセタニル）メチルメタクリレート−グリシジルメタクリレート共重合体、又はスチレン−グリシジルメタクリレート共重合体等が挙げられる。
【０１０２】
エポキシ化合物の具体例としては、商品名「エピコート８０７」、「エピコート８１５」、「エピコート８２５」、「エピコート８２７」、「エピコート８２８」、「エピコート１９０Ｐ」、「エピコート１９１Ｐ」（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、商品名「エピコート１００４」、「エピコート１２５６」（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、商品名「アラルダイトＣＹ１７７」、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」（日本チバガイギー（株）製）、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、「セロキサイド３０００」、「ＥＨＰＥ−３１５０」（ダイセル化学工業（株）製）、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」（三井化学（株）製）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、又はＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
これらの中でも、商品名「アラルダイトＣＹ１８４」、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、商品名「テクモアＶＧ３１０１Ｌ」、商品名「エピコート８２８」は、得られるイミド化合物の膜の平坦性が特に良好であるため好ましい。
【０１０３】
さらにエポキシ化合物の具体例としては、式（Ｉ）〜（Ｖ）の化合物が挙げられる。これらの中でも、式（Ｉ）および（Ｖ）の化合物は、得られるイミド化合物の膜の平坦性が特に良好であるため好ましい。
【０１０４】
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
【０１０５】
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であるが、例えば式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物残基と式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物の反応によって得られるテトラカルボン酸残基である。
式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
式（Ｖ’）中、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは下記式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（Ｖ’）中、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であるが、例えば、炭素数１〜３０の直鎖状又は分枝状の二価の有機基であり、環構造又は酸素を含んでいてもよく、環構造としては、フェニル、シクロヘキシル、ナフチル、シクロヘキセニル、トリシクロ[５．２．１．０２，６]デカニルなどが挙げられる。
式（Ｖ）、式（Ｖ’）中、Ｒeは、オキセタン、オキシラン又はシクロヘキセンを有してもよい一価の有機基であり、好ましくは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（VI）中、Ｒfは水素又は炭素数１〜３のアルキルである。
式（Ｖ）で表される化合物として、特に好ましくは式（Ｖ”）の化合物が挙げられる。
式（Ｖ）で表される化合物は、例えば、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物と式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物とを溶媒中で反応させて製造することができる。
なお、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物は、好ましくは本発明の高分子化合物（ポリアミド酸またはそのイミド化重合体）の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物である。
式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物を１モルに対して、式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物を１．９〜２．１モル用いることが好ましく、式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物を１．９５〜２．０５モル用いることがさらに好ましく、式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物を２モル用いることが特に好ましい。式（Ｖ’）で表されるヒドロキシルを有する化合物は、２種以上の化合物を併用してもよいが、同じであることが好ましい。
また、式（Ｖ）で表される化合物は、例えば、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物とヒドロキシル及び二重結合を有する化合物とを反応させた後、得られた化合物の二重結合部分を酸化させてエポキシ基にすることにより、製造することができる。
式（Ｖ）で表される化合物を合成するために用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えばイミド化合物（Ａ）を合成するための溶媒を挙げることができる。
溶媒は、式（Ｖ）で表される化合物を製造する原料の合計１００重量部に対し５０重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応温度は８０℃〜１３０℃で、反応時間は２〜８時間が好ましい。また、反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。
【０１０６】
エポキシ化合物は１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
インクジェット用インクがこれらのエポキシ化合物を含有すると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性が良好となるため好ましい。
【０１０７】
３．６ アクリル化合物
インクジェット用インクに添加されてもよいアクリル化合物としては、アクリル基やメタクリル基を有していれば特に限定されない。
【０１０８】
インクジェット用インク中のアクリル化合物の濃度は特に限定されないが、０．１〜２０重量％が好ましく、１〜１０重量％がさらに好ましい。この濃度範囲であると、インクジェット用インクから形成された塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。
【０１０９】
アクリル化合物としては、例えば、ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマー、ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマー、二官能（メタ）アクリレート、または三官能以上の多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０１１０】
ヒドロキシルを有する単官能重合性モノマーの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、または１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートを挙げることができる。中でも、形成される膜を柔軟にできる点から、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレートが好ましい。
【０１１１】
ヒドロキシルを有しない単官能重合性モノマーの具体例としては、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、ｐ−ビニルフェニル−３−エチルオキセタ−３−イルメチルエーテル、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレン、（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ビニルトルエン、（メタ）アクリルアミド、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（メタ）アクリレート、ラウリルアルコールのエチレンオキシド付加物の（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、ケイ皮酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、マレイン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]、またはシクロヘキセン−３，４−ジカルボン酸モノ[２−（メタ）アクリロイロキシエチル]を挙げることができる。
【０１１２】
二官能（メタ）アクリレートの具体例としては、ビスフェノールＦエチレンオキシド変性ジアクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキシド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、またはジペンタエリスリトールジアクリレートを挙げることができる。
【０１１３】
三官能以上の多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス[（メタ）アクリロキシエチル]イソシアヌレート、またはウレタン（メタ）アクリレートを挙げることができる。これらのアクリル化合物は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１１４】
３．６ 界面活性剤
インクジェット用インクに添加されてもよい界面活性剤を添加としては、塗布性を向上できる点から、例えば、商品名「Ｂｙｋ−３００」、「Ｂｙｋ−３０６」、「Ｂｙｋ−３３５」、「Ｂｙｋ−３１０」、「Ｂｙｋ−３４１」、「Ｂｙｋ−３４４」、「Ｂｙｋ−３７０」（ビック・ケミー（株）製）等のシリコン系界面活性剤；商品名「Ｂｙｋ−３５４」、「ＢｙＫ−３５８」、「Ｂｙｋ−３６１」（ビック・ケミー（株）製）等のアクリル系界面活性剤、商品名「ＤＦＸ−１８」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２５１」（ネオス（株）製）等のフッ素系界面活性剤を挙げることができる。これらの界面活性剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
界面活性剤は、下地基板への濡れ性、レベリング性、又は塗布性を向上させるために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１１５】
３．７ 帯電防止剤
インクジェット用インクに添加されてもよい帯電防止剤としては、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩が挙げられる。これらの帯電防止剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。
帯電防止剤は、帯電を防止するために使用するものであり、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜１重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１１６】
３．８ カップリング剤
インクジェット用インクに添加されてもよいカップリング剤としては、特に限定されるものではなく、公知のカップリング剤を用いることができる。添加されるカップリング剤はシランカップリング剤が好ましく、具体的には、トリアルコキシシラン化合物又はジアルコキシシラン化合物などを挙げることができる。好ましくは、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−アミノエチル−γ−アミノプロピルトジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランである。これらの中でも、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランが特に好ましい。
【０１１７】
これらのカップリング剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。カップリング剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．０１〜３重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１１８】
３．９ エポキシ硬化剤
インクジェット用インクに添加されてもよいエポキシ硬化剤としては、特に限定されるものではなく、公知のエポキシ硬化剤を用いることができる。具体的には、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾール及びその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、多価カルボン酸無水物などが挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミド等のジシアンジアミド類、アジピン酸ジヒドラジド、１，３−ビス（ヒドラジノカルボエチル）−５−イソプロピルヒダントイン等の有機酸ジヒドラジド、２，４−ジアミノ−６−［２’−エチルイミダゾリル−（１’）］−エチルトリアジン、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物などの酸無水物、またはトリメリット酸が挙げられる。中でも透明性が良好なトリメリット酸、１，２，４−シクロヘキサントリカルボン酸−１，２−無水物が好ましい。
【０１１９】
これらのエポキシ硬化剤は、１種のみを用いてもよく、また、２種以上を混合して用いてもよい。エポキシ硬化剤は、インクジェット用インク１００重量部に対し０．２〜５重量部添加して用いられることが好ましい。
【０１２０】
４ インクジェット用インク
４．１ インクジェット用インクの粘度
本発明においてインクジェット用インクの粘度は特に限定されないが、常温（２５℃）でジェッティングを行う場合は、その粘度が１〜５０ｍＰａ・ｓであると、インクジェット塗布方法によるジェッティング精度が向上する点で好ましい。また、２５℃におけるインクジェット用インクの粘度は、より好ましくは５〜３０ｍＰａ・ｓ、さらに好ましくは８〜１５ｍＰａ・ｓ（２５℃）である。粘度が１５ｍＰａ・ｓ（２５℃）より小さいと、インクジェット吐出不良が生じることがない。
インクヘッドを加熱してジェッティングを行う場合は、加熱温度（好ましくは４０〜１２０℃）におけるインクジェット用インクの粘度は１〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、５〜３０ｍＰａ・ｓであればさらに好ましく、８〜１５ｍＰａ・ｓが特に好ましい。加熱温度における粘度が１５ｍＰａ・ｓより小さいと、インクジェット吐出不良が生じることがない。
【０１２１】
４．２ インクジェット用インクの表面張力
インクの表面張力は、インクジェット用インクの塗布性に大きく影響する。インクの表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲であると、良好なインクジェット吐出ができるので好ましい。より好ましくは２０〜４５ｍＮ／ｍ、さらに好ましくは２５〜４０ｍＮ／ｍに調整する。表面張力が２０〜７０ｍＮ／ｍの範囲であればインク吐出口におけるインクメニスカスが安定になり、インクの吐出は良好となる。
【０１２２】
４．３ インクジェット用インクの水分量
本発明においてインクジェット用インク中の水分量は、１０，０００ｐｐｍ以下が好ましく、５，０００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。これらの水分量であると、インクジェット用インクの粘度変化が少なく保存安定性に優れるので好ましい。
【０１２３】
５ イミド化合物の膜
本発明のイミド化合物の膜は、本発明のインクジェット用インクを、例えば、基板表面にインクジェットにより塗布し、ホットプレート、またはオーブン等で加熱処理することにより、全面または所定のパターン状（たとえばライン状）のイミド化合物の膜として得ることができる。また、本発明のイミド化合物の膜の形成は、加熱処理に限定されず、ＵＶ処理やイオンビーム、電子線、ガンマ線等の処理でもよい。
【０１２４】
５．１ インクジェット方法によるインクジェット用インクの塗布
インクジェット塗布方法には、インクの吐出方法により各種のタイプがある。吐出方法としては、例えば、圧電素子型、バブルジェット（登録商標）型、又は連続噴射型、静電誘導型が挙げられる。本発明にかかるインクは、インクに含まれる各成分を適正に選択することにより、様々な方法でジェッティングが可能であり、インクジェット用インクを予め定められたパターン状に塗布することができる。本発明のイミド化合物をインクジェット用インクとして用いた場合、１回のジェッティングで塗布する膜厚を厚くすることが可能である。本発明において、インクジェット用インクは、１回のジェッティングにより、膜厚を１μｍ以上にできることが好ましく、５μｍ以上にできることがより好ましく、９μｍ以上にできることが特に好ましい。得られる膜厚が１μｍ以上であると、インクジェット用インクから膜を生産するための時間とコストを削減できるので好ましい。
【０１２５】
本発明にかかるインクを用いて塗布を行うのに好ましい吐出方法は、圧電素子型である。この圧電素子型のヘッドは、複数のノズルを有するノズル形成基板と、ノズルに対向して配置される圧電材料と導電材料からなる圧力発生素子と、この圧力発生素子の周囲を満たすインクとを備えた、オンデマンドインクジェット塗布ヘッドであり、印加電圧により圧力発生素子を変位させ、インクの小液滴をノズルから吐出させる。
【０１２６】
インクジェット塗布装置は、塗布ヘッドとインク収容部とが別体となったものに限らず、それらが分離不能に一体になったものを用いるものでもよい。また、インク収容部は塗布ヘッドに対し分離可能または分離不能に一体化されてキャリッジに搭載されるもののほか、装置の固定部位に設けられて、インク供給部材、例えばチューブを介して塗布ヘッドにインクを供給する形態のものでもよい。
【０１２７】
また、塗布ヘッドに対し好ましい負圧を作用させるための構成をインクタンクに設ける場合には、インクタンクのインク収納部に吸収体を配置した形態、あるいは可撓性のインク収容袋とこれに対しその内容積を拡張する方向の付勢力を作用するばね部とを有した形態等を採用することができる。塗布装置は、上述のようにシリアル塗布方式を採るもののほか、塗布媒体の全幅に対応した範囲にわたって塗布素子を整列させてなるラインプリンタの形態をとるものであってもよい。
【０１２８】
５．２ イミド化合物の膜の形成
インクジェット塗布方法を用いて、基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェットによって塗布した後、ホットプレート、またはオーブン等での加熱により溶媒を気化等させて除去する、すなわち乾燥する。この加熱条件は各成分の種類および配合割合によって異なるが、通常７０〜１５０℃で、オーブンを用いた場合は５〜１５分間、ホットプレートを用いた場合は１〜５分間乾燥する。
【０１２９】
さらに乾燥した後、塗膜の耐熱性、耐薬品性、平坦性、さらには十分な機械的強度を得るために、１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃で、オーブンを用いた場合３０〜９０分間、ホットプレートを用いた場合は５〜３０分間加熱処理（硬化処理）することにより、イミド化合物の膜が形成される。インクジェット塗布方法を用いて、パターン状に印刷した場合には、パターン状の膜が形成される。本明細書では、特に言及のない限り、イミド化合物の膜は、パターン状のイミド化合物の膜を含むものとする。
【０１３０】
６ 基板
本発明のフィルム基板は、例えば、インクジェット等の方法により配線が形成されたポリイミドフィルム等の基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状（ライン状等）に塗布し、その後、当該基板を乾燥し、さらに加熱することにより、イミド化合物の膜が形成されて得られる。
【０１３１】
本発明のシリコンウエハー基板は、例えば、インクジェット等の方法によりシリコンウエハー等の基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって全面または所定のパターン状に塗布し、その後、当該基板を乾燥し、さらに加熱することにより、イミド化合物の膜が形成されて得られる。
【０１３２】
本発明で用いることができるイミド化合物の膜は、好ましくは上述したポリイミドフィルム等の基板上、あるいはシリコンウエハー基板上に形成されるが、特にこれに限定されるものではなく公知の基板上に形成することができる。
本発明に適用可能な基板としては、例えば、ＦＲ−１、ＦＲ−３、ＦＲ−４、ＦＲ−５、ＣＥＭ−３、又はＥ６６８等の各種規格に適合する、ガラスエポキシ基板、ガラスコンポジット基板、紙フェノール基板、紙エポキシ基板、グリーンエポキシ基板、又はＢＴレジン基板が挙げられる。
また、本発明に適用可能な他の基板としては、例えば、銅、黄銅、リン青銅、ベリリウム銅、アルミニウム、金、銀、ニッケル、スズ、クロム、又はステンレス等の金属からなる基板（それらの金属の表面を有する基板であってもよい）や；酸化アルミニウム（アルミナ）、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、ジルコニウムのケイ酸塩（ジルコン）、酸化マグネシウム（マグネシア）、チタン酸アルミニウム、チタン酸バリウム、チタン酸鉛（ＰＴ）、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）、チタン酸ジルコン酸ランタン鉛（ＰＬＺＴ）、ニオブ酸リチウム、タンタル酸リチウム、硫化カドニウム、硫化モリブデン、酸化ベリリウム（ベリリア）、酸化ケイ素（シリカ）、炭化ケイ素（シリコンカーバイト）、窒化ケイ素（シリコンナイトライド）、窒化ホウ素（ボロンナイトライド）、酸化亜鉛、ムライト、フェライト、ステアタイト、ホルステライト、スピネル、又はスポジュメン等のセラミックスからなる基板（それらのセラミックスの表面を有する基板であってもよい）や；ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）樹脂、ＰＣＴ（ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレート）樹脂、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、テフロン（登録商標）、熱可塑性エラストマー、又は液晶ポリマー等の樹脂からなる基板（それらの樹脂の表面を有する基板であってもよい）や；ゲルマニウム、又はガリウム砒素等の半導体基板や；ガラス基板や；あるいは酸化スズ、酸化亜鉛、ＩＴＯ、又はＡＴＯ等の電極材料が表面に形成された基板や；αＧＥＬ（アルファゲル）、βＧＥＬ（ベータゲル）、θＧＥＬ（シータゲル）、又はγＧＥＬ（ガンマゲル）（以上、株式会社タイカの登録商標）等のゲルシートが挙げられる。
【０１３３】
７ 電子部品
例えば、予め配線が形成されたポリイミドフィルム等のフィルム基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布し、その後、このフィルム基板を乾燥し、さらに加熱することによって、絶縁性を有するイミド化合物の膜で被覆されたフレキシブルな電子部品が得られる。
例えば、シリコンウエハー基板上に、本発明のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布し、その後、このシリコンウエハー基板を乾燥し、さらに加熱することによって、絶縁性を有するイミド化合物の膜で被覆された半導体素子等の電子部品が得られる。
【実施例】
【０１３４】
以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１３５】
実施例および比較例で用いる、モノアミン（ａ１）、溶媒（Ｂ）、及び添加剤の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。
モノアミン（ａ１）
ＡＰＳＥ：３−アミノプロピルトリエトキシシラン
ＡＰＭＥＳ：３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン
溶媒（Ｂ）
ＥＤＭ ：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
ＧＢＬ ：γ−ブチロラクトン
ＮＭＰ ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
添加剤又はその原料
ＥＰ１ ：エチレングリコールジグリシジルエーテル
ＥＰ２ ：下記式（Ｖ”）の化合物
ＯＤＰＡ ：３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
ＤＤＳ ：３，３’−ジアミノジフェニルスルホン
ＢＡＮＩ−Ｘ：Ｎ，Ｎ’−ｍ−キシリレン−ビス（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド） （丸善石油化学株式会社製）
ＢＡＮＩ−Ｍ：ビス｛４−（アリルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド）フェニル｝メタン （丸善石油化学株式会社製）
【０１３６】
実施例における各物性の測定方法は、以下の通りである。
【０１３７】
(i)粘度
インクジェット用インクの粘度は、２５℃にて、Ｅ型粘度計（ＴＯＫＹＯ ＫＥＩＫＩ製 ＶＩＳＣＯＮＩＣ ＥＬＤ）で測定した。インクジェット用インクの粘度の保存安定性を見るために、必要に応じて、室温（２５℃）で６０日保存後の粘度、冷凍（−２０℃）で６０日保存後の粘度を測定した。
【０１３８】
(ii)重量平均分子量
高分子化合物の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定した。試料をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）で試料濃度が約１重量％になるように希釈し、ＧＰＣ装置として日本分光株式会社製、ＪＡＳＣＯ ＧＵＬＬＩＶＥＲ １５００ （インテリジェント示差屈折率計 ＲＩ−１５３０）を用いて、上記希釈液を展開剤としてＧＰＣ法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。カラムは、Ｓｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−５１０ ＨＱおよびＳｈｏｄｅｘ Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−３１０ ＨＱの２本をこの順序に接続して使用し、カラム温度４０℃、流速１．０ｍｌ／ｍｉｎの条件で測定した。
【０１３９】
(iii)ライン幅、エッジの直線性
株式会社キーエンス製のカラーレーザー顕微鏡ＶＫ８７１０で観察した。
ライン幅は、装置に付属している解析ソフトを用いて測定した。また、エッジの直線性は、目視で確認した。
【０１４０】
(iv)膜厚
ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｊａｐａｎ株式会社製の触針式膜厚計αステップ２００を使用し、３箇所の測定値の平均値を膜厚とした。
【０１４１】
(v) 体積抵抗率、誘電率、耐電圧
スピンコートによりクロム基板上にインクを塗布し、所定の条件（所定の温度、時間）で乾燥させ、さらにオーブンに入れて所定の条件（所定の温度、時間）で加熱した。その後、イミド化合物の膜上にアルミニウムを蒸着させ電極を作成した（イミド化合物の膜厚：２μｍ）。
誘電率は、プレシジョンＬＣＲメーター Ｅ４９８０Ａ（Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製）を用いて測定した。体積抵抗率および耐電圧は、ディジタル超絶縁／微少電流計 ＤＳＭ−８１０４（日置電機株式会社製）を用いて測定した。
【０１４２】
(vi) 線膨張係数
インクジェット用インクを基材（アルミホイル）上にアプリケーターを用いて塗布した。ホットプレートを用いて、所定の条件で乾燥させ、さらにオーブンに入れて所定の条件で加熱し、基材の片面に製膜した。
基材からイミド化合物の膜を剥離した後、熱・応力・歪測定装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＴＭＡ／ＳＳ６１００）を用いて、熱線膨張係数を測定した。
測定条件を下記に示す。
試料長さ：１０ｍｍ
試料幅：３ｍｍ
膜厚：１００μｍ
昇温開始温度：３０℃
昇温終了温度：３００℃
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：空気中
線膨張係数の算出：５０〜１２５℃（ファーストスキャン）
【０１４３】
(vii) ５％重量減温度
５％重量減温度は、線膨張係数測定用の試料片を用いて、示差熱重量同時測定装置（セイコーインスツルメント社製、ＳＳＣ５２００）で測定した。
測定条件を下記に示す。
試料重量：５ｍｇ
膜厚：１００μｍ
昇温開始温度：３０℃
昇温終了温度：５００℃
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
雰囲気：空気中
【０１４４】
(viii) 折り曲げ試験
インクジェット用インクを基材（東レデュポン株式会社製カプトン２００Ｈ（厚さ５０μｍ））上にアプリケーターを用いて塗布した。ホットプレートを用いて、所定の条件で乾燥させ、さらにオーブンに入れて所定の条件で加熱し、基材の片面に製膜した（イミド化合物の膜厚：１５μｍ）。基材のＴＤ方向(Transverse direction)が試験試料の長さ方向となるように、幅１．５ｃｍ、長さ１３ｃｍに裁断し、試験試料を作成した。
試験試料は、耐折性試験機（株式会社東洋精機製作所製、ＭＩＴ−ＤＡ）を用いて、折り曲げ面の曲率半径０．３８ｍｍ、折り曲げ角１３５°、張力４．９Ｎとし、毎分１７５回の速度で折り曲げをおこない、所定回数でのクラックの有無を観察した。
【０１４５】
(ix) 反り試験
４０×４０ｍｍ基材（東レデュポン株式会社製カプトン２００Ｈ（厚さ５０μｍ））の中央部３０×３０ｍｍを残し、接着剤付のＰＩテープを用いてガラス基板（５０×５０ｍｍ）上に固定する。スピンコートにより基材上にインクを塗布し、所定の条件で乾燥させ、１５分放冷後ＰＩテープを剥して１時間静置した。さらに基材をオーブンに入れて所定の条件で加熱した後、放冷した（イミド化合物の膜厚：１０μｍ）。基材を平坦面上に置き、平坦面からの４隅のそり高さを測定し、その平均値を反り量とした。
【０１４６】
［実施例１］ インクジェット用インク（１）
反応容器に、無水フタル酸(4.2105ｇ)、ＡＰＳＥ(6.2919ｇ)およびテトラエトキシシラン(4.5124ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（１）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は１８．５ｍＰａ・ｓであった。
【０１４７】
インクジェット用インク（１）をインクジェット用インクとして使用し、インクジェット塗布装置ＤＭＰ−２８３１（ＦＵＪＩＦＩＬＭ Ｄｉｍａｔｉｘ社製）で１．５ｍｍ厚のガラス板上に１ドット幅でドットピッチ２５μｍに設定し、長さ５ｃｍのライン塗布を常温（２５℃）で行った。インクジェットヘッドのヒーターを５０℃に設定し、ピエゾ電圧は２０Ｖ、駆動周波数は５ｋＨｚとした。次に、基板を１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱し、ライン状に形成された絶縁性のイミド化合物の膜を得た。
【０１４８】
得られたイミド化合物の膜のライン幅、エッジの直線性を光学顕微鏡で観察し、さらに膜厚を測定した。得られたイミド化合物の膜のライン幅は１６０μｍであり、エッジの直線性はギザギザしておらず良好であった。また、得られたイミド化合物の膜のラインの膜厚は９．１μｍであった。
【０１４９】
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５０】
【表１】
【０１５１】
［実施例２］ インクジェット用インク（２）
反応容器に、無水こはく酸(3.2718ｇ)、ＡＰＳＥ(7.2324ｇ)およびテトラエトキシシラン(4.5024ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（２）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は２４．９ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法で、ライン塗布及びイミド化合物を膜製した後、得られたイミド化合物の膜のライン幅、エッジの直線性及びラインの膜厚の評価を行った。得られたイミド化合物の膜のライン幅は１１０μｍであり、エッジの直線性はギザギザしておらず良好であった。また、得られたイミド化合物の膜のラインの膜厚は１０．２μｍであった。
【０１５２】
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５３】
【表２】
【０１５４】
［実施例３］ インクジェット用インク（３）
反応容器に、無水シトラコン酸(2.3652ｇ)、ＡＰＳＥ(4.6484ｇ)およびテトラエトキシシラン(3.0050ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（３）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は９．９ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１５５】
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５６】
【表３】
【０１５７】
［実施例４］ インクジェット用インク（４）
反応容器に、無水シトラコン酸(2.7098ｇ)、ＡＰＳＥ(5.3224ｇ)およびテトラエトキシシラン(2.0035ｇ)を仕込み、１８０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をインクジェット用インク（４）とした。インク中の固形分濃度は８０重量％であり、インクの粘度は１７．４ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１５８】
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１３０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１５９】
【表４】
【０１６０】
［実施例５］ インクジェット用インク（５）
実施例４で得られたインクジェット用インク（４）（5.0ｇ）にエポキシ化合物としてＥＰ１（0.8ｇ）、ＥＤＭ（1.055ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（５）とした。インク中の固形分濃度は７０重量％であり、インクの粘度は１０．２ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１２０℃のホットプレートで２０分間乾燥した後、１６０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１６１】
【表５】
【０１６２】
［実施例６］ インクジェット用インク（６）
反応容器に、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン(15.49ｇ)、ＯＤＰＡ（20.68ｇ）およびＥＤＭ（36.17ｇ）を仕込み、１１５℃で４．５時間加熱攪拌した。反応後の反応溶液をＥＰ２のＥＤＭ５０重量％溶液とした。
実施例４で得られたインクジェット用インク（４）（5.0ｇ）にエポキシ化合物としてＥＰ２のＥＤＭ５０重量％溶液（1.6ｇ）およびＥＤＭ（3.0ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（６）とした。インク中の固形分濃度は５０重量％であり、インクの粘度は７．８ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度、粘度の保存安定性）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、１２０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、１６０℃のオーブンで３０分間加熱して作製した。
【０１６３】
【表６】
【０１６４】
［実施例７］ インクジェット用インク（７）
反応容器に、無水こはく酸(8.764ｇ)、ＡＰＳＥ(19.300ｇ)およびＥＤＭ(12.027ｇ)を仕込み、１６５℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をイミド化合物溶液（１）とした。溶液中の固形分濃度は７０重量％であり、溶液の粘度は２３．１ｍＰａ・ｓであった。
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた３００ｍｌの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下室温で２２時間攪拌したところ、淡黄色透明なポリアミド酸の１２重量％溶液を得た。この溶液の粘度は１１９８ｍＰａ・ｓであり、ＧＰＣで測定した重量平均分子量は１２４，６００であった
ＯＤＰＡ １０．３４ｇ
ＢＡＰＰ １３．６７ｇ
ＧＢＬ ８８．０１ｇ
ＥＤＭ ８７．９９ｇ
この溶液の内、１０．０１ｇを反応容器にとりわけ、これにＧＢＬ ５．００２ｇおよびＥＤＭ ５．００１ｇを加えて攪拌したポリアミド酸溶液を高分子化合物溶液（１）とした。溶液中の固形分濃度は６重量％であり、溶液の粘度は３４．２ｍＰａ・ｓであった。
イミド化合物溶液（１）（3.504ｇ）に高分子化合物溶液（１）（1.505ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（７）とした。インク中の固形分濃度は５０．８重量％であり、インクの粘度は１３．５ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、線膨張係数、５％重量減温度、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１６５】
【表７】
【０１６６】
［実施例８］ インクジェット用インク（８）
反応容器に、無水シトラコン酸(2.3652ｇ)、ＡＰＳＥ(4.6484ｇ)およびＥＤＭ(3.0050ｇ)を仕込み、１５０℃で３時間還流した。反応後の反応溶液をイミド化合物溶液（２）とした。溶液中の固形分濃度は７０重量％であり、溶液の粘度は１３．１ｍＰａ・ｓであった。
イミド化合物溶液（２）（2.510ｇ）に実施例７で得られた高分子化合物溶液（１）（2.200ｇ）を加えた溶液をインクジェット用インク（８）とした。インク中の固形分濃度は４０重量％であり、インクの粘度は９．９ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のホットプレートで５分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１６７】
【表８】
【０１６８】
［実施例９］ インクジェット用インク（９）
反応容器に、無水こはく酸(31.34ｇ)、ＡＰＳＥ(34.68ｇ)、ＡＰＭＥＳ(29.97ｇ)およびＥＤＭ(24.02ｇ)を仕込み、１７５℃で３時間還流して黄色透明溶液を得た。この溶液(27.61ｇ)にエポキシ化合物としてＥＰ２(5.52ｇ)、ＥＤＭ(3.31ｇ)およびＧＢＬ(4.05ｇ)を加えた溶液をインクジェット用インク（９）とした。インク中の固形分濃度は６０重量％であり、インクの粘度は２０．１７ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１６９】
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、折り曲げ試験、反り試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１７０】
【表９】
【０１７１】
［実施例１０］ インクジェット用インク（１０）
反応容器に、無水トリメリット酸(11.359ｇ)、ＡＰＳＥ(9.814ｇ)およびＡＰＭＥＳ(2.827ｇ)を仕込み、１３５℃で３時間還流して黄色透明溶液を得た。この溶液(9.10326ｇ)にエポキシ化合物としてＥＰ１(1.551ｇ)およびＥＤＭ(7.010ｇ)を加えた溶液をインクジェット用インク（１０）とした。インク中の固形分濃度は５０重量％であり、インクの粘度は４１．０ｍＰａ・ｓであった。
次に、このインクを用いて、実施例１と同様の方法でライン塗布及びイミド化合物の膜を作製したところ、実施例１と同様にライン状イミド化合物の膜が得られた。
【０１７２】
得られたインクの特性（粘度）およびインクを用いて得られるイミド化合物の膜の特性（体積抵抗率、誘電率、耐電圧、５％重量減温度、折り曲げ試験）を評価した。評価結果を以下に示す。
なお、イミド化合物の膜は、８０℃のオーブンで３０分間乾燥した後、１８０℃のオーブンで６０分間加熱して作製した。
【０１７３】
【表１０】
【０１７４】
［比較例１］インクジェット用インク（Ｃ１）
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口および窒素ガス導入口を備えた５００ｍｌの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下４０℃で１０時間攪拌した後、７０℃に昇温して８時間攪拌し、黄色透明なポリアミド酸の８重量％溶液を得た。この溶液をそのままインクジェット用インク（Ｃ１）とした。
ＯＤＰＡ ２０．０ｇ
ＤＤＳ １６．０ｇ
ＮＭＰ ４１４．０ｇ
【０１７５】
このインクジェット用インク（Ｃ１）の粘度を実施例１と同じ条件で測定した。その結果、粘度は９．１ｍＰａ・ｓ（２５℃）であった。また、インクジェット用インク（Ｃ１）では、溶媒としてＥＤＭを使用すると反応生成物が析出するため、ＮＭＰを使用した。ＧＰＣで測定した重量平均分子量は２５，０００であった。
【０１７６】
次に、このインク（Ｃ１）を用いて、実施例１と同様の方法で、ライン塗布及びイミド化合物の膜を作製した後、得られたイミド化合物の膜のライン幅、エッジの直線性及びラインの膜厚の評価を行った。
その結果、イミド化合物の膜のライン幅は６１０〜６８０μｍとなり、塗布したときの幅より大幅に広がってしまった。また、エッジの直線性も不十分でギザギザがあった。さらに、ラインの膜厚は０．４μｍであり、十分な厚さが得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１７７】
本発明の活用法として、例えば、フレキシブル配線基板用絶縁膜、半導体素子用絶縁膜、およびそれらを用いた電子部品等が挙げられる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
指摘
モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インク。
【請求項２】
イミド化合物（Ａ）が、式（１）で表される化合物である、請求項１に記載のインクジェット用インク。
式（１）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基であり、Ｒｂは炭素数１〜１００の一価の有機基である。
【請求項３】
モノアミン（ａ１）が、式（２）で表され、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、式（３）で表される、請求項１又は２に記載のインクジェット用インク。
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｙは炭素数１〜２０の二価の有機基であり、式（３）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基である。
【請求項４】
イミド化合物（Ａ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％である請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシランおよびｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上であり、
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、無水トリメリット酸、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、３−フルオロフタル酸無水物、４−フルオロフタル酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン１，２−ジカルボン酸無水物、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、ブチルこはく酸無水物、ｎ−オクチルこはく酸無水物、デシルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、テトラデシルこはく酸無水物、ヘキサデシルこはく酸無水物、オクタデシルこはく酸無水物、２−ブテン−１−イルこはく酸無水物、２−ヘキセン−１−イルこはく酸無水物、ｎ−オクテニルこはく酸無水物、ｎ−デセニルこはく酸無水物、２−ドデセン−１−イルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ヘキサデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドおよびトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドからなる群から選ばれる１以上である、請求項１又は２に記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを反応溶媒中で反応させた後、１４０〜２３０℃で１．５〜１０時間還流して得られるイミド化合物（Ａ）を含む、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項７】
インクジェット吐出温度時のインクの粘度が５〜３０ｍＰａ・ｓである請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
インクジェット用インクの表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍである請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
溶媒（Ｂ）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランおよびジフェニルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上である、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％である請求項９に記載のインクジェット用インク。
【請求項１１】
溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、１５〜７０重量％である請求項９に記載のインクジェット用インク。
【請求項１２】
溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒が０〜２０重量％である、請求項１〜１１のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１３】
溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒の含有量が０重量％である、請求項１〜１１のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１４】
モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、
溶媒（Ｂ）が、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルである、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項１５】
モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、
溶媒（Ｂ）が、テトラエトキシシランである、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項１６】
さらに、高分子化合物、アルケニル置換ナジイミド化合物、シリコン化合物、エポキシ化合物、アクリル化合物、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、及びエポキシ硬化剤からなる群から選ばれる１以上を含む、請求項１〜１５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１７】
高分子化合物が、少なくとも、ジアミン（ａ３）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）とを用いて得られ、式（４）で表される構成単位を有する、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、請求項１６に記載のインクジェット用インク。
式（４）中、Ｒ４は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒ５は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
【請求項１８】
ジアミン（ａ３）が、式（５）で表されるジアミンであり、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物、及び、酸無水物基を有するモノマーと他の重合性モノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１以上である、請求項１７に記載のインクジェット用インク。
式（５）中、Ｒ６は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
【請求項１９】
式（５）で表されるジアミン（ａ３）が、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン及び式（７）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１８に記載のインクジェット用インク。
式（７）中、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル又はフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してメチレン、フェニレン又はアルキルで置き換えられたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
【請求項２０】
式（６）で表される酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、ピロメリット酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物及びブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１８に記載のインクジェット用インク。
【請求項２１】
高分子化合物が、重量平均分子量３０，０００〜５００，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、請求項１７〜２０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項２２】
エポキシ化合物が、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、オキシランを有するモノマーの重合体、及び、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１６に記載のインクジェット用インク。
【請求項２３】
エポキシ化合物が、式（Ｉ）〜（Ｖ）からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１６に記載のインクジェット用インク。
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（ＶＩ）中、Ｒfは水素又は炭素数１〜３のアルキルである。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれかに記載のインクジェット用インクから得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
【請求項２５】
請求項１〜２３のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成した後、膜を硬化処理して得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
【請求項２６】
請求項１〜２３のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成する工程、及び、膜を硬化処理する工程を含む、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜の形成方法。
【請求項２７】
請求項２４又は２５に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたフィルム基板。
【請求項２８】
請求項２７に記載のフィルム基板を有する電子部品。
【請求項２９】
請求項２４又は２５に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたシリコンウエハー基板。
【請求項３０】
請求項２９に記載のシリコンウエハー基板を有する電子部品。
【請求項１】
指摘
モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを用いて得られるイミド化合物（Ａ）と、溶媒（Ｂ）とを含む、インクジェット用インク。
【請求項２】
イミド化合物（Ａ）が、式（１）で表される化合物である、請求項１に記載のインクジェット用インク。
式（１）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基であり、Ｒｂは炭素数１〜１００の一価の有機基である。
【請求項３】
モノアミン（ａ１）が、式（２）で表され、酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、式（３）で表される、請求項１又は２に記載のインクジェット用インク。
式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立して水素、ハロゲンまたは炭素数１〜１００の一価の有機基であり、Ｙは炭素数１〜２０の二価の有機基であり、式（３）中、Ｒａは炭素数１〜１００の二価の有機基である。
【請求項４】
イミド化合物（Ａ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％である請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項５】
モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、４−アミノブチルトリメトキシシラン、４−アミノブチルトリエトキシシラン、４−アミノブチルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシランおよびｍ−アミノフェニルメチルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上であり、
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、無水トリメリット酸、３−メチルフタル酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、４−ｔｅｒｔ−ブチルフタル酸無水物、３−フルオロフタル酸無水物、４−フルオロフタル酸無水物、４−エチニルフタル酸無水物、４−フェニルエチニルフタル酸無水物、こはく酸無水物、グルタル酸無水物、イタコン酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルシクロヘキサン１，２−ジカルボン酸無水物、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、２，３−ジメチルマレイン酸無水物、アリルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、アリルナジック酸無水物、ブチルこはく酸無水物、ｎ−オクチルこはく酸無水物、デシルこはく酸無水物、ドデシルこはく酸無水物、テトラデシルこはく酸無水物、ヘキサデシルこはく酸無水物、オクタデシルこはく酸無水物、２−ブテン−１−イルこはく酸無水物、２−ヘキセン−１−イルこはく酸無水物、ｎ−オクテニルこはく酸無水物、ｎ−デセニルこはく酸無水物、２−ドデセン−１−イルこはく酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ヘキサデセニルこはく酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、ｐ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｐ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリメトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、ｍ−（トリエトキシシリル）フェニルサクシニックアンヒドリド、トリメトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドおよびトリエトキシシリルプロピルサクシニックアンヒドリドからなる群から選ばれる１以上である、請求項１又は２に記載のインクジェット用インク。
【請求項６】
モノアミン（ａ１）と酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）とを反応溶媒中で反応させた後、１４０〜２３０℃で１．５〜１０時間還流して得られるイミド化合物（Ａ）を含む、請求項１〜５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項７】
インクジェット吐出温度時のインクの粘度が５〜３０ｍＰａ・ｓである請求項１〜６のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項８】
インクジェット用インクの表面張力が２０〜４５ｍＮ／ｍである請求項１〜７のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項９】
溶媒（Ｂ）が、乳酸エチル、エタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランおよびジフェニルジエトキシシランからなる群から選ばれる１以上である、請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１０】
溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、５〜９５重量％である請求項９に記載のインクジェット用インク。
【請求項１１】
溶媒（Ｂ）の含有量が、インクジェット用インク全重量に対して、１５〜７０重量％である請求項９に記載のインクジェット用インク。
【請求項１２】
溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒が０〜２０重量％である、請求項１〜１１のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１３】
溶媒（Ｂ）全重量に対して、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタムおよびカルバミド酸エステルからなる群から選ばれる１以上の溶媒の含有量が０重量％である、請求項１〜１１のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１４】
モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、
溶媒（Ｂ）が、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルである、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項１５】
モノアミン（ａ１）が、３−アミノプロピルトリエトキシシランであり、
酸無水物基を１つ有する化合物（ａ２）が、無水フタル酸、ｃｉｓ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、イタコン酸無水物、テトラデセニルこはく酸無水物、ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、４−メチルフタル酸無水物、テトラフルオロフタル酸無水物、シトラコン酸無水物、オクタデセニルこはく酸無水物、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、およびアリルナジック酸無水物からなる群から選ばれる１以上であり、
溶媒（Ｂ）が、テトラエトキシシランである、請求項１に記載のインクジェット用インク。
【請求項１６】
さらに、高分子化合物、アルケニル置換ナジイミド化合物、シリコン化合物、エポキシ化合物、アクリル化合物、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、及びエポキシ硬化剤からなる群から選ばれる１以上を含む、請求項１〜１５のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項１７】
高分子化合物が、少なくとも、ジアミン（ａ３）と酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）とを用いて得られ、式（４）で表される構成単位を有する、ポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、請求項１６に記載のインクジェット用インク。
式（４）中、Ｒ４は炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒ５は炭素数２〜１００の二価の有機基である。
【請求項１８】
ジアミン（ａ３）が、式（５）で表されるジアミンであり、酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、式（６）で表されるテトラカルボン酸二無水物、及び、酸無水物基を有するモノマーと他の重合性モノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１以上である、請求項１７に記載のインクジェット用インク。
式（５）中、Ｒ６は炭素数２〜１００の二価の有機基であり、式（６）中、Ｒ７は炭素数２〜１００の四価の有機基である。
【請求項１９】
式（５）で表されるジアミン（ａ３）が、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ベンジジン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］シクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス［４−（４−アミノベンジル）フェニル］メタン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン及び式（７）で表される化合物からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１８に記載のインクジェット用インク。
式（７）中、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１〜３のアルキル又はフェニルであり、Ｒ９はそれぞれ独立してメチレン、フェニレン又はアルキルで置き換えられたフェニレンであり、ｘはそれぞれ独立して１〜６の整数であり、ｙは１〜７０の整数である。
【請求項２０】
式（６）で表される酸無水物基を２つ以上有する化合物（ａ４）が、ピロメリット酸二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２'，３，３'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３'，４'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、エタンテトラカルボン酸二無水物及びブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１８に記載のインクジェット用インク。
【請求項２１】
高分子化合物が、重量平均分子量３０，０００〜５００，０００のポリアミド酸またはそのイミド化重合体である、請求項１７〜２０のいずれかに記載のインクジェット用インク。
【請求項２２】
エポキシ化合物が、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、オキシランを有するモノマーの重合体、及び、オキシランを有するモノマーと他のモノマーとの共重合体からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１６に記載のインクジェット用インク。
【請求項２３】
エポキシ化合物が、式（Ｉ）〜（Ｖ）からなる群から選ばれる１つ以上である、請求項１６に記載のインクジェット用インク。
式（Ｖ）中、Ｒcは炭素数２〜１００の四価の有機基であり、Ｒdは炭素数１〜３０の二価の有機基であり、Ｒeは式（VI）〜（VIII）からなる群から選ばれる一価の有機基である。
式（ＶＩ）中、Ｒfは水素又は炭素数１〜３のアルキルである。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれかに記載のインクジェット用インクから得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
【請求項２５】
請求項１〜２３のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成した後、膜を硬化処理して得られる、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜。
【請求項２６】
請求項１〜２３のいずれかに記載のインクジェット用インクをインクジェット塗布方法によって塗布して膜を形成する工程、及び、膜を硬化処理する工程を含む、イミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜の形成方法。
【請求項２７】
請求項２４又は２５に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたフィルム基板。
【請求項２８】
請求項２７に記載のフィルム基板を有する電子部品。
【請求項２９】
請求項２４又は２５に記載のイミド化合物の膜またはパターン状のイミド化合物の膜が基板上に形成されたシリコンウエハー基板。
【請求項３０】
請求項２９に記載のシリコンウエハー基板を有する電子部品。
【公開番号】特開２０１０−１８９６３１（Ｐ２０１０−１８９６３１Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−８６３６（Ｐ２０１０−８６３６）
【出願日】平成２２年１月１９日（２０１０．１．１９）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１月１９日（２０１０．１．１９）
【出願人】（０００００２０７１）チッソ株式会社 (658)
【Ｆターム（参考）】
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