光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法
【課題】本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法は、一つの光源から発生させたパルス光を一定周期で変調させることにより、心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方の成分を具備する合波光を発生させることとした。合波光は、パルス光を光スイッチのＯＮ／ＯＦＦにより一定周期で変調させることで得られる。
【解決手段】本発明に係る光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法は、一つの光源から発生させたパルス光を一定周期で変調させることにより、心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方の成分を具備する合波光を発生させることとした。合波光は、パルス光を光スイッチのＯＮ／ＯＦＦにより一定周期で変調させることで得られる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバを特定する心線対照技術及び光ファイバを評価するＯＴＤＲ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｔｉｍｅ Ｄｏｍａｉｎ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒ）技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年光アクセスサービスの増加と光サービスエリアの拡大に伴い、光設備量が増加しており、道路工事等に伴うケーブルルートを変更する支障移転工事も増加している。支障移転工事では、屋外で移転先のケーブルを敷設後、移転元の光ファイバを特定し、当該心線の切断及び移転先の光ファイバと接続する心線切り替え作業を行い、正しく接続されたか試験を行う（例えば、非特許文献１を参照。）。
【０００３】
一方、光ファイバを特定するため心線対照技術が提案されている（例えば、非特許文献２参照。）。非特許文献２の心線対照技術では、図１４に示すように、通信設備ビル９１から、通信光ＬＳの波長より長波長側で変調した変調光ＬＫを光ファイバ１００に挿入する。通信設備ビル９１の屋外では、変調光ＬＫが漏洩する程度に光ファイバ１００を曲げ、漏洩光から変調光ＬＫの有無を判定する。これにより、光ファイバ１００の通信光ＬＳに影響を与えずに、変調光ＬＫを挿入した光ファイバ１００を特定する。また、変調光ＬＫは１６５０ｎｍ帯の波長で２７０Ｈｚ変調が使われることが多い。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】有居正仁、東裕司、榎本圭高、鈴木勝晶、荒木則幸、宇留野重則、渡邉常一、「拡大する光アクセス網を支える光媒体網運用技術」、ＮＴＴ技術ジャーナル、２００６年１２月号、ｐｐ．５８−６１
【非特許文献２】鈴木勝晶、山本素、夏目新、「Ｒ１５心線に対応した光ファイバ心線対照技術」、ＮＴＴ技術ジャーナル、２００７年４月号、ｐｐ．５４−５５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
支障移転工事等の光ケーブルの切り替え工事を実施する際には、心線対照による切り替え対象光ファイバの特定、対象光ファイバの切断、ＯＴＤＲ測定による切断確認、移転先光ファイバへの接続、ＯＴＤＲ測定による移転先光ファイバの接続確認といった作業手順となる。
【０００６】
図１５に、光ケーブルの切り替え工事を実施する際の設備構成を示す。通信設備ビル９１内には、光カプラ５６が設置されており、光カプラ５６のαポートにはＯＬＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｌｉｎｅ Ｔｅｒｍｉｎａｌ）５１が接続され、γポートには通信設備ビル９１から屋外へ敷設されている光ファイバ１００が接続されている。この図は、屋外の地点ＰＸと地点ＰＹの間の区間において光ファイバの心線を切り替える例であり、移転元の光ファイバが１００ａであり、移転先の光ファイバが１００ｂである。心線対照やＯＴＤＲ測定を行う際には、変調光源５４又はＯＴＤＲ測定装置５３のいずれか一つを測定内容に応じて選択し、光カプラ５６のβポートに接続して測定を行う。ここで通信に影響を与えることがないよう変調光源５４及びＯＴＤＲ測定装置５３ともに、通信光波長と異なる１６５０ｎｍ帯が使われる。光カプラ５６のβポートから光カプラ５６に入射された光は、αポートへ出射されずγポートのみに出射される。また、光ファイバ１００からγポートへ入射された光は、αポートとβポートの両方へ出射される。さらに、αポートからの入射された光は、βポートに出射されずにγポートへ出射される。そのため、ＯＬＴ５１からＯＮＵ５２までの通信線路を切断することなく心線対照やＯＴＤＲ測定を行うことができる。
【０００７】
しかし、図１５に示すように、光ファイバ１００に対して心線対照を行う際には、光ファイバ１００に変調光ＬＫを入射するための変調光源５４をβポートに接続し、また光ファイバ１００に対してＯＴＤＲ測定を行う際には、ＯＴＤＲ測定装置５３をβポートに接続する必要がある。
【０００８】
このように、心線対照とＯＴＤＲ測定については別々の機器を用いるため、通信設備ビル９１内の作業者は、屋外の作業者と電話等で連絡を取り合いながら、作業状況に応じて光カプラ５６のβポートに接続する機器を交換していた。このため、支障移転工事等の光ケーブルの切り替え工事を実施する際には、作業者が常に通信設備ビル９１内に待機している必要があった。
【０００９】
また、支障移転工事は屋外で同時に２以上の地点（例えば、地点ＰＸ及び地点ＰＹ）で作業を行うこととなる。そのため、例えば、地点ＰＸについてはＯＴＤＲ測定を、地点ＰＹでは心線対照を行いたい場合がある。このような場合には、通信設備ビル内のカプラ５６のβポートには一つの機器しか接続することができないため、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができず、どちらかの作業については待機する必要があった。このため、支障移転工事の作業時間が長くなるとともに、切り替えに伴うサービス断の時間が長時間化する課題も生じていた。
【００１０】
そこで、前記課題を解決するために、本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明に係る光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法は、一つの光源から発生させたパルス光を一定周期で変調させることにより、心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方の成分を具備する合波光を発生させることとした。
【００１２】
具体的には、本発明に係る光ファイバ測定装置は、所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する光出力部と、前記光出力部が生成した合波光を検査対象の光ファイバの一端に入射し、前記光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定する受光部と、を備える。
【００１３】
本光ファイバ測定装置は、所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する。このため、本光ファイバ測定装置は、一つの光源で心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方を発生させることができる。従って、本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置及び合波光生成方法を提供することができる。
【００１４】
本発明に係る光ファイバ測定装置の前記光出力部は、前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、前記パルス光の発生と停止を制御するパルス駆動回路と、を有することを特徴とする。本発明に係る合波光生成方法は、前記合波光を、前記パルス光を発生するパルス光発生回路を駆動して前記パルス光の発生と停止を制御して生成することを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る光ファイバ測定装置の前記光出力部は、前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、前記パルス光の経路で前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返す光スイッチと、を有することを特徴とする。本発明に係る合波光生成方法は、前記合波光を、前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返して生成することを特徴とする。
【００１６】
具体的には、本発明に係る光ファイバ測定方法は、所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を複数の光ファイバのうちの１の特定光ファイバの一端に入射する合波光入射手順と、光ファイバの側面から漏れ出す前記変調周期の光を検出することで、複数の光ファイバのうち前記合波光入射手順で前記合波光を入射した前記特定光ファイバを特定する変調光検出手順と、前記特定光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定し、前記特定光ファイバで形成された光経路における損失を確認する損失測定手順と、を行う。
【００１７】
本光ファイバ測定方法では、心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方の成分を有する合波光を光ファイバに入射する。従って、本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定方法を提供することができる。
【００１８】
本発明に係る光ファイバ測定方法の前記損失測定手順は、前記戻り光の光強度から前記合波光がフレネル反射する位置の変動を確認し、前記特定光ファイバの光経路上で行われる光ファイバの切替作業をモニタすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る光ファイバ測定装置を含むシステムを説明する図である。
【図２】（ａ）本発明に係る合波光生成方法で生成された合波光を説明する図である。（ｂ）合波光の一部を拡大して説明する図である。
【図３】本発明に係る光ファイバ測定装置が備える光出力部を説明する図である。
【図４】本発明に係る光ファイバ測定装置が備える光出力部を説明する図である。
【図５】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図６】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図７】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図８】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図９】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１０】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１１】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１２】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１３】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１４】非特許文献２に記載される心線対照技術を説明する図である。
【図１５】光ケーブル切り替え工事を説明する図である。
【図１６】（ａ）パルス光を変調する変調周期を説明する図である。（ｂ）本発明に係る合波光生成方法で生成された合波光を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図面を参照して本発明の実施形態を説明する。なお、本明細書及び図面において符号が同じ構成要素は、相互に同一のものを示すものとする。
【００２２】
図１に、本実施形態に係る光ファイバ測定システムの構成の一例を示す。本実施形態に係る光ファイバ測定システムは、光ファイバ測定装置１１と、変調光受光器１３と、反射フィルタ１４と、を備える。
【００２３】
光ファイバ測定装置１１は、図２に示すパルス光ＬＰを変調光ＬＫの周期に変調し作成した合波光ＬＦを光ファイバ１００ａに出力する。図２を用いて、光出力部２１が発生する、パルス光ＬＰを変調光ＬＫの周期に変調し作成した合波光ＬＦの波形を説明する。ここで、（ａ）は、パルス光ＬＰの発光周期を変調し、変調光ＬＫの要素を含んだ合波光ＬＦを表し、（ｂ）は、合波光ＬＦの一部を拡大し、パルス光ＬＰを表す。両図とも、縦軸が光レベル、横軸が時間である。ＯＴＤＲ測定では、パルス幅には０．１〜１μｓがよく用いられ、パルス光ＬＰの周期は２００μｓ程度である。一方、図１６にあるように、変調光ＬＫの周期として２７０Ｈｚがよく用いられるが、その場合の１周期は３７００μｓとなり、１８５０μｓ毎に発光している期間と発光していない期間が繰り返される。パルス光ＬＰは、ＬＫの発光している期間である１８５０μｓで１０回程度、発光することとなる。ここで、図１６の（ａ）は、変調光ＬＫを表し、（ｂ）は、合波光ＬＦを表す。
【００２４】
パルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光する。光合分波器１２は、光出力部２１からの合波光ＬＦを光ファイバ１００ａに挿入するとともに、光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光部２２に分離する。変調光受光器１３は、光ファイバ１００ａの外被から漏洩する合波光ＬＦを受光する。この外被から漏洩した合波光ＬＦは、変調光ＬＫの要素を含んでいるため、変調光受光器１３は変調光ＬＫと同等と判断する。反射フィルタ１４は、光ファイバ１００ａのＯＮＵ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｎｅｔｗｏｒｋ Ｕｎｉｔ）側の端部に設置され、パルス光ＬＰを反射する。パルス光ＬＰが反射フィルタ１４まで到達する場合、反射フィルタ１４の反射光がフレネル反射による戻り光ＬＢとなる。
【００２５】
合波光ＬＦに変調光ＬＫの要素が含まれているため、変調光受光器１３を用いて心線対照を行うことができる。合波光ＬＦにパルス光ＬＰが含まれているため、光ファイバ測定装置１１で戻り光ＬＢを受光することでＯＴＤＲ測定を行うことができる。したがって、本実施形態に係る光ファイバ測定システムは、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同じ光出力部で同時に行うことができる。
【００２６】
光ファイバ測定装置１１は、光合分波器１２と、光出力部２１と、受光部２２と、演算部２３を備える。光出力部２１は、パルス光ＬＰの発光周期を変化させて変調光ＬＫを含めた合波光ＬＦを発生する。変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰの波長は同一であるが、通信光ＬＳとは異なる。
【００２７】
受光部２２は、光出力部２１の発生するパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光する。受光部２２は、通常のＯＴＤＲ測定装置と同様に、パルス光ＬＰの出力する周期に合わせて受光する。演算部２３は、受光部２２の受光する戻り光ＬＢの光レベル及びパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａに出力されてから戻り光ＬＢを受光するまでの時間を測定する。これにより、光ファイバ測定装置１１は、ＯＴＤＲ測定を行う。
【００２８】
図３に、光出力部２１の第１例を示す。光出力部の第１例は、パルス光発生部３４と、パルス駆動回路３３を備える。パルス駆動回路３３がパルス光ＬＰをある一定間隔で発光させることで、変調光ＬＫを生成する。これにより、合波光ＬＦが出力される。
【００２９】
図４に、光出力部の第２例を示す。光出力部の第２例は、パルス駆動回路３３と、パルス光発生部３４と、光スイッチ３５、変調信号発生部３６を備える。パルス光発生部３４がパルス光ＬＰを発光し、変調信号発生部３６が光スイッチ３５をＯＮ／ＯＦＦさせることで変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰを合波した合波光ＬＦを発光することができる。
【００３０】
ＯＴＤＲ測定は、光出力部２１からパルス光ＬＰを出射し、光ファイバ１００ａ内で発生するレイリー散乱光を受光部２２で受光して観測して、光ファイバ１００ａのある区間での損失や接続点の損失を測定する。また、接続点における屈折率差からフレネル反射が生じ、接続点での反射量を観測することができる。受光部２２は、光ファイバ１００ａ内で発生したレイリー散乱光やフレネル反射光等の戻り光ＬＢを測定し、演算部２３は、戻り光ＬＢが戻ってくるまでの時間で距離を算出する。
【００３１】
一方、心線対照の際は、地点ＰＸ及び地点ＰＹで光ファイバ１００ａに曲げが加えられ、光ファイバ１００ａから漏洩した変調光ＬＫを変調光受光器１３で受信し、切断する予定の心線すなわち光ファイバ１００ａを特定する。変調光受光部１３には変調光を検出する回路が含まれており、複数のパルス光ＬＰを変調して作成された合波光ＬＦを変調光ＬＫとして検出することができる。
【００３２】
図５は、本実施形態に係る光ファイバの切り替え接続作業の一例を示すフローチャートである。本実施形態に係る光ファイバ測定方法は、合波光入射手順Ｓ１０１と、変調光検出手順Ｓ１０２と、光ファイバ切断手順Ｓ１０３と、光ファイバ接続手順Ｓ１０４を順に有する。
【００３３】
図５に示す合波光入射手順Ｓ１０１では、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた合波光ＬＦを、継続的に光ファイバ１００ａの一端に入力する。合波光ＬＦの出力は、変調光検出手順Ｓ１０２、光ファイバ切断手順Ｓ１０３及び光ファイバ接続手順Ｓ１０４にわたって、継続的に行う。
【００３４】
合波光ＬＦは、例えば、図３や図４に示す光出力部２１を用いて、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた波形を出力する。
【００３５】
図６に、合波光入射手順Ｓ１０１における光ファイバ測定システムの状態を示す。光ファイバ測定装置１１からパルス光ＬＰを変調光ＬＫの周期で変調された合波光ＬＦが測定対象の光ファイバ１００ａへ出射される。合波光ＬＦはパルス光ＬＰの要素を含んでいるため、ＯＮＵ５２の前段に設置された反射フィルタ１４（地点ＰＲ）で反射され、反射された戻り光ＬＢは光合分波器１２のγポートに入射される。γポートに入射された戻り光ＬＢは、βポートから出射され、光ファイバ測定装置１１に入射される。そして、光ファイバ測定装置１１が、合波光ＬＦの要素であるパルス光ＬＰ及び戻り光ＬＢを用いてＯＴＤＲ測定を行う。
【００３６】
図７に、合波光入射手順Ｓ１０１におけるＯＴＤＲ波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定することで、地点ＰＲの距離でフレネル反射が発生していることが確認できる。
【００３７】
図５に示す変調光検出手順Ｓ１０２では、光ファイバ１００ａの任意の位置で合波光ＬＦを受光する。例えば、屋外の地点ＰＸ及び地点ＰＹにおいて、光ファイバ１００ａを曲げて漏洩光のなかから合波光ＬＦを受光する。合波光ＬＦは変調光ＬＫの要素を含んでいるため、作業を行う目的の光ファイバ１００ａであるか、心線対照を行うことが可能である。
【００３８】
図５に示す光ファイバ切断手順Ｓ１０３では、変調光検出手順Ｓ１０２で変調光ＬＫを受光した光ファイバ１００ａを光ファイバ１００ａの途中の地点ＰＹで切断する。このとき、誤って他の光ファイバを切断しないように心線対照で変調光ＬＫを確認しつつ、光ファイバ１００ａを切断する。
【００３９】
図８に、光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光入射手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＹでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢが光ファイバ測定装置１１に入射される。
【００４０】
図９に、光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときのＯＴＤＲ測定波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定すると、地点ＰＹの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが地点ＰＹの距離で切断されたか否かを判定することができる。
【００４１】
図５に示す光ファイバ切断手順Ｓ１０３では、さらに、変調光検出手順Ｓ１０２で変調光ＬＫの要素を含んだ合波光ＬＦを受光した光ファイバ１００ａを光ファイバ１００ａの途中の地点ＰＸで切断する。このとき、誤って他の光ファイバを切断しないように心線対照で変調光ＬＫの要素を含んだ合波光ＬＦを確認しつつ、光ファイバ１００ａを切断する。
【００４２】
図１０に、光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光入射手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＸでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢが光ファイバ測定装置１１に入射される。
【００４３】
図１１に、光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときのＯＴＤＲ波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定すると、地点ＰＸの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが地点ＰＸの距離で切断されたか否かを判定することができる。
【００４４】
図５に示す光ファイバ接続手順Ｓ１０４では、光ファイバ切断手順Ｓ１０３で切断した光ファイバ１００ａのうちの光合分波器１２側の一端に近い光ファイバ１００ａを他の光ファイバ１００ｂに接続する。例えば、図１５にて説明すると、光ファイバ１００ａを地点ＰＸ及び地点ＰＹで切断した後に、Ａ区間の１００ａとＢ区間の１００ｂを先ず接続し、その後、Ｂ区間の１００ｂとＣ区間の１００ａを接続する。
【００４５】
図１２に、光ファイバ接続手順Ｓ１０４における光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光入射手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが地点ＰＸから地点ＰＹが光ファイバ１００ｂに切り替え接続された光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＲでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢが光ファイバ測定装置１１に入射される。
【００４６】
図１３に、光ファイバ接続手順Ｓ１０４におけるＯＴＤＲ測定波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定することで、地点ＰＸ及び地点ＰＹの接続状態を判定する。例えば、地点ＰＸ及び地点ＰＹの接続損失を読み取り、接続損失が予め定められた規定値以下であれば、正常な接続状態であると判定することができる。
【００４７】
また、光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定すると、地点ＰＲの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが光ファイバ１００ｂに接続されたか否かを判定することができる。
【００４８】
本発明により、支障移転工事において、通信設備ビル内の作業者と屋外の作業者との間の電話等により逐次作業進行を連絡し、複数作業箇所においてタイミングを合わせた作業を行う必要がなく、それぞれ別の作業を進めることが可能となることから、トータルの作業時間の短縮を図ることが可能となる。
【００４９】
なお、本実施形態では、心線対照用の変調光ＬＫを光ファイバ接続手順Ｓ１０４においても出力する形態について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、地点ＰＸでの光ファイバ１００ａの切断作業の完了を確認できた後に心線対照を行う必要がなければ、変調光源５４からの変調光ＬＫの出力を停止してもよい。これにより、変調光ＬＫが光ファイバ１００ａのコネクタ接続点や光ファイバ１００ａの遠端等で反射してＯＴＤＲ測定装置５３へ入射することがなくなるため、ＯＴＤＲ測定波形上に重畳するノイズを少なくすることができる。したがって、ＯＴＤＲ測定における測定精度を高めることができる。
【００５０】
（効果）
本発明に係る光ファイバ測定装置は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる。よって、通信設備ビル内では心線対照を行う際、心線対照とＯＴＤＲ測定を同じ光源を用いて同一波長で同時に行えるため、屋外で作業を行う支障移転先の担当者と電話等で連絡しながら、測定器を作業手順に準じて接続替えする必要がない。
【００５１】
また、支障移転工事は同時に２箇所以上で工事を行うこととなるが、地点ＰＸではＯＴＤＲ測定を、地点ＰＹでは心線対照を同時に行うことができることから、作業者を待たせる必要なく工事を進めることができる。
【００５２】
さらに、現地作業に応じて測定器を切り替える必要がないため、支障移転作業時は通信設備ビル内で作業者は屋外での切り替え作業を待つ必要がなく、ＯＴＤＲ装置及び心線対照用光源と２種類の測定器を準備する必要がない。
【符号の説明】
【００５３】
１１：光ファイバ測定装置
１２：光合分波器
１３：変調光受光器
１４：反射フィルタ
２１：光出力部
２２：受光部
２３：演算部
３３：パルス駆動回路
３４：パルス光発生部
３５：光スイッチ
３６：変調信号発生部
５１：ＯＬＴ
５２：ＯＮＵ
５３：ＯＴＤＲ測定装置
５４：変調光源
５６：光カプラ
５７：ＰＤ
５９：接続点
９１：通信設備ビル
１００ａ、１００ｂ：光ファイバ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバを特定する心線対照技術及び光ファイバを評価するＯＴＤＲ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｔｉｍｅ Ｄｏｍａｉｎ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒ）技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年光アクセスサービスの増加と光サービスエリアの拡大に伴い、光設備量が増加しており、道路工事等に伴うケーブルルートを変更する支障移転工事も増加している。支障移転工事では、屋外で移転先のケーブルを敷設後、移転元の光ファイバを特定し、当該心線の切断及び移転先の光ファイバと接続する心線切り替え作業を行い、正しく接続されたか試験を行う（例えば、非特許文献１を参照。）。
【０００３】
一方、光ファイバを特定するため心線対照技術が提案されている（例えば、非特許文献２参照。）。非特許文献２の心線対照技術では、図１４に示すように、通信設備ビル９１から、通信光ＬＳの波長より長波長側で変調した変調光ＬＫを光ファイバ１００に挿入する。通信設備ビル９１の屋外では、変調光ＬＫが漏洩する程度に光ファイバ１００を曲げ、漏洩光から変調光ＬＫの有無を判定する。これにより、光ファイバ１００の通信光ＬＳに影響を与えずに、変調光ＬＫを挿入した光ファイバ１００を特定する。また、変調光ＬＫは１６５０ｎｍ帯の波長で２７０Ｈｚ変調が使われることが多い。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】有居正仁、東裕司、榎本圭高、鈴木勝晶、荒木則幸、宇留野重則、渡邉常一、「拡大する光アクセス網を支える光媒体網運用技術」、ＮＴＴ技術ジャーナル、２００６年１２月号、ｐｐ．５８−６１
【非特許文献２】鈴木勝晶、山本素、夏目新、「Ｒ１５心線に対応した光ファイバ心線対照技術」、ＮＴＴ技術ジャーナル、２００７年４月号、ｐｐ．５４−５５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
支障移転工事等の光ケーブルの切り替え工事を実施する際には、心線対照による切り替え対象光ファイバの特定、対象光ファイバの切断、ＯＴＤＲ測定による切断確認、移転先光ファイバへの接続、ＯＴＤＲ測定による移転先光ファイバの接続確認といった作業手順となる。
【０００６】
図１５に、光ケーブルの切り替え工事を実施する際の設備構成を示す。通信設備ビル９１内には、光カプラ５６が設置されており、光カプラ５６のαポートにはＯＬＴ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｌｉｎｅ Ｔｅｒｍｉｎａｌ）５１が接続され、γポートには通信設備ビル９１から屋外へ敷設されている光ファイバ１００が接続されている。この図は、屋外の地点ＰＸと地点ＰＹの間の区間において光ファイバの心線を切り替える例であり、移転元の光ファイバが１００ａであり、移転先の光ファイバが１００ｂである。心線対照やＯＴＤＲ測定を行う際には、変調光源５４又はＯＴＤＲ測定装置５３のいずれか一つを測定内容に応じて選択し、光カプラ５６のβポートに接続して測定を行う。ここで通信に影響を与えることがないよう変調光源５４及びＯＴＤＲ測定装置５３ともに、通信光波長と異なる１６５０ｎｍ帯が使われる。光カプラ５６のβポートから光カプラ５６に入射された光は、αポートへ出射されずγポートのみに出射される。また、光ファイバ１００からγポートへ入射された光は、αポートとβポートの両方へ出射される。さらに、αポートからの入射された光は、βポートに出射されずにγポートへ出射される。そのため、ＯＬＴ５１からＯＮＵ５２までの通信線路を切断することなく心線対照やＯＴＤＲ測定を行うことができる。
【０００７】
しかし、図１５に示すように、光ファイバ１００に対して心線対照を行う際には、光ファイバ１００に変調光ＬＫを入射するための変調光源５４をβポートに接続し、また光ファイバ１００に対してＯＴＤＲ測定を行う際には、ＯＴＤＲ測定装置５３をβポートに接続する必要がある。
【０００８】
このように、心線対照とＯＴＤＲ測定については別々の機器を用いるため、通信設備ビル９１内の作業者は、屋外の作業者と電話等で連絡を取り合いながら、作業状況に応じて光カプラ５６のβポートに接続する機器を交換していた。このため、支障移転工事等の光ケーブルの切り替え工事を実施する際には、作業者が常に通信設備ビル９１内に待機している必要があった。
【０００９】
また、支障移転工事は屋外で同時に２以上の地点（例えば、地点ＰＸ及び地点ＰＹ）で作業を行うこととなる。そのため、例えば、地点ＰＸについてはＯＴＤＲ測定を、地点ＰＹでは心線対照を行いたい場合がある。このような場合には、通信設備ビル内のカプラ５６のβポートには一つの機器しか接続することができないため、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができず、どちらかの作業については待機する必要があった。このため、支障移転工事の作業時間が長くなるとともに、切り替えに伴うサービス断の時間が長時間化する課題も生じていた。
【００１０】
そこで、前記課題を解決するために、本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明に係る光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法は、一つの光源から発生させたパルス光を一定周期で変調させることにより、心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方の成分を具備する合波光を発生させることとした。
【００１２】
具体的には、本発明に係る光ファイバ測定装置は、所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する光出力部と、前記光出力部が生成した合波光を検査対象の光ファイバの一端に入射し、前記光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定する受光部と、を備える。
【００１３】
本光ファイバ測定装置は、所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する。このため、本光ファイバ測定装置は、一つの光源で心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方を発生させることができる。従って、本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置及び合波光生成方法を提供することができる。
【００１４】
本発明に係る光ファイバ測定装置の前記光出力部は、前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、前記パルス光の発生と停止を制御するパルス駆動回路と、を有することを特徴とする。本発明に係る合波光生成方法は、前記合波光を、前記パルス光を発生するパルス光発生回路を駆動して前記パルス光の発生と停止を制御して生成することを特徴とする。
【００１５】
本発明に係る光ファイバ測定装置の前記光出力部は、前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、前記パルス光の経路で前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返す光スイッチと、を有することを特徴とする。本発明に係る合波光生成方法は、前記合波光を、前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返して生成することを特徴とする。
【００１６】
具体的には、本発明に係る光ファイバ測定方法は、所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を複数の光ファイバのうちの１の特定光ファイバの一端に入射する合波光入射手順と、光ファイバの側面から漏れ出す前記変調周期の光を検出することで、複数の光ファイバのうち前記合波光入射手順で前記合波光を入射した前記特定光ファイバを特定する変調光検出手順と、前記特定光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定し、前記特定光ファイバで形成された光経路における損失を確認する損失測定手順と、を行う。
【００１７】
本光ファイバ測定方法では、心線対照光とＯＴＤＲ試験光の両方の成分を有する合波光を光ファイバに入射する。従って、本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定方法を提供することができる。
【００１８】
本発明に係る光ファイバ測定方法の前記損失測定手順は、前記戻り光の光強度から前記合波光がフレネル反射する位置の変動を確認し、前記特定光ファイバの光経路上で行われる光ファイバの切替作業をモニタすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる光ファイバ測定装置、光ファイバ測定方法、及び合波光生成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る光ファイバ測定装置を含むシステムを説明する図である。
【図２】（ａ）本発明に係る合波光生成方法で生成された合波光を説明する図である。（ｂ）合波光の一部を拡大して説明する図である。
【図３】本発明に係る光ファイバ測定装置が備える光出力部を説明する図である。
【図４】本発明に係る光ファイバ測定装置が備える光出力部を説明する図である。
【図５】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図６】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図７】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図８】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図９】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１０】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１１】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１２】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１３】本発明に係る光ファイバ測定方法を説明する図である。
【図１４】非特許文献２に記載される心線対照技術を説明する図である。
【図１５】光ケーブル切り替え工事を説明する図である。
【図１６】（ａ）パルス光を変調する変調周期を説明する図である。（ｂ）本発明に係る合波光生成方法で生成された合波光を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図面を参照して本発明の実施形態を説明する。なお、本明細書及び図面において符号が同じ構成要素は、相互に同一のものを示すものとする。
【００２２】
図１に、本実施形態に係る光ファイバ測定システムの構成の一例を示す。本実施形態に係る光ファイバ測定システムは、光ファイバ測定装置１１と、変調光受光器１３と、反射フィルタ１４と、を備える。
【００２３】
光ファイバ測定装置１１は、図２に示すパルス光ＬＰを変調光ＬＫの周期に変調し作成した合波光ＬＦを光ファイバ１００ａに出力する。図２を用いて、光出力部２１が発生する、パルス光ＬＰを変調光ＬＫの周期に変調し作成した合波光ＬＦの波形を説明する。ここで、（ａ）は、パルス光ＬＰの発光周期を変調し、変調光ＬＫの要素を含んだ合波光ＬＦを表し、（ｂ）は、合波光ＬＦの一部を拡大し、パルス光ＬＰを表す。両図とも、縦軸が光レベル、横軸が時間である。ＯＴＤＲ測定では、パルス幅には０．１〜１μｓがよく用いられ、パルス光ＬＰの周期は２００μｓ程度である。一方、図１６にあるように、変調光ＬＫの周期として２７０Ｈｚがよく用いられるが、その場合の１周期は３７００μｓとなり、１８５０μｓ毎に発光している期間と発光していない期間が繰り返される。パルス光ＬＰは、ＬＫの発光している期間である１８５０μｓで１０回程度、発光することとなる。ここで、図１６の（ａ）は、変調光ＬＫを表し、（ｂ）は、合波光ＬＦを表す。
【００２４】
パルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光する。光合分波器１２は、光出力部２１からの合波光ＬＦを光ファイバ１００ａに挿入するとともに、光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光部２２に分離する。変調光受光器１３は、光ファイバ１００ａの外被から漏洩する合波光ＬＦを受光する。この外被から漏洩した合波光ＬＦは、変調光ＬＫの要素を含んでいるため、変調光受光器１３は変調光ＬＫと同等と判断する。反射フィルタ１４は、光ファイバ１００ａのＯＮＵ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｎｅｔｗｏｒｋ Ｕｎｉｔ）側の端部に設置され、パルス光ＬＰを反射する。パルス光ＬＰが反射フィルタ１４まで到達する場合、反射フィルタ１４の反射光がフレネル反射による戻り光ＬＢとなる。
【００２５】
合波光ＬＦに変調光ＬＫの要素が含まれているため、変調光受光器１３を用いて心線対照を行うことができる。合波光ＬＦにパルス光ＬＰが含まれているため、光ファイバ測定装置１１で戻り光ＬＢを受光することでＯＴＤＲ測定を行うことができる。したがって、本実施形態に係る光ファイバ測定システムは、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同じ光出力部で同時に行うことができる。
【００２６】
光ファイバ測定装置１１は、光合分波器１２と、光出力部２１と、受光部２２と、演算部２３を備える。光出力部２１は、パルス光ＬＰの発光周期を変化させて変調光ＬＫを含めた合波光ＬＦを発生する。変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰの波長は同一であるが、通信光ＬＳとは異なる。
【００２７】
受光部２２は、光出力部２１の発生するパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射された戻り光ＬＢを受光する。受光部２２は、通常のＯＴＤＲ測定装置と同様に、パルス光ＬＰの出力する周期に合わせて受光する。演算部２３は、受光部２２の受光する戻り光ＬＢの光レベル及びパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａに出力されてから戻り光ＬＢを受光するまでの時間を測定する。これにより、光ファイバ測定装置１１は、ＯＴＤＲ測定を行う。
【００２８】
図３に、光出力部２１の第１例を示す。光出力部の第１例は、パルス光発生部３４と、パルス駆動回路３３を備える。パルス駆動回路３３がパルス光ＬＰをある一定間隔で発光させることで、変調光ＬＫを生成する。これにより、合波光ＬＦが出力される。
【００２９】
図４に、光出力部の第２例を示す。光出力部の第２例は、パルス駆動回路３３と、パルス光発生部３４と、光スイッチ３５、変調信号発生部３６を備える。パルス光発生部３４がパルス光ＬＰを発光し、変調信号発生部３６が光スイッチ３５をＯＮ／ＯＦＦさせることで変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰを合波した合波光ＬＦを発光することができる。
【００３０】
ＯＴＤＲ測定は、光出力部２１からパルス光ＬＰを出射し、光ファイバ１００ａ内で発生するレイリー散乱光を受光部２２で受光して観測して、光ファイバ１００ａのある区間での損失や接続点の損失を測定する。また、接続点における屈折率差からフレネル反射が生じ、接続点での反射量を観測することができる。受光部２２は、光ファイバ１００ａ内で発生したレイリー散乱光やフレネル反射光等の戻り光ＬＢを測定し、演算部２３は、戻り光ＬＢが戻ってくるまでの時間で距離を算出する。
【００３１】
一方、心線対照の際は、地点ＰＸ及び地点ＰＹで光ファイバ１００ａに曲げが加えられ、光ファイバ１００ａから漏洩した変調光ＬＫを変調光受光器１３で受信し、切断する予定の心線すなわち光ファイバ１００ａを特定する。変調光受光部１３には変調光を検出する回路が含まれており、複数のパルス光ＬＰを変調して作成された合波光ＬＦを変調光ＬＫとして検出することができる。
【００３２】
図５は、本実施形態に係る光ファイバの切り替え接続作業の一例を示すフローチャートである。本実施形態に係る光ファイバ測定方法は、合波光入射手順Ｓ１０１と、変調光検出手順Ｓ１０２と、光ファイバ切断手順Ｓ１０３と、光ファイバ接続手順Ｓ１０４を順に有する。
【００３３】
図５に示す合波光入射手順Ｓ１０１では、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた合波光ＬＦを、継続的に光ファイバ１００ａの一端に入力する。合波光ＬＦの出力は、変調光検出手順Ｓ１０２、光ファイバ切断手順Ｓ１０３及び光ファイバ接続手順Ｓ１０４にわたって、継続的に行う。
【００３４】
合波光ＬＦは、例えば、図３や図４に示す光出力部２１を用いて、変調光ＬＫ及びパルス光ＬＰが重ね合わされた波形を出力する。
【００３５】
図６に、合波光入射手順Ｓ１０１における光ファイバ測定システムの状態を示す。光ファイバ測定装置１１からパルス光ＬＰを変調光ＬＫの周期で変調された合波光ＬＦが測定対象の光ファイバ１００ａへ出射される。合波光ＬＦはパルス光ＬＰの要素を含んでいるため、ＯＮＵ５２の前段に設置された反射フィルタ１４（地点ＰＲ）で反射され、反射された戻り光ＬＢは光合分波器１２のγポートに入射される。γポートに入射された戻り光ＬＢは、βポートから出射され、光ファイバ測定装置１１に入射される。そして、光ファイバ測定装置１１が、合波光ＬＦの要素であるパルス光ＬＰ及び戻り光ＬＢを用いてＯＴＤＲ測定を行う。
【００３６】
図７に、合波光入射手順Ｓ１０１におけるＯＴＤＲ波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定することで、地点ＰＲの距離でフレネル反射が発生していることが確認できる。
【００３７】
図５に示す変調光検出手順Ｓ１０２では、光ファイバ１００ａの任意の位置で合波光ＬＦを受光する。例えば、屋外の地点ＰＸ及び地点ＰＹにおいて、光ファイバ１００ａを曲げて漏洩光のなかから合波光ＬＦを受光する。合波光ＬＦは変調光ＬＫの要素を含んでいるため、作業を行う目的の光ファイバ１００ａであるか、心線対照を行うことが可能である。
【００３８】
図５に示す光ファイバ切断手順Ｓ１０３では、変調光検出手順Ｓ１０２で変調光ＬＫを受光した光ファイバ１００ａを光ファイバ１００ａの途中の地点ＰＹで切断する。このとき、誤って他の光ファイバを切断しないように心線対照で変調光ＬＫを確認しつつ、光ファイバ１００ａを切断する。
【００３９】
図８に、光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光入射手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＹでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢが光ファイバ測定装置１１に入射される。
【００４０】
図９に、光ファイバ１００ａを地点ＰＹで切断したときのＯＴＤＲ測定波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定すると、地点ＰＹの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが地点ＰＹの距離で切断されたか否かを判定することができる。
【００４１】
図５に示す光ファイバ切断手順Ｓ１０３では、さらに、変調光検出手順Ｓ１０２で変調光ＬＫの要素を含んだ合波光ＬＦを受光した光ファイバ１００ａを光ファイバ１００ａの途中の地点ＰＸで切断する。このとき、誤って他の光ファイバを切断しないように心線対照で変調光ＬＫの要素を含んだ合波光ＬＦを確認しつつ、光ファイバ１００ａを切断する。
【００４２】
図１０に、光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときの光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光入射手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＸでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢが光ファイバ測定装置１１に入射される。
【００４３】
図１１に、光ファイバ１００ａを地点ＰＸで切断したときのＯＴＤＲ波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定すると、地点ＰＸの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが地点ＰＸの距離で切断されたか否かを判定することができる。
【００４４】
図５に示す光ファイバ接続手順Ｓ１０４では、光ファイバ切断手順Ｓ１０３で切断した光ファイバ１００ａのうちの光合分波器１２側の一端に近い光ファイバ１００ａを他の光ファイバ１００ｂに接続する。例えば、図１５にて説明すると、光ファイバ１００ａを地点ＰＸ及び地点ＰＹで切断した後に、Ａ区間の１００ａとＢ区間の１００ｂを先ず接続し、その後、Ｂ区間の１００ｂとＣ区間の１００ａを接続する。
【００４５】
図１２に、光ファイバ接続手順Ｓ１０４における光ファイバ測定システムの状態を示す。この状態で、合波光入射手順Ｓ１０１で出力した合波光ＬＦのうちのパルス光ＬＰが地点ＰＸから地点ＰＹが光ファイバ１００ｂに切り替え接続された光ファイバ１００ａで反射されて光ファイバ１００ａの一端に戻った戻り光ＬＢを受光する。パルス光ＬＰは、地点ＰＲでフレネル反射が発生し、反射された戻り光ＬＢが光ファイバ測定装置１１に入射される。
【００４６】
図１３に、光ファイバ接続手順Ｓ１０４におけるＯＴＤＲ測定波形の一例を示す。光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定することで、地点ＰＸ及び地点ＰＹの接続状態を判定する。例えば、地点ＰＸ及び地点ＰＹの接続損失を読み取り、接続損失が予め定められた規定値以下であれば、正常な接続状態であると判定することができる。
【００４７】
また、光ファイバ測定装置１１が戻り光ＬＢの光レベルを測定すると、地点ＰＲの距離でフレネル反射が発生し、断線波形が現れる。このフレネル反射を測定することで、光ファイバ１００ａが光ファイバ１００ｂに接続されたか否かを判定することができる。
【００４８】
本発明により、支障移転工事において、通信設備ビル内の作業者と屋外の作業者との間の電話等により逐次作業進行を連絡し、複数作業箇所においてタイミングを合わせた作業を行う必要がなく、それぞれ別の作業を進めることが可能となることから、トータルの作業時間の短縮を図ることが可能となる。
【００４９】
なお、本実施形態では、心線対照用の変調光ＬＫを光ファイバ接続手順Ｓ１０４においても出力する形態について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、地点ＰＸでの光ファイバ１００ａの切断作業の完了を確認できた後に心線対照を行う必要がなければ、変調光源５４からの変調光ＬＫの出力を停止してもよい。これにより、変調光ＬＫが光ファイバ１００ａのコネクタ接続点や光ファイバ１００ａの遠端等で反射してＯＴＤＲ測定装置５３へ入射することがなくなるため、ＯＴＤＲ測定波形上に重畳するノイズを少なくすることができる。したがって、ＯＴＤＲ測定における測定精度を高めることができる。
【００５０】
（効果）
本発明に係る光ファイバ測定装置は、ＯＴＤＲ測定と心線対照を同時に行うことができる。よって、通信設備ビル内では心線対照を行う際、心線対照とＯＴＤＲ測定を同じ光源を用いて同一波長で同時に行えるため、屋外で作業を行う支障移転先の担当者と電話等で連絡しながら、測定器を作業手順に準じて接続替えする必要がない。
【００５１】
また、支障移転工事は同時に２箇所以上で工事を行うこととなるが、地点ＰＸではＯＴＤＲ測定を、地点ＰＹでは心線対照を同時に行うことができることから、作業者を待たせる必要なく工事を進めることができる。
【００５２】
さらに、現地作業に応じて測定器を切り替える必要がないため、支障移転作業時は通信設備ビル内で作業者は屋外での切り替え作業を待つ必要がなく、ＯＴＤＲ装置及び心線対照用光源と２種類の測定器を準備する必要がない。
【符号の説明】
【００５３】
１１：光ファイバ測定装置
１２：光合分波器
１３：変調光受光器
１４：反射フィルタ
２１：光出力部
２２：受光部
２３：演算部
３３：パルス駆動回路
３４：パルス光発生部
３５：光スイッチ
３６：変調信号発生部
５１：ＯＬＴ
５２：ＯＮＵ
５３：ＯＴＤＲ測定装置
５４：変調光源
５６：光カプラ
５７：ＰＤ
５９：接続点
９１：通信設備ビル
１００ａ、１００ｂ：光ファイバ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する光出力部と、
前記光出力部が生成した合波光を検査対象の光ファイバの一端に入射し、前記光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定する受光部と、
を備える光ファイバ測定装置。
【請求項２】
前記光出力部は、
前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、
前記パルス光の発生と停止を制御するパルス駆動回路と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ測定装置。
【請求項３】
前記光出力部は、
前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、
前記パルス光の経路で前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返す光スイッチと、
を有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ測定装置。
【請求項４】
所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を複数の光ファイバのうちの１の特定光ファイバの一端に入射する合波光入射手順と、
光ファイバの側面から漏れ出す前記変調周期の光を検出することで、複数の光ファイバのうち前記合波光入射手順で前記合波光を入射した前記特定光ファイバを特定する変調光検出手順と、
前記特定光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定し、前記特定光ファイバで形成された光経路における損失を確認する損失測定手順と、
を行う光ファイバ測定方法。
【請求項５】
前記損失測定手順は、
前記戻り光の光強度から前記合波光がフレネル反射する位置の変動を確認し、前記特定光ファイバの光経路上で行われる光ファイバの切り替え作業をモニタすることを特徴とする請求項４に記載の光ファイバ測定方法。
【請求項６】
所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する合波光生成方法。
【請求項７】
前記合波光を、前記パルス光を発生するパルス光発生回路を駆動して前記パルス光の発生と停止を制御して生成することを特徴とする請求項６に記載の合波光生成方法。
【請求項８】
前記合波光を、前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返して生成することを特徴とする請求項６に記載の合波光生成方法。
【請求項１】
所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する光出力部と、
前記光出力部が生成した合波光を検査対象の光ファイバの一端に入射し、前記光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定する受光部と、
を備える光ファイバ測定装置。
【請求項２】
前記光出力部は、
前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、
前記パルス光の発生と停止を制御するパルス駆動回路と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ測定装置。
【請求項３】
前記光出力部は、
前記パルス光を発生するパルス光発生回路と、
前記パルス光の経路で前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返す光スイッチと、
を有することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ測定装置。
【請求項４】
所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を複数の光ファイバのうちの１の特定光ファイバの一端に入射する合波光入射手順と、
光ファイバの側面から漏れ出す前記変調周期の光を検出することで、複数の光ファイバのうち前記合波光入射手順で前記合波光を入射した前記特定光ファイバを特定する変調光検出手順と、
前記特定光ファイバの前記一端から出力する前記合波光に基づく戻り光の時間対光強度を測定し、前記特定光ファイバで形成された光経路における損失を確認する損失測定手順と、
を行う光ファイバ測定方法。
【請求項５】
前記損失測定手順は、
前記戻り光の光強度から前記合波光がフレネル反射する位置の変動を確認し、前記特定光ファイバの光経路上で行われる光ファイバの切り替え作業をモニタすることを特徴とする請求項４に記載の光ファイバ測定方法。
【請求項６】
所定周期のパルス列のパルス光を前記所定周期より長い変調周期で変調した合波光を生成する合波光生成方法。
【請求項７】
前記合波光を、前記パルス光を発生するパルス光発生回路を駆動して前記パルス光の発生と停止を制御して生成することを特徴とする請求項６に記載の合波光生成方法。
【請求項８】
前記合波光を、前記パルス光の前記パルス列の透過と遮断を繰り返して生成することを特徴とする請求項６に記載の合波光生成方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１２−１８９３８９（Ｐ２０１２−１８９３８９Ａ）
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５１９１７（Ｐ２０１１−５１９１７）
【出願日】平成２３年３月９日（２０１１．３．９）
【出願人】（０００００４２２６）日本電信電話株式会社 (13,992)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１０月４日（２０１２．１０．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月９日（２０１１．３．９）
【出願人】（０００００４２２６）日本電信電話株式会社 (13,992)
【Ｆターム（参考）】
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